[發明專利]具有修復氧化應激損傷的多肽及其制備方法與應用有效
| 申請號: | 202210071612.4 | 申請日: | 2022-01-21 |
| 公開(公告)號: | CN114230633B | 公開(公告)日: | 2023-05-30 |
| 發明(設計)人: | 陳曉航;虞慧飛;應佳偉;錢令頁 | 申請(專利權)人: | 浙江湃肽生物股份有限公司 |
| 主分類號: | C07K7/06 | 分類號: | C07K7/06;C07K1/04;C07K1/06;C07K1/20;A61K8/64;A61K8/60;A61Q19/00;A61Q19/08 |
| 代理公司: | 北京國翰知識產權代理事務所(普通合伙) 11696 | 代理人: | 張天辰 |
| 地址: | 312000 浙江*** | 國省代碼: | 浙江;33 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 具有 修復 氧化 應激 損傷 多肽 及其 制備 方法 應用 | ||
本發明公開了一種具有修復氧化應激損傷的多肽及其制備方法與應用;該多肽的氨基酸序列為:Pal?Gly?His?Lys?Thr?His?Arg?Ser;其制備步驟包括:Fmoc?Ser(tBu)?樹脂的制備、肽樹脂A的制備、Fmoc?Lys(Cbz)?樹脂的制備、肽樹脂B的制備、多肽片段b的制備、肽樹脂C的制備以及多肽的制備;制得的多肽具有優良的抗氧化性、對皮膚損傷具有較好的修復作用,愈合率較高;同時具有優良的抗皮膚光老化性以及吸濕保濕性能,以延緩衰老,且對皮膚無刺激,其在化妝品護膚與美容領域具有廣泛的應用。
技術領域
本發明涉及一種多肽,具體涉及一種具有修復氧化應激損傷的多肽及其制備方法與應用。
背景技術
隨著人們生活水平的提高,人們對皮膚護理的注重、對產品的要求越來越高,同時不良的生活習慣、惡劣環境、紫外線、各種精神壓力、不正確的皮膚護理等眾多因素對皮膚的傷害導致越來越多的人皮膚干裂、水腫、起痘、皮膚失去彈性,被粗糙老化等皮膚狀況紊亂的綜合問題困擾。
皮膚衰老是皮膚組織內一系列復雜的生物學過程,是所有內源性生理因素和外源性環境因素共同作用的結果。遺傳基因密碼程序性調控和相關老化基因及蛋白表達水平影響,以及長期大劑量的日光紫外線照射等均是導致皮膚自然衰老和光老化的重要因素之一。然而無論是何種因素主導的皮膚老化以及損傷,不僅可影響正常皮膚組織結構和生理功能,而且也可直接影響皮膚外層的外觀和容貌。
多肽是一種涉及生物體內各種細胞功能的生物活性物質,具有降血壓、降膽固醇、抗氧化和抗衰老等生理功能;基因重組多肽因子和化學合成多肽等成功在皮膚美容化妝品中應用以來,人們對活性生物多肽與面部美容的研究與應用日益深入,并不斷研究和證實了它們在皮膚美容護膚保健和皮膚抗衰老等方面所具有的積極作用和重要應用價值。目前,有許多研究者都在致力于活性生物多肽在皮膚美容和抗衰老、皮膚損傷修復產品中的研究和開發。
發明內容
本發明的目的在于提供一種具有優良抗氧化性、對皮膚損傷具有較好的修復作用、愈合率較高、同時具有優良的抗皮膚光老化性以及吸濕保濕性能、可延緩衰老且對皮膚無刺激的活性多肽,其在化妝品護膚與美容領域具有廣泛的應用。
本發明為實現上述目的所采取的技術方案為:
一種多肽,其中,多肽的氨基酸序列為:Pal-Gly-His-Lys-Thr-His-Arg-Ser。
本發明制得一種氨基酸序列為Pal-Gly-His-Lys-Thr-His-Arg-Ser的多肽,其具有優良的抗氧化作用,即具有較高的DPPH自由基清除率,對于皮膚損傷具有較好的修復作用,愈合率較高;另一方面,該多肽能夠減緩光老化引起的皮膚增厚,同時能夠減緩膠原蛋白的流失,具有優良的抗皮膚光老化、延緩衰老的作用;同時,該多肽具有優良的吸濕保濕作用,且對皮膚無刺激作用,能夠更好地應用于化妝品護膚與美容領域。
優選地,在本發明的一些實施例中,多肽由Pal-Gly-His-Lys偶聯Thr-His-Arg-Ser。
本發明還公開了多肽的制備方法,包括以下步驟:
S1:以Rink樹脂或王樹脂為載體合成Fmoc-Ser(tBu)-樹脂,然后采用固相合成法將其從C端到N端逐一偶聯氨基酸,然后脫除Fmoc保護基,得到肽樹脂A:H-Thr(tBu)-His-Arg(pbf)-Ser(tBu)-樹脂;
S2:以Rink樹脂為載體合成Fmoc-Lys-樹脂,然后采用固相合成法將其從C端到N端逐一偶聯氨基酸,得到肽樹脂B:Fmoc-Pal-Gly-His-Lys-樹脂;
S3:將肽樹脂B裂解,得到多肽片段b:Fmoc-Pal-Gly-His-Lys-OH;
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于浙江湃肽生物股份有限公司,未經浙江湃肽生物股份有限公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/202210071612.4/2.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。





