[發明專利]一種提高濺射速率的磁場結構

在審

• 申請號: 202210103623.6
• 申請日: 2022-01-28
• 公開（公告）號: CN114381704A
• 公開（公告）日: 2022-04-22
• 發明（設計）人: 陳大民;白春陽;孫英斌
• 申請（專利權）人: 納諾精機（大連）有限公司
• 主分類號: C23C14/35
• 分類號: C23C14/35
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

本發明屬于一種提高濺射速率的磁場結構，包括靶管（1），其特征在于一條中心磁鐵（2），兩條中間磁鐵（3），兩條邊緣磁鐵（4）共五條磁鐵，以NS極交替設置放置在靶管上1，靶管上裝有配重（6），靶材（5）套在靶管上，該發明結構簡單，有效提升靶材的濺射速率，加快了涂層沉積速度，縮短了鍍膜時間，降低了鍍膜成本。

技術領域

本發明屬于磁控濺射鍍膜裝置部品，特別涉及一種提高濺射速率的磁場結構。

背景技術

磁控濺射是真空鍍膜常用的一種方式，該方式鍍出來的涂層光滑細膩具有很好的應用效果，但是其缺點也很明顯，就是濺射沉積速率太慢，導致了鍍膜成本大幅上升。

發明內容

本發明在于克服上述技術不足，提供一種提高濺射速率的磁場結構，將常用的3條磁場結構增加至5條，從而使電子跑道由2條正至4條，有效提升靶材的濺射速率，加快了涂層沉積速度，縮短了鍍膜時間，降低了鍍膜成本。

本發明解決技術問題所采用的技術方案是: 一種提高濺射速率的磁場結構，包括靶管，其特征在于一條中心磁鐵，兩條中間磁鐵，兩條邊緣磁鐵共五條磁鐵，以NS極交替設置放置在靶管上，靶管上裝有配重，靶材套在靶管上。

本發明的有益效果是：該發明結構簡單，有效提升靶材的濺射速率，加快了涂層沉積速度，縮短了鍍膜時間，降低了鍍膜成本。

附圖說明

以下結合附圖，以實施例具體說明。

圖1是提高濺射速率的磁場結構主體圖；

圖中：1-靶管；2-中心磁鐵；3-中間磁鐵；4-邊緣磁鐵；5-靶材；6-配重。

具體實施方式

實施例，參照附圖，一種提高濺射速率的磁場結構，包括靶管1，其特征在于一條中心磁鐵2，兩條中間磁鐵3，兩條邊緣磁鐵4共五條磁鐵，以NS極交替設置放置在靶管上1，靶管上裝有配重6，靶材5套在靶管上，該發明結構簡單，有效提升靶材的濺射速率，加快了涂層沉積速度，縮短了鍍膜時間，降低了鍍膜成本。

該發明的使用方法是：將一條中心磁鐵2，兩條中間磁鐵3，兩條邊緣磁鐵5共五條磁鐵，以NS極交替設置放置在靶管上1，靶管上裝有配重6，靶材5套在靶管上。