[發(fā)明專利]組合測量儀、校準(zhǔn)裝置及蒸鍍系統(tǒng)在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202210095822.7 | 申請日: | 2022-01-26 |
| 公開(公告)號: | CN114481037A | 公開(公告)日: | 2022-05-13 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 侯佳森;劉全寶;趙姍 | 申請(專利權(quán))人: | 合肥維信諾科技有限公司 |
| 主分類號: | C23C14/24 | 分類號: | C23C14/24;C23C14/54 |
| 代理公司: | 北京同立鈞成知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11205 | 代理人: | 楊文娟;臧建明 |
| 地址: | 230037 安徽省合*** | 國省代碼: | 安徽;34 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 組合 測量儀 校準(zhǔn) 裝置 系統(tǒng) | ||
本申請?zhí)峁┮环N組合測量儀、校準(zhǔn)裝置及蒸鍍系統(tǒng),涉及蒸鍍技術(shù)領(lǐng)域,用于解決現(xiàn)有的校準(zhǔn)裝置校準(zhǔn)效率低的技術(shù)問題,該組合測量儀包括水平桿、探針和固定桿;固定桿沿垂向布置,固定桿的一端插裝在蒸鍍腔室的底壁中心孔內(nèi),固定桿的另一端與水平桿連接,水平桿能夠水平轉(zhuǎn)動;探針的一端連接在水平桿上,探針相對水平桿在水平方向及垂向上位置可調(diào),固定桿與探針之間的水平距離設(shè)定為蒸鍍時蒸發(fā)源蓋子的中心與中心孔之間的預(yù)設(shè)水平距離;探針的底端用于與蒸發(fā)源蓋子的頂面接觸,探針的底端相對蒸鍍腔室的底壁高度設(shè)定為符合蒸鍍時蒸發(fā)源蓋子與待蒸鍍基板之間的預(yù)設(shè)高度所對應(yīng)的高度。本申請?zhí)峁┑慕M合測量儀用于對蒸發(fā)源蓋子進(jìn)行快速校準(zhǔn)。
技術(shù)領(lǐng)域
本申請涉及蒸鍍技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及一種組合測量儀、校準(zhǔn)裝置及蒸鍍系統(tǒng)。
背景技術(shù)
在顯示器件的制作過程中,通常采用蒸發(fā)鍍膜工藝在待蒸鍍基板上形成膜層;蒸發(fā)鍍膜工藝的原理是將蒸鍍材料放置于蒸鍍裝置的蒸發(fā)源中加熱蒸發(fā),形成的蒸鍍材料的氣體分子沉積到待蒸鍍基板上形成膜層。
為了保證蒸鍍效果,例如成膜均一性;蒸鍍時蒸發(fā)源蓋子蓋設(shè)在蒸發(fā)源上,對于蒸發(fā)源蓋子與蒸鍍腔室的底壁中心的水平距離、蒸發(fā)源蓋子與待蒸鍍基板之間的高度具有嚴(yán)格的要求。因此,在進(jìn)行蒸鍍前通常需對蒸發(fā)源蓋子的位置進(jìn)行校準(zhǔn);然而利用現(xiàn)有的校準(zhǔn)裝置對蒸發(fā)源蓋子的位置進(jìn)行校準(zhǔn)時,其校準(zhǔn)效率低。
發(fā)明內(nèi)容
鑒于上述問題,本申請實(shí)施例提供一種組合測量儀、校準(zhǔn)裝置及蒸鍍系統(tǒng),能夠提升對蒸發(fā)源蓋子的校準(zhǔn)效率。
為了實(shí)現(xiàn)上述目的,本申請實(shí)施例提供如下技術(shù)方案:
本申請實(shí)施例第一方面提供了一種組合測量儀,用于校準(zhǔn)蒸發(fā)源蓋子在所述蒸鍍腔室內(nèi)的位置,其中所述蒸發(fā)源蓋子蓋設(shè)在蒸發(fā)源上,所述組合測量儀包括水平桿以及分別設(shè)置在所述水平桿的兩端的探針和固定桿;其中,所述固定桿沿垂向布置,所述固定桿遠(yuǎn)離所述水平桿的一端插裝在所述蒸鍍腔室的底壁中心孔內(nèi),所述固定桿的另一端與所述水平桿連接,且所述水平桿能夠相對所述蒸鍍腔室的底壁水平轉(zhuǎn)動;所述探針沿垂向布置,所述探針的一端連接在所述水平桿上,所述探針相對所述水平桿在水平方向及垂向上位置可調(diào),所述固定桿之間的水平距離設(shè)定為蒸鍍時所述蒸發(fā)源蓋子的中心與蒸鍍腔室的底壁中心孔之間的預(yù)設(shè)水平距離;所述探針的底端用于與蒸發(fā)源蓋子的頂面接觸,所述探針的底端相對所述蒸鍍腔室的底壁高度設(shè)定為符合蒸鍍時所述蒸發(fā)源蓋子與所述蒸鍍腔室的底壁之間的預(yù)設(shè)高度所對應(yīng)的高度。
在一種可選的實(shí)施例中,所述水平桿與所述固定桿活動連接,且所述水平桿在所述固定桿上的安裝高度可調(diào)。
在一種可選的實(shí)施例中,所述水平桿用于測量所述探針與所述固定桿之間的水平距離,并且所述水平桿沿其延伸方向設(shè)置有刻度,所述探針用于測量所述蒸發(fā)源蓋子與所述水平桿之間的高度,且所述探針沿其延伸方向設(shè)置有刻度;所述固定桿用于測量所述水平桿與所述蒸鍍腔室的底壁之間的高度,且所述固定桿沿其延伸方向設(shè)置有刻度。
在一種可選的實(shí)施例中,所述水平桿的第一端設(shè)置有開口槽,所述開口槽的開口大小可調(diào);所述固定桿夾設(shè)在所述開口槽內(nèi)。
在一種可選的實(shí)施例中,所述開口槽的長度方向與所述水平桿的延伸方向一致;所述開口槽設(shè)置有緊固螺栓,用于調(diào)整所述開口槽的開口大小。
在一種可選的實(shí)施例中,所述組合測量儀還包括高度可調(diào)的伸縮支腳;所述伸縮支腳安裝在所述蒸鍍腔室的底壁上,所述伸縮支腳位于所述探針和所述固定桿之間,且所述伸縮支腳的頂端與所述水平桿抵接。
在一種可選的實(shí)施例中,所述水平桿的第二端設(shè)置有水平移動孔,所述水平移動孔與所述探針間隙配合,所述探針插裝在所述水平移動孔內(nèi)。
本申請實(shí)施例第二方面提供了一種校準(zhǔn)裝置,包括水平儀和第一方面所述的組合測量儀,所述水平儀設(shè)置在所述組合測量儀的水平桿的上表面上。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理





