[發明專利]一種集成電路版圖電流密度超標區域優化方法及系統有效
| 申請號： | 202210161463.0 | 申請日： | 2022-02-22 |
| 公開（公告）號： | CN114357941B | 公開（公告）日： | 2022-09-23 |
| 發明（設計）人： | 王芬 | 申請（專利權）人： | 北京智芯仿真科技有限公司 |
| 主分類號： | G06F30/398 | 分類號： | G06F30/398;G06F30/392;G06F30/23;G06F115/12 |
| 代理公司： | 北京星通盈泰知識產權代理有限公司 11952 | 代理人： | 李筱 |
| 地址： | 100084 北京市*** | 國省代碼： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 集成電路 版圖 電流密度 超標 區域 優化 方法 系統 | ||
1.一種集成電路版圖電流密度超標區域優化方法，其特征在于，包括以下步驟：
步驟S1：計算每層集成電路版圖中網格剖分單元的電流密度，通過標定電流密度超標區域，判斷是否有電流密度超標區域；
若有電流密度超標區域，轉入步驟S2；
若沒有電流密度超標區域，轉入步驟S10；
步驟S2：根據電流密度超標區域的分布規律定義兩類電流密度超標區域，并判斷所述電流密度超標區域屬于哪類超標區域；
若判斷所述電流密度超標區域為第一類超標區域，轉入步驟S3；
若判斷所述電流密度超標區域為第二類超標區域，轉入步驟S8；
第一類超標區域為集成電路版圖中包含一個完整多邊形的區域，所述區域內所有網格剖分單元的電流密度超標；
第二類超標區域為集成電路版圖中包含一個多邊形內的局部區域，在所述多邊形內只有這個局部區域的網格剖分單元的電流密度超標；
步驟S3：確定第一類超標區域的電位最高點A和電位最低點B，計算第一類超標區域的電流密度平均值；
步驟S4：根據第一類超標區域的電流密度平均值與電流密度允許最大值的比值，在當前層增大第一類超標區域的面積；
步驟S5：更新第一類超標區域的電流密度平均值，判斷所述第一類超標區域的面積是否增大成功，若判斷增大成功，轉入步驟S9，否則，轉入步驟S6；
步驟S6：設置Stotal=Snew，判斷A，B對應的投影之間是否存在有多余空間的層，如果存在所述有多余空間的層，轉入步驟S7，否則，轉入步驟S10；所述Stotal為第一類超標區域增大后的總面積，Snew為步驟S4實現的第一類超標區域增大后的面積；
步驟S7：增加連通超標區域到當前層的過孔VA, VB，在所述有多余空間的層增加能連通過孔VA, VB的覆銅多邊形，獲得更新的Stotal，轉入步驟S5；
步驟S8：將距離電流密度最大值最近的過孔定義為過孔V，在所述過孔V周圍均勻布置新的過孔；
步驟S9：獲得新的電路版圖設計模型，轉到步驟S1；
步驟S10：結束優化。
2.根據權利要求1所述的集成電路版圖電流密度超標區域優化方法，其特征在于，所述計算第一類超標區域的電流密度平均值的公式為：
式中，Se為網格剖分單元e的面積，Je為網格剖分單元e的電流密度，為電流密度平均值，表示求和。
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