[發明專利]一種硬化膜及其制備方法

在審

• 申請號: 202210079860.3
• 申請日: 2022-01-24
• 公開（公告）號: CN116410509A
• 公開（公告）日: 2023-07-11
• 發明（設計）人: 史夢;陳智仁;張克然
• 申請（專利權）人: 寧波安特弗新材料科技有限公司
• 主分類號: C08J7/046
• 分類號: C08J7/046;C08J7/043;C09D175/14;C09D7/61;C09D7/63;C08L67/02
• 代理公司: 北京德和衡律師事務所 11405
• 代理人: 張華

1.一種硬化膜，其特征在于，所述硬化膜依次包括基材、磁控濺射層和硬化層。

2.根據權利要求1所述的硬化膜，其特征在于，所述磁控濺射層為氮化硅層或氧化硅層。

3.根據權利要求1所述的硬化膜，其特征在于，所述硬化層由光固化組合物形成。

4.根據權利要求3所述的硬化膜，其特征在于，所述光固化組合物包括24-35重量份四官能度聚氨酯丙烯酸酯低聚物，28-38重量份的三羥甲基丙烷三丙烯酸酯，7-10重量份丙烯酸多元醇，2-4重量份的異氰酸酯，0.3-0.7重量份的光引發劑，0.1-0.4重量份的流平劑，0.2-0.4重量份的納米二氧化硅微粒，24-25重量份的溶劑丁酮；所述四官能度聚氨酯丙烯酸酯低聚物，三羥甲基丙烷三丙烯酸酯，丙烯酸多元醇，異氰酸酯，光引發劑，流平劑，納米二氧化硅微粒，和溶劑的總份數為100重量份。

5.根據權利要求4所述的硬化膜，其特征在于，所述磁控濺射層為氮化硅層。

6.根據權利要求1所述的硬化膜，其特征在于，所述磁控濺射層的厚度為30-70nm。

7.根據權利要求1所述的硬化膜，其特征在于，硬化層的厚度為4-8μm。

8.根據權利要求1所述的硬化膜，其特征在于，所述基材的厚度為75-188μm。

9.根據權利要求3所述的硬化膜，其特征在于，所述光固化組合物包括28-30重量份四官能度脂肪族聚氨酯丙烯酸酯低聚物，30-32重量份的三羥甲基丙烷三丙烯酸酯，10重量份丙烯酸多元醇，4重量份的異氰酸酯，0.5-0.6重量份的光引發劑，0.1-0.2重量份的流平劑，0.2-0.4重量份的納米二氧化硅微粒，25重量份的溶劑丁酮；所述四官能度聚氨酯丙烯酸酯低聚物，三羥甲基丙烷三丙烯酸酯，丙烯酸多元醇，異氰酸酯，光引發劑，流平劑，納米二氧化硅微粒，和溶劑的總份數為100重量份。

10.一種根據權利要求1-9中任一項所述的硬化膜的制備方法，其特征在于，所述制備方法包括下述步驟：

步驟一：在基材上磁控濺射一層磁控濺射層；

步驟二：配置光固化組合物，將光固化組合物涂布到磁控濺射層上方，涂層經干燥、固化，得到硬化層。