[發明專利]基于宏透鏡陣列的集成成像系統橫向位置誤差校正方法

在審

• 申請號: 202210143691.5
• 申請日: 2022-02-17
• 公開（公告）號: CN114513654A
• 公開（公告）日: 2022-05-17
• 發明（設計）人: 藺敏;毛巖
• 申請（專利權）人: 中國人民解放軍陸軍裝甲兵學院
• 主分類號: H04N17/00
• 分類號: H04N17/00;G02B3/00;G01M11/02
• 代理公司: 北京方圓嘉禾知識產權代理有限公司 11385
• 代理人: 王月松

1.一種基于宏透鏡陣列的集成成像系統橫向位置誤差校正方法，其特征在于，包括：

獲取LCD平面上的點發出的光錐經過宏透鏡陣列后在中心深度平面的匯聚點的位置以及標準匯聚點的位置；所述標準匯聚點為LCD平面上的點發出的光錐經過宏透鏡陣列后在中心深度平面上均匯聚一點；

根據每一匯聚點的位置與標準匯聚點的位置的距離的平均值和對應的方差度量宏透鏡陣列橫向位置誤差，確定度量結果；所述度量結果用于表征宏透鏡陣列橫向位置誤差的大小；

判斷所述度量結果是否超過閾值；

若超過閾值，則測量軸向位置誤差和測量宏透鏡陣列橫向位置誤差，進而根據軸向位置誤差和宏透鏡陣列橫向位置誤差進行校正；

若未超過閾值，則進行集成成像。

2.根據權利要求1所述的一種基于宏透鏡陣列的集成成像系統橫向位置誤差校正方法，其特征在于，所述根據每一匯聚點的位置與標準匯聚點的位置的距離的平均值和對應的方差度量宏透鏡陣列橫向位置誤差，確定度量結果，具體包括：

利用公式確定每一匯聚點的位置與標準匯聚點的位置的距離的平均值；

利用公式確定每一匯聚點的位置與標準匯聚點的位置的距離的平均值對應的方差；

其中，d_avg為每一匯聚點的位置與標準匯聚點的位置的距離的平均值，d_var為每一匯聚點的位置與標準匯聚點的位置的距離的平均值對應的方差，n為匯聚點的個數，d_n為第n個匯聚點的位置與標準匯聚點的位置的距離。

3.根據權利要求1所述的一種基于宏透鏡陣列的集成成像系統橫向位置誤差校正方法，其特征在于，所述若超過閾值，則測量軸向位置誤差和測量宏透鏡陣列橫向位置誤差，進而根據軸向位置誤差和宏透鏡陣列橫向位置誤差進行校正，具體包括：

通過調整全息功能屏的位置來測量軸向位置誤差；

通過像的位置變化測量宏透鏡陣列橫向位置誤差。

4.根據權利要求1所述的一種基于宏透鏡陣列的集成成像系統橫向位置誤差校正方法，其特征在于，所述若超過閾值，則測量軸向位置誤差和測量宏透鏡陣列橫向位置誤差，進而根據軸向位置誤差和宏透鏡陣列橫向位置誤差進行校正，具體還包括：

利用公式確定透鏡橫向位置；

其中，d為透鏡橫向位置，l₁和l₂為全息功能屏位置1和位置2的軸向距離，g為宏透鏡陣列與LCD顯示屏的軸向距離，Δs_bottom為底部像素的橫向位置變化。

5.根據權利要求4所述的一種基于宏透鏡陣列的集成成像系統橫向位置誤差校正方法，其特征在于，所述若超過閾值，則測量軸向位置誤差和測量宏透鏡陣列橫向位置誤差，進而根據軸向位置誤差和宏透鏡陣列橫向位置誤差進行校正，具體還包括：

通過重排對應的基元圖像像素點位置的方式對宏透鏡陣列橫向位置誤差進行校正。

6.根據權利要求5所述的一種基于宏透鏡陣列的集成成像系統橫向位置誤差校正方法，其特征在于，所述通過重排對應的基元圖像像素點位置的方式對宏透鏡陣列橫向位置誤差進行校正，具體包括以下公式：

其中，x_correct為經過校正后的橫向坐標，x_ideal為理想情況下對應的像素橫向坐標，z_R為標準匯聚點的軸向距離。