[發明專利]一種磁控濺射真空鍍膜機

在審

• 申請號: 202210120726.3
• 申請日: 2022-02-09
• 公開（公告）號: CN114635110A
• 公開（公告）日: 2022-06-17
• 發明（設計）人: 謝學東
• 申請（專利權）人: 丹陽市寶來利真空機電有限公司
• 主分類號: C23C14/35
• 分類號: C23C14/35;C23C14/02;C23C14/50;C23C14/56
• 代理公司: 鹽城市蘇知橋知識產權代理事務所(普通合伙) 32439
• 代理人: 田煒娜

1.一種磁控濺射真空鍍膜機，包括，所述包括鍍膜機室(10)，以及固定連接在鍍膜機室(10)底部的底座(3)，還有鉸鏈方式連接在鍍膜機室(10)側的室門(9)，鍍膜機室(10)的右側位置固定連接有閉門器(9a)，通過閉門器(9a)閉合室門(9)，其特征在于：所述磁控濺射真空鍍膜機還包括：

靶材濺射機構，用于鍍膜靶材的濺射，所述靶材濺射機構包括若干磁控靶(11)，磁控靶(11)包括由真空鍍膜機頂部安裝延伸到鍍膜機室(10)及室門(9)內部的旋轉陰極和靶材，磁控靶(11)設置為若干組，所述鍍膜機室(10)中心設置兩組，所述鍍膜機室(10)內部側邊對稱設置兩組，所述室門(9)內側設置一組；以及

物件裝持機構，設在鍍膜機室(10)底部，用于鍍膜物件的裝持，所述物件裝持機構包括轉動連接在鍍膜機室(10)底部的工件底架(6)，工件底架(6)的轉動部位設有傳動組件(5)，用于控制工件底架(6)轉動，所述工件底架(6)的頂部外緣邊設置若干物件轉架(8)，物件轉架(8)設有自轉組件，用于控制物件轉架(8)繞自身軸線轉動；以及

真空抽取機構，連接設在鍍膜機室(10)遠離室門(9)的一側，用于對鍍膜機室(10)內部進行抽真空處理。

2.根據權利要求1所述的一種磁控濺射真空鍍膜機，其特征在于：所述傳動組件(5)包括驅動件，驅動件為電機，驅動件固定設在鍍膜機室(10)外側底部，驅動件的輸出端和工件轉架的轉動部位底端均固定設有皮帶輪，兩個所述皮帶輪之間設置同步帶。

3.根據權利要求1或2所述的一種磁控濺射真空鍍膜機，其特征在于：所述自轉組件包括固定連接在鍍膜機室(10)底部的中心齒輪，中心齒輪中心穿過工件底架(6)的轉動部位，中心齒輪的外緣嚙合連接若干成圓周分布的齒輪，單個所述齒輪的頂面固定連接物件轉架(8)的底端，物件轉架(8)底部轉動連接工件底架(6)。

4.根據權利要求3所述的一種磁控濺射真空鍍膜機，其特征在于：所述真空抽取機構包括連接在鍍膜機室(10)側壁上的MV主抽閥(13)，MV主抽閥(13)頂部設置有VV進氣閥(12)和SRV防湍閥(14)，MV主抽閥(13)底部設置分子泵(2)，分子泵(2)固定連接在底座(3)上，所述MV主抽閥(13)遠離鍍膜機箱(10)的另一端設有彎管，彎管管道連接在主抽氣管上，主抽氣管頂部設置有RV粗抽閥(15)，所述主抽氣管靠近鍍膜機箱(10)的一端端部設置有波紋管，波紋管的另一端管道連接SRV防湍閥(14)，所述主抽氣管底部連接有HV高抽閥(1)，所述主抽氣管遠離鍍膜機箱(10)的一端端部管道連接MP羅茨泵(16)，MP羅茨泵(16)底部管道連接RP機械泵(17)，MP羅茨泵(16)固定連接在RP機械泵(17)上部。

5.根據權利要求4所述的一種磁控濺射真空鍍膜機，其特征在于：所述鍍膜機室(10)連接有深冷設備(18)和穩壓設備(21)，深冷設備(18)為單級蒸汽壓縮制冷機，用于鍍膜機室(10)內部的水氣捕集，穩壓設備(21)用于穩定鍍膜機的電壓，所述靶材濺射機構、物件裝持機構和真空抽取機構中的電器元件電性連接電控柜(19)。

6.根據權利要求5所述的一種磁控濺射真空鍍膜機，其特征在于：所述底座(3)底部、RP機械泵(17)底部、深冷設備(18)底部、電控柜(19)底部和穩壓設備(21)底部均設置有若干移動輪(4)，移動輪(4)為帶有剎車的萬向輪。

7.根據權利要求6所述的一種磁控濺射真空鍍膜機，其特征在于：所述鍍膜機室(10)內部側壁設有若干清洗靶(20)，用于對鍍膜物件的鍍前表面清洗。

8.根據權利要求7所述的一種磁控濺射真空鍍膜機，其特征在于：所述室門(9)上設有視窗(7)，用于觀察鍍膜的工作進度。