[發明專利]一種軟態低壓腐蝕箔的制備方法有效
| 申請號: | 202210086922.3 | 申請日: | 2022-01-25 |
| 公開(公告)號: | CN114411232B | 公開(公告)日: | 2023-07-07 |
| 發明(設計)人: | 趙龍;閆小宇;謝文娟;何鳳榮;麥健航;李洪偉 | 申請(專利權)人: | 乳源瑤族自治縣東陽光化成箔有限公司;韶關東陽光科技研發有限公司 |
| 主分類號: | C25F3/04 | 分類號: | C25F3/04;C25F7/00;H01G9/055 |
| 代理公司: | 廣州粵高專利商標代理有限公司 44102 | 代理人: | 蘇晶晶 |
| 地址: | 512721*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 低壓 腐蝕 制備 方法 | ||
1.一種軟態低壓腐蝕箔的制備方法,包括如下步驟:
1)鋁箔前處理;
2)布孔腐蝕;
3)中處理;
4)深度腐蝕;
5)后處理;
其特征在于,所述深度腐蝕為交流電腐蝕,所述交流電波形包括鏡像分布的正半周期與負半周期,
所述正半周期和負半周期由2~7個具有相同波形、振幅和施加時間的第一半波(1)構成,且兩個第一半波(1)之間存在間隔時間,
所述正半周期的間隔時間段由振幅小于第一半波(1)且施加時間小于第一半波(1),穿過橫坐標,位于正半周的對應半周的第二半波(2)構成,
所述負半周期的間隔時間段由振幅小于第一半波(1)且施加時間小于第一半波(1),穿過橫坐標,位于負半周的對應半周的第三半波(3)構成;
所述第二半波(2)和第三半波(3)的振幅為第一半波(1)的2~10%且施加時間為第一半波(1)的5~20%。
2.如權利要求1所述軟態低壓腐蝕箔的制備方法,其特征在于,所述第一半波(1)的波形為正弦波、三角波和方波中的任一種。
3.如權利要求1所述軟態低壓腐蝕箔的制備方法,其特征在于,所述步驟1)前處理的過程是:
將鋁箔用水沖洗,以除去其表面灰塵雜質,再將其置于前處理槽液中進行前處理,前處理完成后將鋁箔取出并進行水洗處理;
所述前處理的條件為:水沖洗的時間為10~20s,前處理槽液為質量含量1~10%的磷酸水溶液,前處理槽液溫度為60~80℃,前處理時間為60~120s。
4.如權利要求1所述軟態低壓腐蝕箔的制備方法,其特征在于,所述步驟?2)布孔腐蝕的過程是:
將經步驟1)處理后的鋁箔置于腐蝕槽液中,控制腐蝕時間,加交流電進行布孔腐蝕,腐蝕完成后將鋁箔取出并進行水洗處理;
所述布孔腐蝕的條件為:腐蝕槽液由質量含量5~15%的鹽酸、質量含量0.01~0.1%的硫酸和質量含量0.5~1.5%的三氯化鋁組成,腐蝕槽液溫度為15~60℃,電流密度為0.2~0.8A/cm2,腐蝕頻率為10~60Hz,腐蝕時間為20~70s。
5.如權利要求1所述軟態低壓腐蝕箔的制備方法,其特征在于,所述步驟3)中處理的過程是:
將經步驟2)處理后的鋁箔置于中處理槽液中進行中處理,中處理完成后將鋁箔取出并進行水洗處理;
所述中處理條件為:中處理槽液為質量含量1~10%的磷酸氫鹽和/或磷酸二氫鹽水溶液,中處理槽液溫度為50~90℃,中處理時間為60~120s。
6.如權利要求1所述軟態低壓腐蝕箔的制備方法,其特征在于,所述步驟4)深度腐蝕的過程是:
將經步驟3)處理后的鋁箔置于腐蝕槽液中,控制腐蝕時間,加交流電進行深度腐蝕,腐蝕完成后將鋁箔取出并進行水洗處理;
所述深度腐蝕的條件為:腐蝕槽液由質量含量5~15%的鹽酸、質量含量0.01~0.1%的硫酸和質量含量0.5~1.5%的三氯化鋁組成,腐蝕槽液溫度為15~60℃,電流密度為0.2~0.8A/cm2,腐蝕頻率為10~60Hz,?腐蝕時間為60~150s。
7.如權利要求1所述軟態低壓腐蝕箔的制備方法,其特征在于,所述步驟5)后處理的過程是:
將經步驟4)處理后的鋁箔置于一級后處理槽液中進行一級后處理,完成后進行水洗處理;然后將鋁箔置于二級后處理槽液中進行二級后處理,完成后進行水洗處理;
所述后處理的條件為:一級后處理槽液為質量含量5~20%的硫酸水溶液,一級后處理槽液溫度為40~70℃,一級后處理時間為60~120s;二級后處理槽液為質量含量1~5%的三乙醇胺水溶液,二級后處理槽液溫度為40~70℃,二級后處理時間為60~120s。
8.如權利要求1~7任一項所述軟態低壓腐蝕箔的制備方法,其特征在于,所述步驟3)和步驟4)重復若干次。
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