[發明專利]基于透射成像的檢測方法和檢測裝置以及檢測系統

在審

• 申請號: 202210172480.4
• 申請日: 2022-02-24
• 公開（公告）號: CN114563426A
• 公開（公告）日: 2022-05-31
• 發明（設計）人: 趙中瑋;冉友明;吳劍鋒;劉晨
• 申請（專利權）人: 杭州睿影科技有限公司
• 主分類號: G01N23/04
• 分類號: G01N23/04;G01V5/00
• 代理公司: 北京德琦知識產權代理有限公司 11018
• 代理人: 陳舒維;宋志強

1.一種基于透射成像的檢測方法，其特征在于，所述檢測方法包括：

獲取第一透射成像組件對待檢對象在第一檢測位置處的目標部位透射成像得到的第一透射成像數據，其中，所述第一檢測位置為所述目標部位到達第二檢測位置之前的前置檢測位置；

基于所述第一透射成像數據，為所述第二檢測位置對應的第二透射成像組件確定與所述目標部位相適配的透射成像參數配置集；

控制所述透射成像參數配置集在所述第二透射成像組件的配置生效，以使得所述第二透射成像組件響應于所述目標部位從所述第一檢測位置到達所述第二檢測位置，基于所述透射成像參數配置集對所述目標部位透射成像，得到用于生成所述待檢對象的檢測圖像的第二透射成像數據。

2.根據權利要求1所述的檢測方法，其特征在于，所述基于所述第一透射成像數據，為所述第二檢測位置對應的第二透射成像組件確定與所述目標部位相適配的透射成像參數配置集，包括：

基于所述第一透射成像數據，確定所述待檢對象在所述目標部位的對象部位屬性；

基于所述對象部位屬性，確定所述透射成像參數配置集。

3.根據權利要求2所述的檢測方法，其特征在于，

所述對象部位屬性包括部位衰減屬性和部位構造屬性中的至少之一，其中，所述部位衰減屬性用于表征透射射線在所述目標部位的衰減能力，并且，所述部位構造屬性用于表征所述目標部位物質構造；

所述基于所述第一透射成像數據，確定所述待檢對象在所述目標部位的對象部位屬性，包括：

基于所述第一透射成像數據，確定所述第一透射成像組件產生的透射射線在所述目標部位的部位衰減程度、所述目標部位的等效原子序數、以及所述目標部位的部位構造拓撲中的至少之一；

基于所述部位衰減程度、所述等效原子序數以及所述部位構造拓撲中的至少之一，確定所述部位衰減屬性和所述部位構造屬性中的至少之一。

4.根據權利要求3所述的檢測方法，其特征在于，所述基于所述衰減程度、所述原子序數以及所述構造拓撲中的至少之一，確定所述部位衰減屬性和所述部位構造屬性中的至少之一，包括：

確定所述部位衰減程度所對應的部位等效穿透厚度，和/或，

確定所述等效原子序數的原子序數取值，和/或，

確定所述部位構造拓撲所對應的部位構造復雜程度，和/或，

確定所述等效原子序數所對應的部位物質種類數量；

其中，所述部位衰減屬性包括所述部位等效穿透厚度和所述原子序數取值中的至少之一；

并且，所述部位構造屬性包括所述部位構造復雜程度和所述部位物質種類數量中的至少之一。

5.根據權利要求2所述的檢測方法，其特征在于，

所述對象部位屬性包括部位衰減屬性，其中，所述部位衰減屬性用于表征透射射線在所述目標部位的衰減能力；

所述基于所述對象部位屬性，確定所述透射成像參數配置集，包括：確定與所述部位衰減屬性相適配的射線特性參數，其中，所述射線特性參數用于配置所述第二透射成像組件產生的透射射線的射線特性。

6.根據權利要求5所述的檢測方法，其特征在于，

所述部位衰減屬性包括所述目標部位的部位等效穿透厚度和原子序數取值中的至少之一；

所述確定與所述部位衰減屬性相適配的射線特性參數，包括：基于所述部位等效穿透厚度和所述原子序數取值，確定所述第二透射成像組件產生的透射射線的射線能譜和射線強度中的至少之一，其中，所述射線特性參數包括所述射線能譜和所述射線強度中的至少之一。

7.根據權利要求2所述的檢測方法，其特征在于，

所述對象部位屬性包括部位構造屬性，其中，所述部位構造屬性用于表征所述目標部位的物質構造；

所述基于所述對象部位屬性，確定所述透射成像參數配置集，包括：確定與所述部位構造屬性相適配的成像感應參數，其中，所述成像感應參數用于配置所述第二透射成像組件對透射射線的感應特性。