[發明專利]離子注入裝置及離子注入方法

在審

• 申請號: 202210117792.5
• 申請日: 2022-02-08
• 公開（公告）號: CN114914141A
• 公開（公告）日: 2022-08-16
• 發明（設計）人: 山口干夫;石橋和久;工藤哲也
• 申請（專利權）人: 住友重機械離子科技株式會社
• 主分類號: H01J37/317
• 分類號: H01J37/317;H01J37/304
• 代理公司: 永新專利商標代理有限公司 72002
• 代理人: 任玉敏

1.一種離子注入裝置，其特征在于，具備：

射束生成裝置，生成照射到工作件的離子束；

控制裝置，設定用于控制所述射束生成裝置的動作的多個動作參數；

測定裝置，測定所述離子束的至少一種射束特性；

存儲裝置，累積將所述多個動作參數的設定值集與所述離子束的所述至少一種射束特性的測定值建立對應關聯的數據集；及

分析裝置，根據累積于所述存儲裝置的多個數據集，生成用于根據所述多個動作參數中所包含的至少一個特定參數的設定值推算所述至少一種射束特性的函數；

在變更所述多個動作參數中所包含的至少一個特定參數的設定值時，所述控制裝置對所述函數輸入所述至少一個特定參數的變更后的設定值來計算出所述至少一種射束特性的推算值。

2.根據權利要求1所述的離子注入裝置，其特征在于，

所述控制裝置根據所述推算值來調整所述多個動作參數中所包含的至少一個特定參數。

3.根據權利要求1或2所述的離子注入裝置，其特征在于，

當所述推算值滿足規定條件時，所述控制裝置省略基于所述測定裝置的所述至少一種射束特性的測定。

4.根據權利要求1或2所述的離子注入裝置，其特征在于，

當所述推算值不滿足規定條件時，所述控制裝置使所述測定裝置測定所述至少一種射束特性。

5.根據權利要求4所述的離子注入裝置，其特征在于，

所述控制裝置根據所述至少一種射束特性的測定值和所述函數來調整所述多個動作參數中所包含的至少一個特定參數。

6.根據權利要求1至5中任一項所述的離子注入裝置，其特征在于，

當所述存儲裝置中累積有新數據集時，所述分析裝置利用所述新數據集來更新所述函數。

7.根據權利要求1至6中任一項所述的離子注入裝置，其特征在于，

所述分析裝置將累積于所述存儲裝置的多個數據集分類為多個簇，并生成與所述多個簇各自相對應的多個函數，

所述控制裝置利用所述多個函數中的任一個來計算出所述推算值。

8.根據權利要求7所述的離子注入裝置，其特征在于，

所述控制裝置確定包含所述至少一個特定參數的變更后的設定值的多個動作參數被分類為所述多個簇中的哪一種，并利用與所述所確定的簇相對應的函數來計算出所述推算值。

9.根據權利要求7所述的離子注入裝置，其特征在于，

所述測定裝置測定通過設定有包含所述至少一個特定參數的變更后的設定值的多個動作參數的所述射束生成裝置生成的所述離子束的第1射束特性，

所述控制裝置確定包括包含所述至少一個特定參數的變更后的設定值的多個動作參數及所述第1射束特性的測定值的數據集被分類為所述多個簇中的哪一種，并利用與所述所確定的簇相對應的函數來計算出與所述第1射束特性不同的第2射束特性的推算值。

10.根據權利要求7所述的離子注入裝置，其特征在于，

所述控制裝置確定包含所述至少一個特定參數的變更前的設定值的多個動作參數被分類為所述多個簇中的哪一種，并利用與所述所確定的簇相對應的函數來計算出所述推算值。

11.根據權利要求7所述的離子注入裝置，其特征在于，

所述測定裝置測定通過設定有包含所述至少一個特定參數的變更前的設定值的多個動作參數的所述射束生成裝置生成的所述離子束的第1射束特性，

所述控制裝置確定包括包含至少一個特定參數的變更前的設定值的多個動作參數及所述第1射束特性的測定值的數據集被分類為所述多個簇中的哪一種，并利用與所述所確定的簇相對應的函數來計算出與所述第1射束特性不同的第2射束特性的推算值。