[發明專利]基于宏透鏡陣列的集成成像系統橫向位置誤差校正方法

在審

• 申請號: 202210143691.5
• 申請日: 2022-02-17
• 公開（公告）號: CN114513654A
• 公開（公告）日: 2022-05-17
• 發明（設計）人: 藺敏;毛巖
• 申請（專利權）人: 中國人民解放軍陸軍裝甲兵學院
• 主分類號: H04N17/00
• 分類號: H04N17/00;G02B3/00;G01M11/02
• 代理公司: 北京方圓嘉禾知識產權代理有限公司 11385
• 代理人: 王月松

本發明涉及一種基于宏透鏡陣列的集成成像系統橫向位置誤差校正方法。還方法包括獲取LCD平面上的點發出的光錐經過宏透鏡陣列后在中心深度平面的匯聚點的位置以及標準匯聚點的位置；所述標準匯聚點為LCD平面上的點發出的光錐經過宏透鏡陣列后在中心深度平面上均匯聚一點；根據每一匯聚點的位置與標準匯聚點的位置的距離的平均值和對應的方差度量宏透鏡陣列橫向位置誤差，確定度量結果；判斷所述度量結果是否超過閾值；若超過閾值，則測量軸向位置誤差和測量宏透鏡陣列橫向位置誤差，進而根據軸向位置誤差和宏透鏡陣列橫向位置誤差進行校正；若未超過閾值，則進行集成成像。本發明能夠降低工作量，并提高集成成像的顯示效果。

技術領域

本發明涉及集成成像領域，特別是涉及一種基于宏透鏡陣列的集成成像系統橫向位置誤差校正方法。

背景技術

隨著研究的不斷發展，越來越多的研究人員開始在大幅面集成成像系統中使用宏透鏡陣列。宏透鏡陣列一般是通過機械方式，內嵌在硬質基板上，其優點是成本低、制作工藝成熟，可以實現大幅面、寬視場角的集成成像顯示，不足是安裝或使用造成的位置誤差較大。因此，為獲得更好的顯示效果，需要對宏透鏡陣列的位置誤差進行度量與校正。

而現有技術中存在工作量大、精度不高的問題，因此為解決上述問題，提出一種對宏透鏡陣列的位置誤差進行校正的方法。

發明內容

本發明的目的是提供一種基于宏透鏡陣列的集成成像系統橫向位置誤差校正方法，能夠降低工作量，并提高集成成像的顯示效果。

為實現上述目的，本發明提供了如下方案：

一種基于宏透鏡陣列的集成成像系統橫向位置誤差校正方法，包括：

獲取LCD平面上的點發出的光錐經過宏透鏡陣列后在中心深度平面的匯聚點的位置以及標準匯聚點的位置；所述標準匯聚點為LCD平面上的點發出的光錐經過宏透鏡陣列后在中心深度平面上均匯聚一點；

根據每一匯聚點的位置與標準匯聚點的位置的距離的平均值和對應的方差度量宏透鏡陣列橫向位置誤差，確定度量結果；所述度量結果用于表征宏透鏡陣列橫向位置誤差的大小；

判斷所述度量結果是否超過閾值；

若超過閾值，則測量軸向位置誤差和測量宏透鏡陣列橫向位置誤差，進而根據軸向位置誤差和宏透鏡陣列橫向位置誤差進行校正；

若未超過閾值，則進行集成成像。

可選地，所述根據每一匯聚點的位置與標準匯聚點的位置的距離的平均值和對應的方差度量宏透鏡陣列橫向位置誤差，確定度量結果，具體包括：

利用公式確定每一匯聚點的位置與標準匯聚點的位置的距離的平均值；

利用公式確定每一匯聚點的位置與標準匯聚點的位置的距離的平均值對應的方差；

其中，d_avg為每一匯聚點的位置與標準匯聚點的位置的距離的平均值，d_var為每一匯聚點的位置與標準匯聚點的位置的距離的平均值對應的方差，n為匯聚點的個數，d_n為第n個匯聚點的位置與標準匯聚點的位置的距離。

可選地，所述若超過閾值，則測量軸向位置誤差和測量宏透鏡陣列橫向位置誤差，進而根據軸向位置誤差和宏透鏡陣列橫向位置誤差進行校正，具體包括：

通過調整全息功能屏的位置來測量軸向位置誤差；

通過像的位置變化測量宏透鏡陣列橫向位置誤差。

可選地，所述若超過閾值，則測量軸向位置誤差和測量宏透鏡陣列橫向位置誤差，進而根據軸向位置誤差和宏透鏡陣列橫向位置誤差進行校正，具體還包括：

利用公式確定透鏡橫向位置；