[發明專利]一種提高濺射速率的磁場結構在審

申請號：	202210103623.6	申請日：	2022-01-28
公開（公告）號：	CN114381704A	公開（公告）日：	2022-04-22
發明（設計）人：	陳大民;白春陽;孫英斌	申請（專利權）人：	納諾精機（大連）有限公司
主分類號：	C23C14/35	分類號：	C23C14/35
代理公司：	暫無信息	代理人：	暫無信息
地址：	116600 遼寧省大連市保稅***	國省代碼：	遼寧;21
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摘要：
搜索關鍵詞：	一種提高濺射速率磁場結構
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【權利要求書】：

1.本發明屬于一種提高濺射速率的磁場結構，包括靶管（1），其特征在于一條中心磁鐵（2），兩條中間磁鐵（3），兩條邊緣磁鐵（4）共五條磁鐵，以NS極交替設置放置在靶管上（1），靶管上裝有配重（6），靶材（5）套在靶管上，該發明結構簡單，有效提升靶材的濺射速率，加快了涂層沉積速度，縮短了鍍膜時間，降低了鍍膜成本。

2.根據權利要求1所述的一種提高濺射速率的磁場結構；其特征在于其特征在于一條中心磁鐵（2），兩條中間磁鐵（3），兩條邊緣磁鐵（4）共五條磁鐵，以NS極交替設置放置在靶管上（1）。

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