[發(fā)明專利]蒸鍍源裝置以及真空蒸鍍設(shè)備

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 202210095632.5
• 申請日: 2022-01-26
• 公開（公告）號: CN114427078A
• 公開（公告）日: 2022-05-03
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 劉建東
• 申請（專利權(quán)）人: 深圳市華星光電半導(dǎo)體顯示技術(shù)有限公司
• 主分類號: C23C14/24
• 分類號: C23C14/24
• 代理公司: 深圳紫藤知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 44570
• 代理人: 黃舒悅

1.一種蒸鍍源裝置，其特征在于，包括：

殼體，具有空腔以及與所述空腔連通的開口；

坩堝主體，設(shè)置于所述空腔，所述坩堝主體能夠穿過所述開口；

蓋體，設(shè)置有蒸鍍孔，所述蓋體能夠封閉所述開口且能夠與所述坩堝主體抵接，以限制所述坩堝主體于所述空腔。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的蒸鍍源裝置，其特征在于，還包括第一驅(qū)動(dòng)件，所述第一驅(qū)動(dòng)件設(shè)置于所述空腔且與所述坩堝主體連接，所述第一驅(qū)動(dòng)件能夠驅(qū)動(dòng)所述坩堝主體由所述殼體內(nèi)部運(yùn)動(dòng)至所述殼體外部。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的蒸鍍源裝置，其特征在于，所述第一驅(qū)動(dòng)件為氣缸。

4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的蒸鍍源裝置，其特征在于，所述第一驅(qū)動(dòng)件為彈性件。

5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的蒸鍍源裝置，其特征在于，當(dāng)所述坩堝主體的運(yùn)動(dòng)方向與所述坩堝主體的重力的方向相同時(shí)，所述第一驅(qū)動(dòng)件的驅(qū)動(dòng)力小于所述蓋體與所述坩堝主體的重力總和。

6.根據(jù)權(quán)利要求1至5任一項(xiàng)所述的蒸鍍源裝置，其特征在于，還包括第一卡扣體以及能夠與所述第一卡扣體配合的第二卡扣體；

其中，所述第一卡扣體與所述蓋體連接，所述第二卡扣體與所述殼體連接。

7.根據(jù)權(quán)利要求1至5任一項(xiàng)所述的蒸鍍源裝置，其特征在于，所述蓋體與所述殼體轉(zhuǎn)動(dòng)連接；所述蒸鍍源裝置還包括第二驅(qū)動(dòng)件，與所述蓋體連接，所述第二驅(qū)動(dòng)件能夠驅(qū)動(dòng)所述蓋體封閉所述開口。

8.根據(jù)權(quán)利要求1至5任一項(xiàng)所述的蒸鍍源裝置，其特征在于，所述蒸鍍孔的數(shù)量為多個(gè)，所述多個(gè)蒸鍍孔均勻分布于所述蓋體。

9.根據(jù)權(quán)利要求1至5任一項(xiàng)所述的蒸鍍源裝置，其特征在于，所述坩堝主體為線源坩堝主體。

10.一種真空蒸鍍設(shè)備，其特征在于，包括如權(quán)利要求1至9任一項(xiàng)所述的蒸鍍源裝置。