[發(fā)明專利]基片處理裝置、研磨墊檢查裝置和研磨墊檢查方法

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202210161774.7
• 申請(qǐng)日: 2022-02-22
• 公開（公告）號(hào): CN115096888A
• 公開（公告）日: 2022-09-23
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 福永努
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 東京毅力科創(chuàng)株式會(huì)社
• 主分類號(hào): G01N21/88
• 分類號(hào): G01N21/88;G01J1/42;G01J3/50;G06T7/00;H01L21/304
• 代理公司: 北京尚誠(chéng)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11322
• 代理人: 龍淳;劉芃茜

1.一種基片處理裝置，其特征在于，包括：

對(duì)基片進(jìn)行研磨的研磨墊；

盒，其收納所述研磨墊的與所述基片接觸的研磨面；

拍攝部，其隔著所述盒對(duì)所述研磨墊的所述研磨面進(jìn)行拍攝；和

圖像處理部，其對(duì)由所述拍攝部拍攝到的圖像數(shù)據(jù)進(jìn)行處理，檢測(cè)所述研磨墊的劣化。

2.如權(quán)利要求1所述的基片處理裝置，其特征在于：

所述圖像處理部根據(jù)所述圖像數(shù)據(jù)的亮度的概率分布，檢測(cè)所述研磨面的磨損。

3.如權(quán)利要求1所述的基片處理裝置，其特征在于：

所述研磨墊的所述研磨面包含線狀的槽，

所述圖像處理部根據(jù)用所述圖像數(shù)據(jù)提取的所述槽的清晰度，檢測(cè)所述研磨面的磨損。

4.如權(quán)利要求1所述的基片處理裝置，其特征在于：

所述研磨墊包括形成所述研磨面的片和能夠粘貼所述片的基材，

所述圖像處理部根據(jù)所述圖像數(shù)據(jù)所包含的顏色數(shù)據(jù)，檢測(cè)所述片與所述基材的剝離。

5.如權(quán)利要求1所述的基片處理裝置，其特征在于：

包括對(duì)所述研磨墊的所述研磨面照射光的照明部。

6.如權(quán)利要求5所述的基片處理裝置，其特征在于：

包括使所述照明部沿著所述拍攝部的光軸移動(dòng)的照明移動(dòng)部。

7.如權(quán)利要求5所述的基片處理裝置，其特征在于：

所述照明部沿著所述拍攝部的光軸隔開間隔地設(shè)置有多個(gè)，

所述基片處理裝置包括使多個(gè)所述照明部單獨(dú)地工作的照明控制部。

8.如權(quán)利要求5所述的基片處理裝置，其特征在于：

所述照明部以包圍所述拍攝部的光軸的方式形成為環(huán)狀。

9.如權(quán)利要求1所述的基片處理裝置，其特征在于：

所述盒具有與所述研磨墊的所述研磨面相對(duì)的透明壁，

所述拍攝部隔著所述盒的所述透明壁對(duì)所述研磨墊的所述研磨面進(jìn)行拍攝。

10.如權(quán)利要求9所述的基片處理裝置，其特征在于：

所述盒是積存清洗所述研磨墊的所述研磨面的清洗液的液盆，

所述透明壁是所述液盆的底壁。

11.如權(quán)利要求10所述的基片處理裝置，其特征在于：

所述拍攝部在所述液盆積存有清洗液的狀態(tài)下對(duì)所述研磨墊的所述研磨面進(jìn)行拍攝。

12.如權(quán)利要求10所述的基片處理裝置，其特征在于，包括：

對(duì)所述液盆的內(nèi)部供給所述清洗液的供給管；和

從所述液盆的內(nèi)部排出所述清洗液的排出管。

13.如權(quán)利要求1～12中任一項(xiàng)所述的基片處理裝置，其特征在于：

包括對(duì)所述盒的內(nèi)部供給氣體的噴嘴。

14.一種研磨墊檢查裝置，其特征在于，包括：

拍攝部，其對(duì)研磨基片的研磨墊的與所述基片接觸的研磨面，隔著收納所述研磨墊的所述研磨面的盒進(jìn)行拍攝；和

圖像處理部，其對(duì)由所述拍攝部拍攝到的圖像數(shù)據(jù)進(jìn)行處理，檢測(cè)所述研磨墊的劣化。

15.一種研磨墊檢查方法，其特征在于，包括：

對(duì)研磨基片的研磨墊的與所述基片接觸的研磨面，隔著收納所述研磨墊的所述研磨面的盒進(jìn)行拍攝的步驟；和

對(duì)所述拍攝到的圖像數(shù)據(jù)進(jìn)行處理，檢測(cè)所述研磨墊的劣化的步驟。