[發(fā)明專利]發(fā)光二極管在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202210138792.3 | 申請(qǐng)日: | 2022-02-15 |
| 公開(公告)號(hào): | CN114551678A | 公開(公告)日: | 2022-05-27 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 夏宏偉;馬全揚(yáng);王繪凝;林雅雯;張平;林素慧;楊人龍;張中英 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 廈門三安光電有限公司 |
| 主分類號(hào): | H01L33/38 | 分類號(hào): | H01L33/38;H01L33/40;H01L33/44 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 361100 福建省廈門市*** | 國(guó)省代碼: | 福建;35 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 發(fā)光二極管 | ||
本申請(qǐng)公開的發(fā)光二極管包括:半導(dǎo)體疊層,包括依次堆疊的第一半導(dǎo)體層、第二半導(dǎo)體層以及位于兩者之間的有源層;第一電極和第二電極,分別形成于所述第一半導(dǎo)體層或所述第二半導(dǎo)體層上,所述第一電極和第二電極具有與所述第一半導(dǎo)體層或所述第二半導(dǎo)體層接觸的第一表面、與所述第一表面相對(duì)的第二表面以及連接所述第一表面和所述第二表面之間的側(cè)面;絕緣層,包括形成于所述第一電極或第二電極的所述第二表面和所述側(cè)面上,所述絕緣層具有多個(gè)裸露出所述第一電極或第二電極部分所述第二表面的第一開口;保護(hù)電極,通過所述第一開口與所述第一電極或第二電極的所述第二表面接觸,并覆蓋形成于所述第一電極或第二電極所述側(cè)面的所述絕緣層上。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及半導(dǎo)體技術(shù)領(lǐng)域,特別涉及一種發(fā)光二極管。
背景技術(shù)
發(fā)光二極管(英文:Light Emitting Diode,簡(jiǎn)稱:LED)是一種利用載流子復(fù)合時(shí)釋放能量形成發(fā)光的半導(dǎo)體器件,LED發(fā)光二極管具有耗電低、色度純、壽命長(zhǎng)、體積小、響應(yīng)時(shí)間快、節(jié)能環(huán)保等諸多優(yōu)勢(shì),被廣泛應(yīng)用于照明、可見光通信及發(fā)光顯示等場(chǎng)景。
在發(fā)光二極管結(jié)構(gòu)中,一般以二氧化硅(SiO2)作為表面絕緣層,但絕緣層不具有很高的致密性,且在金屬上的黏附性較差。在應(yīng)用過程中會(huì)有水汽、電解質(zhì)侵入,長(zhǎng)期會(huì)導(dǎo)致絕緣層在電極上發(fā)生脫落,造成對(duì)金屬電極覆蓋的惡化,進(jìn)一步金屬原子失去絕緣層的阻擋保護(hù)效果,在電場(chǎng)作用下極易發(fā)生遷移,其遷移方向?yàn)镻電極遷移至N電極,即與電場(chǎng)方向一致,如圖1所示為常見的金屬遷移現(xiàn)象,金屬電極中較為活潑的Cr、Al甚至比重最多的Au都會(huì)發(fā)生遷移。遷移持續(xù)發(fā)生極易導(dǎo)致量子阱邊緣發(fā)生漏電甚至造成發(fā)光二極管短路,進(jìn)一步Cr、Al遷移的加劇導(dǎo)致電極脫落。因此,如何防止絕緣層從電極上脫落極為重要。
發(fā)明內(nèi)容
根據(jù)本申請(qǐng)公開的一實(shí)施例的發(fā)光二極管包括:半導(dǎo)體疊層,包括依次堆疊的第一半導(dǎo)體層、第二半導(dǎo)體層以及位于兩者之間的有源層;第一電極和第二電極,分別形成于所述第一半導(dǎo)體層或所述第二半導(dǎo)體層上,所述第一電極和第二電極具有與所述第一半導(dǎo)體層或所述第二半導(dǎo)體層接觸的第一表面、與所述第一表面相對(duì)的第二表面以及連接所述第一表面和所述第二表面之間的側(cè)面;絕緣層,包括形成于所述第一電極或第二電極的所述第二表面和所述側(cè)面上,所述絕緣層具有多個(gè)裸露出所述第一電極或第二電極部分所述第二表面的第一開口;保護(hù)電極,通過所述第一開口與所述第一電極或第二電極的所述第二表面接觸,并覆蓋形成于所述第一電極或第二電極所述側(cè)面的所述絕緣層上。
附圖說明
為了更清楚地說明本申請(qǐng)實(shí)施例的技術(shù)方案,下面將對(duì)實(shí)施例中所需要使用的附圖作簡(jiǎn)單地介紹,應(yīng)當(dāng)理解,以下附圖僅示出了本申請(qǐng)的某些實(shí)施例,因此不應(yīng)被看作是對(duì)范圍的限定,對(duì)于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講,在不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提下,還可以根據(jù)這些附圖獲得其他相關(guān)的附圖。
圖1為現(xiàn)有產(chǎn)品SEM圖;
圖2為本發(fā)明中發(fā)光二極管一實(shí)施例的剖面示意圖;
圖3為圖2局部A放大示意圖;
圖4為本發(fā)明中發(fā)光二極管另一實(shí)施例的剖面示意圖;
圖5為本發(fā)明中發(fā)光二極管另一實(shí)施例的剖面示意圖。
附圖標(biāo)記:
110 襯底;120 半導(dǎo)體疊層;121第一半導(dǎo)體層;122 有源層;123 第二半導(dǎo)體層;130 電流擴(kuò)展層;141 第一電極;142 第二電極;141a、142a 第一金屬層;141b、142b 第二金屬層;141c、142c 第三金屬層;141d、142d 第四金屬層;150 絕緣層;160 保護(hù)電極;161第一層;162 第二層;160a 第一部分;160b 第二部分;OP1 第一開口;S1 第一表面;S2 第二表面;S3側(cè)面。
具體實(shí)施方式
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于廈門三安光電有限公司,未經(jīng)廈門三安光電有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
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