[發(fā)明專利]離子注入裝置及離子注入方法

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 202210117792.5
• 申請日: 2022-02-08
• 公開（公告）號: CN114914141A
• 公開（公告）日: 2022-08-16
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 山口干夫;石橋和久;工藤哲也
• 申請（專利權(quán)）人: 住友重機械離子科技株式會社
• 主分類號: H01J37/317
• 分類號: H01J37/317;H01J37/304
• 代理公司: 永新專利商標(biāo)代理有限公司 72002
• 代理人: 任玉敏

本發(fā)明可加速動作參數(shù)的調(diào)整。離子注入裝置具備：射束生成裝置，生成照射到工作件的離子束；控制裝置(52)，設(shè)定用于控制射束生成裝置的動作的多個動作參數(shù)；測定裝置，測定離子束的至少一種射束特性；存儲裝置(56)，累積將多個動作參數(shù)的設(shè)定值集與離子束的至少一種射束特性的測定值建立對應(yīng)關(guān)聯(lián)的數(shù)據(jù)集；及分析裝置(54)，根據(jù)累積于存儲裝置(56)的多個數(shù)據(jù)集，生成用于根據(jù)多個動作參數(shù)中所包含的至少一個特定參數(shù)的設(shè)定值推算至少一種射束特性的函數(shù)。在變更多個動作參數(shù)中所包含的至少一個特定參數(shù)的設(shè)定值時，控制裝置(52)對函數(shù)輸入至少一個特定參數(shù)的變更后的設(shè)定值來計算出至少一種射束特性的推算值。

技術(shù)領(lǐng)域

本申請主張基于2021年2月9日申請的日本專利申請第2021-019204號的優(yōu)先權(quán)。該日本申請的全部內(nèi)容通過參考援用于本說明書中。

本發(fā)明涉及一種離子注入裝置及離子注入方法。

背景技術(shù)

在半導(dǎo)體制造工序中，為了改變半導(dǎo)體的導(dǎo)電性的目的、改變半導(dǎo)體的晶體結(jié)構(gòu)的目的等，標(biāo)準(zhǔn)地實施對半導(dǎo)體晶片注入離子的工序(也稱為離子注入工序)。在離子注入工序中使用的裝置被稱為離子注入裝置。離子注入裝置構(gòu)成為，通過測量應(yīng)照射于晶片的離子束的射束電流或射束角度之類的射束特性，并根據(jù)測量值調(diào)整動作參數(shù)來實現(xiàn)所期望的射束特性。

專利文獻(xiàn)1：日本特開2020-161470號公報

近年來，所要求的射束特性的精度變得更嚴(yán)格，有時在用于實現(xiàn)所期望的射束特性的調(diào)整中耗費時間。并且，即便使用以往存在實例的動作參數(shù)，有時也無法照常實現(xiàn)以往所獲得的射束特性，這種情況下，不得不反復(fù)進(jìn)行耗費時間的測量與調(diào)整。若這種調(diào)整所耗費的時間變長，則離子注入裝置的生產(chǎn)率下降。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明的一種實施方式的示例性目的之一在于，提供一種加速動作參數(shù)的調(diào)整的技術(shù)。

本發(fā)明的一種實施方式的離子注入裝置具備：射束生成裝置，生成照射到工作件的離子束；控制裝置，設(shè)定用于控制射束生成裝置的動作的多個動作參數(shù)；測定裝置，測定離子束的至少一種射束特性；存儲裝置，累積將多個動作參數(shù)的設(shè)定值集與離子束的至少一種射束特性的測定值建立對應(yīng)關(guān)聯(lián)的數(shù)據(jù)集；及分析裝置，根據(jù)累積于存儲裝置的多個數(shù)據(jù)集，生成用于根據(jù)多個動作參數(shù)中所包含的至少一個特定參數(shù)的設(shè)定值推算至少一種射束特性的函數(shù)。在變更多個動作參數(shù)中所包含的至少一個特定參數(shù)的設(shè)定值時，控制裝置對函數(shù)輸入至少一個特定參數(shù)的變更后的設(shè)定值，并計算出至少一種射束特性的推算值。

本發(fā)明的另一實施方式為離子注入方法。該方法具備如下工序：累積數(shù)據(jù)集，所述數(shù)據(jù)集是將用于控制生成離子束的射束生成裝置的動作的多個動作參數(shù)的設(shè)定值集與離子束中的至少一種射束特性的測定值建立對應(yīng)關(guān)聯(lián)而成；將所累積的多個數(shù)據(jù)集分類為多個簇；生成與多個簇各自相對應(yīng)的多個函數(shù)，所述多個函數(shù)為用于根據(jù)多個動作參數(shù)中所包含的至少一個特定參數(shù)的設(shè)定值推算至少一種射束特性；在變更設(shè)定于射束生成裝置的多個動作參數(shù)中所包含的至少一個特定參數(shù)的設(shè)定值時，確定包含所述至少一個特定參數(shù)的變更前或變更后的設(shè)定值的多個動作參數(shù)被分類為多個簇中的哪一種；及對與所確定的簇相對應(yīng)的函數(shù)輸入至少一個特定參數(shù)的變更后的設(shè)定值，并計算出至少一種射束特性的推算值。

另外，在方法、裝置、系統(tǒng)等之間相互替換以上構(gòu)成要件的任意組合或本發(fā)明的構(gòu)成要件或表述的方式，作為本發(fā)明的實施方式同樣有效。

發(fā)明效果

根據(jù)本發(fā)明，能夠加速動作參數(shù)的調(diào)整。

附圖說明

圖1為表示實施方式所涉及的離子注入裝置的概略結(jié)構(gòu)的俯視圖。

圖2為示意地表示中央控制裝置的功能結(jié)構(gòu)的框圖。

圖3為表示動作參數(shù)的調(diào)整方法的一例的流程圖。

圖4為表示射束特性的調(diào)整方法的一例的流程圖。