[發(fā)明專利]一種提高外延用襯底單晶氧沉淀析出缺陷系統(tǒng)及控制方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 202210165178.6
• 申請日: 2022-02-23
• 公開（公告）號: CN114438601B
• 公開（公告）日: 2023-04-28
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 馬成;王忠保;芮陽
• 申請（專利權(quán)）人: 杭州中欣晶圓半導(dǎo)體股份有限公司;寧夏中欣晶圓半導(dǎo)體科技有限公司
• 主分類號: C30B33/02
• 分類號: C30B33/02;C30B29/06;C30B33/00
• 代理公司: 杭州融方專利代理事務(wù)所(普通合伙) 33266
• 代理人: 沈相權(quán)

本發(fā)明公開了一種提高外延用襯底單晶氧沉淀析出缺陷系統(tǒng)及控制方法，提高缺陷系統(tǒng)包括隔離箱體，隔離箱體頂部的中間對稱設(shè)置有自動潤滑機(jī)構(gòu)，外殼的一側(cè)固定連接有第二電機(jī)，蝸桿的表面和第二電機(jī)的輸出端均固定套接有錐齒輪，套筒的內(nèi)腔固定套接有套環(huán)，套環(huán)的底部轉(zhuǎn)動套接有蝸輪，第二絲桿的頂部轉(zhuǎn)動套接有第三連接板，第三連接板的一端固定連接有伸縮板，伸縮板的表面固定連接有快中子輻照照射器，本發(fā)明涉及晶體技術(shù)領(lǐng)域。該提高外延用襯底單晶氧沉淀析出缺陷系統(tǒng)及控制方法，解決了需要人工將單晶放入到加熱爐和下料，以及正常的熱加工產(chǎn)生氧沉淀的二次缺陷無法縮短單晶氧沉淀二次缺陷生長時間的問題。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及晶體技術(shù)領(lǐng)域，具體為一種提高外延用襯底單晶氧沉淀析出缺陷系統(tǒng)及控制方法。

背景技術(shù)

單晶是指其內(nèi)部微粒有規(guī)律地排列在一個空間格子內(nèi)的晶體。其晶體結(jié)構(gòu)是連續(xù)的，或者可以說，在宏觀尺度范圍內(nèi)單晶不包含晶界。與單晶相對的，是眾多微晶組成的多晶。單晶材料是一種應(yīng)用日益廣泛的新材料，由單獨的一個晶體組成，其衍射花樣為規(guī)則的點陣。在自然界中，不理想的單晶可以非常巨大，由于微電子科學(xué)與技術(shù)的迅猛發(fā)展，作為基礎(chǔ)材料的硅單晶和晶片的質(zhì)量對半導(dǎo)體器件的生產(chǎn)成品率和性能穩(wěn)定性起著決定的作用。特別是隨著集成電路工藝的發(fā)展，對基礎(chǔ)材料的要求越來越高。氧是硅中的主要雜質(zhì)，是在晶體生長過程引入直拉硅中的（大約1400℃），在一般器件制造的溫度范圍（≤1200℃）以間隙態(tài)存在的氧處于過飽和狀態(tài)。氧雜質(zhì)在器件工藝的熱循環(huán)過程中由于固溶度的降低將形成氧沉淀，并可誘發(fā)層錯、位錯等二次缺陷。

傳統(tǒng)外延用襯底單晶氧沉淀的二次缺陷都是通過熱加工進(jìn)行產(chǎn)生的，但都需要人工將單晶放入到加熱爐和下料，其次正常的熱加工產(chǎn)生氧沉淀的二次缺陷需要一定生長周期時間，從而導(dǎo)致無法縮短單晶氧沉淀的二次缺陷生長時間。

發(fā)明內(nèi)容

（一）解決的技術(shù)問題

針對現(xiàn)有技術(shù)的不足，本發(fā)明提供了一種提高外延用襯底單晶氧沉淀析出缺陷系統(tǒng)及控制方法，解決了單晶氧沉淀的二次缺陷都是通過熱加工進(jìn)行產(chǎn)生的，但都需要人工將單晶放入到加熱爐和下料，其次正常的熱加工產(chǎn)生氧沉淀的二次缺陷需要一定生長周期時間，從而導(dǎo)致無法縮短單晶氧沉淀二次缺陷生長時間的問題。

（二）技術(shù)方案

為實現(xiàn)以上目的，本發(fā)明通過以下技術(shù)方案予以實現(xiàn)：一種提高外延用襯底單晶氧沉淀析出缺陷系統(tǒng)，包括加熱爐，所述加熱爐的側(cè)面固定設(shè)置有控制面板，所述加熱爐的內(nèi)腔設(shè)置有自動輸送機(jī)構(gòu)，所述自動輸送機(jī)構(gòu)的頂部設(shè)置有提高缺陷系統(tǒng)。

所述提高缺陷系統(tǒng)包括隔離箱體，所述隔離箱體的表面活動套接有外封門，所述隔離箱體頂部的中間對稱設(shè)置有自動潤滑機(jī)構(gòu)，所述隔離箱體的頂部分別固定連接有套筒和外殼，所述外殼的一側(cè)固定連接有第二電機(jī)，所述外殼的內(nèi)壁轉(zhuǎn)動套接有蝸桿，所述蝸桿的表面和第二電機(jī)的輸出端均固定套接有錐齒輪，所述套筒的內(nèi)腔固定套接有套環(huán)，所述套環(huán)的底部轉(zhuǎn)動套接有蝸輪，所述蝸輪和套筒的內(nèi)腔螺紋套接有第二絲桿，所述第二絲桿的頂部轉(zhuǎn)動套接有第三連接板，所述第三連接板的一端固定連接有伸縮板，所述伸縮板的表面固定連接有快中子輻照照射器。

所述自動潤滑機(jī)構(gòu)包括固定板，所述固定板的內(nèi)腔固定套接有固定套管，所述固定套管的內(nèi)腔滑動套接有滑動桿，所述固定板的表面轉(zhuǎn)動套接有轉(zhuǎn)動板，所述固定板的表面固定連接有第一連接板，所述轉(zhuǎn)動板和第一連接板相對的一面固定連接有第一彈簧，所述固定板的頂部固定連接有儲存盒，所述儲存盒的頂部活動套接有外蓋，所述儲存盒的表面固定連接有第二連接板，所述固定板的表面對稱固定連接有套塊，所述套塊的表面滑動套接有滑動板，所述滑動板的上端固定連接有齒輪條，所述第二連接板和滑動板相對的一面固定連接有第二彈簧，所述儲存盒的一側(cè)固定連通有連接管，所述連接管的內(nèi)腔通過轉(zhuǎn)動桿轉(zhuǎn)動套接有封堵板，且轉(zhuǎn)動桿的一端延伸至儲存盒的側(cè)面外，所述轉(zhuǎn)動桿的一端固定套接有齒輪。