[發(fā)明專利]基于透射成像的檢測方法和檢測裝置以及檢測系統(tǒng)在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202210172480.4 | 申請日: | 2022-02-24 |
| 公開(公告)號: | CN114563426A | 公開(公告)日: | 2022-05-31 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 趙中瑋;冉友明;吳劍鋒;劉晨 | 申請(專利權(quán))人: | 杭州睿影科技有限公司 |
| 主分類號: | G01N23/04 | 分類號: | G01N23/04;G01V5/00 |
| 代理公司: | 北京德琦知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11018 | 代理人: | 陳舒維;宋志強 |
| 地址: | 310051 浙江省杭州市*** | 國省代碼: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 基于 透射 成像 檢測 方法 裝置 以及 系統(tǒng) | ||
本申請?zhí)峁┝嘶谕干涑上竦臋z測方法和檢測裝置以及檢測系統(tǒng)。基于本申請,可以利用第一透射成像組件對待檢對象處于第一檢測位置的目標(biāo)部位透射成像,第一透射成像組件產(chǎn)生的第一透射成像數(shù)據(jù),可以用于調(diào)節(jié)第二透射成像組件所使用的透射成像參數(shù)配置集,并且,當(dāng)該目標(biāo)部位到達(dá)第二檢測位置時,第二透射成像組件可以基于透射成像參數(shù)配置集對該目標(biāo)部位透射成像,得到用于生成檢測圖像的第二透射成像數(shù)據(jù)。由于第二透射成像數(shù)據(jù)是基于與目標(biāo)透射部位相適配的透射成像參數(shù)配置集產(chǎn)生的,因而有助于由其表征的目標(biāo)部位的內(nèi)部構(gòu)造信息在檢測圖像中的呈現(xiàn)效果達(dá)到期望的清晰度和對比度等指標(biāo),從而有助于提高檢測圖像的成像質(zhì)量。
技術(shù)領(lǐng)域
本申請涉及檢測領(lǐng)域,特別涉及一種基于透射成像的檢測方法、一種基于透射成像的檢測裝置、以及一種基于透射成像的檢測系統(tǒng)。
背景技術(shù)
利用諸如X射線等透射射線對待檢對象透射成像,可以獲得待檢對象的內(nèi)部構(gòu)造信息。例如,在安檢領(lǐng)域,待檢對象可以為包裹或便攜箱包,通過透射成像可以檢測出包裹或便攜箱包內(nèi)部的危險物品或有害物品。再例如,在工業(yè)檢測領(lǐng)域,待檢測對象可以為食品或工業(yè)零部件,利用透射成像可以檢測出食品內(nèi)部的異物或工業(yè)零部件的結(jié)構(gòu)缺陷。
透射成像的成像質(zhì)量受透射成像參數(shù)的影響,若配置的透射成像參數(shù)不能使透射射線適當(dāng)?shù)卮┩复龣z對象后觸發(fā)合理的感應(yīng)成像,則,待檢對象的內(nèi)部構(gòu)造信息在檢測圖像中的呈現(xiàn)效果不能達(dá)到期望的清晰度和對比度等指標(biāo),導(dǎo)致檢測圖像的質(zhì)量不高。
因此,如何通過配置透射成像參數(shù),改善透射成像的成像質(zhì)量,成為現(xiàn)有技術(shù)中有待解決的技術(shù)問題。
發(fā)明內(nèi)容
有鑒于此,本申請的各實施例分別提供了一種基于透射成像的檢測方法、一種基于透射成像的檢測裝置、以及一種基于透射成像的檢測系統(tǒng),有助于改善透射成像的成像質(zhì)量。
在一個實施例中,提供了一種基于透射成像的檢測方法,包括:
獲取第一透射成像組件對待檢對象在第一檢測位置處的目標(biāo)部位透射成像得到的第一透射成像數(shù)據(jù),其中,所述第一檢測位置為所述目標(biāo)部位到達(dá)第二檢測位置之前的前置檢測位置;
基于所述第一透射成像數(shù)據(jù),為所述第二檢測位置對應(yīng)的第二透射成像組件確定與所述目標(biāo)部位相適配的透射成像參數(shù)配置集;
控制所述透射成像參數(shù)配置集在所述第二透射成像組件的配置生效,以使得所述第二透射成像組件響應(yīng)于所述目標(biāo)部位從所述第一檢測位置到達(dá)所述第二檢測位置,基于所述透射成像參數(shù)配置集對所述目標(biāo)部位透射成像,得到用于生成所述待檢對象的檢測圖像的第二透射成像數(shù)據(jù)。
可選地,所述基于所述第一透射成像數(shù)據(jù),為所述第二檢測位置對應(yīng)的第二透射成像組件確定與所述目標(biāo)部位相適配的透射成像參數(shù)配置集,包括:基于所述第一透射成像數(shù)據(jù),確定所述待檢對象在所述目標(biāo)部位的對象部位屬性;以及,基于所述對象部位屬性,確定所述透射成像參數(shù)配置集。
可選地,所述對象部位屬性包括部位衰減屬性和部位構(gòu)造屬性中的至少之一,其中,所述部位衰減屬性用于表征透射射線在所述目標(biāo)部位的衰減能力,并且,所述部位構(gòu)造屬性用于表征所述目標(biāo)部位物質(zhì)構(gòu)造;所述基于所述第一透射成像數(shù)據(jù),確定所述待檢對象在所述目標(biāo)部位的對象部位屬性,包括:基于所述第一透射成像數(shù)據(jù),確定所述第一透射成像組件產(chǎn)生的透射射線在所述目標(biāo)部位的部位衰減程度、所述目標(biāo)部位的等效原子序數(shù)、以及所述目標(biāo)部位的部位構(gòu)造拓?fù)渲械闹辽僦唬换谒霾课凰p程度、所述等效原子序數(shù)以及所述部位構(gòu)造拓?fù)渲械闹辽僦唬_定所述部位衰減屬性和所述部位構(gòu)造屬性中的至少之一。
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