[發明專利]一種磁控濺射真空鍍膜機

在審

• 申請號: 202210120726.3
• 申請日: 2022-02-09
• 公開（公告）號: CN114635110A
• 公開（公告）日: 2022-06-17
• 發明（設計）人: 謝學東
• 申請（專利權）人: 丹陽市寶來利真空機電有限公司
• 主分類號: C23C14/35
• 分類號: C23C14/35;C23C14/02;C23C14/50;C23C14/56
• 代理公司: 鹽城市蘇知橋知識產權代理事務所(普通合伙) 32439
• 代理人: 田煒娜

本發明公開了一種磁控濺射真空鍍膜機，包括箱式鍍膜機室，固定連接在鍍膜機底部的底座，還有鉸鏈連接的鍍膜機室門，鍍膜機右側位置固定連接有閉門器，閉門器壓緊室門，所述磁控濺射真空鍍膜機還包括：靶材濺射機構包括若干磁控靶，磁控靶包括安裝在鍍膜機上的靶材和旋轉陰極，磁控靶設置為若干組，所述鍍膜機室中心設置兩組磁控靶，所述鍍膜機室內部側邊對稱設置兩組磁控靶。通過本發明設計的一種磁控濺射真空鍍膜機，采用真空濺射鍍膜原理對物件進行鍍膜，鍍膜均勻，同時鍍膜工作效率高，并且真空抽取速度較快，室內壓強穩定，使用安全便捷，在鍍膜技術領域有可利用價值。

技術領域

本發明涉及鍍膜技術領域，具體為磁控濺射真空鍍膜機。

背景技術

磁磁控濺射真空鍍膜機用于各種單層膜、多層膜和摻雜膜系，可鍍各種硬質膜、金屬膜、合金、化合物、半導體、陶瓷膜、介質復合膜和其他化學反應膜，亦可鍍鐵磁材料，主要用于實驗室制備有機光電器件的金屬電極及介電層，以及制備用于生長納米材料的催化劑薄膜層。現有的磁控濺射真空鍍膜機，鍍膜不夠均勻，同時鍍膜效率緩慢，無法高效的完成鍍膜工作，同時真空抽取也比較緩慢，影響鍍膜工作，使用不夠便利。

發明內容

為解決上述背景技術中提出的問題，本發明的目的在于提供一種磁控濺射真空鍍膜機。

本發明提供如下技術方案：包括鍍膜機室，以及固定連接在鍍膜機箱底部的底座，還有鉸鏈方式連接在鍍膜機室側的室門，鍍膜機室的右側位置固定連接有閉門器，閉門器用于閉合室門，所述磁控濺射真空鍍膜機還包括：

靶材濺射機構，用于鍍膜靶材的濺射，所述靶材濺射機構包括若干磁控靶，磁控靶包括由真空鍍膜機頂部安裝延伸到鍍膜機室及室門內部的旋轉陰極和靶材；磁控靶設置為若干組，所述鍍膜機室中心設置兩組磁控靶，所述鍍膜機室內部側邊對稱設置兩組磁控靶，所述室門內側設置一組磁控靶；以及

物件裝持機構，設在鍍膜機箱底部，用于鍍膜物件的裝持，所述物件裝持機構包括轉動連接在鍍膜機箱底部的工件底架，工件底架的轉動部位設有傳動組件，用于控制工件底架轉動，所述工件底架的頂部外緣邊設置若干物件轉架，物件轉架設有自轉組件，用于控制物件轉架繞自身軸線轉動；以及

真空抽取機構，連通設在鍍膜機遠離室門的一側，用于對鍍膜機內部進行抽真空處理。

作為本發明優選的，所述傳動組件包括驅動件，驅動件為電機，驅動件固定設在鍍膜機外側底部，驅動件的輸出端和工件轉架的轉動部位底端均固定設有皮帶輪，兩個所述皮帶輪之間設置同步帶。

作為本發明優選的，所述自轉組件包括固定連接在鍍膜機底部的中心齒輪，中心齒輪中心穿過工件底架的轉動部位，中心齒輪的外緣嚙合連接若干成圓周分布的齒輪，單個所述齒輪的頂面固定連接物件轉架的底端，物件轉架底部轉動連接工件底架。

作為本發明優選的，所述真空抽取機構包括貫通連接在鍍膜機室側壁上的MV主抽閥，MV主抽閥頂部設置有VV進氣閥和SRV防湍閥，MV主抽閥底部設置分子泵，分子泵固定連接在底座上，所述MV主抽閥遠離鍍膜機室的另一端設有彎管，彎管管道連接在主抽氣管路上，主抽氣管頂部設置有RV粗抽閥，所述主抽氣管靠近鍍膜機室的一端端部設置有波紋管，波紋管的另一端管道連接SRV防湍閥，所述主抽氣管底部連接有HV高抽閥，所述主抽氣管遠離鍍膜機室的一端端部管道連接MP羅茨泵，MP羅茨泵底部管道連接RP機械泵，MP羅茨泵固定連接在RP機械泵上部。

作為本發明優選的，所述鍍膜機連接有深冷設備和穩壓設備，深冷設備為單級蒸汽壓縮制冷機，用于鍍膜機箱內部的深冷處理，穩壓設備用于穩定鍍膜機的電壓，所述靶材濺射機構、物件裝持機構和真空抽取機構中的電器元件電性連接電控柜。

作為本發明優選的，所述底座底部、RP機械泵底部、深冷設備底部、電控柜底部和穩壓設備底部均設置有若干移動輪，移動輪為帶有剎車的萬向輪。

作為本發明優選的，所述鍍膜機箱內部側壁設有若干清洗靶，用于對鍍膜物件的鍍前表面清洗。