[發明專利]一種鉑輔助催化的碳納米管生長方法在審
| 申請號: | 202210050762.7 | 申請日: | 2022-01-17 |
| 公開(公告)號: | CN114635121A | 公開(公告)日: | 2022-06-17 |
| 發明(設計)人: | 唐紅斌;董長昆 | 申請(專利權)人: | 溫州大學 |
| 主分類號: | C23C16/26 | 分類號: | C23C16/26;C01B32/162;C23C14/16;C23C14/34;C23C16/02 |
| 代理公司: | 溫州名創知識產權代理有限公司 33258 | 代理人: | 陳加利 |
| 地址: | 325000 浙江省溫州市甌海*** | 國省代碼: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 輔助 催化 納米 生長 方法 | ||
1.一種鉑輔助催化的碳納米管生長方法,其特征在于:
(1)預處理:對含鎳或其它催化金屬的金屬基片進行陽極氧化處理,然后對金屬基片進行表面清洗、和干燥;
(2)將預處理過的金屬基片表面上濺射鉑層,濺射完成后;
(3)將步驟(2)處理后的金屬基片放在CVD系統中進行生長碳納米管。
2.根據權利要求1所述的一種鉑輔助催化的碳納米管生長方法,其特征在于:所述的步驟(3)為:將沉積室抽真空,加熱至500℃時通入Ar或氮氣氣體作為保護氣體,溫度升高至600-800℃時通入碳源氣體進行碳納米管生長,所述的碳源氣體為C2H2或其它碳氫氣體,生長完成后關閉碳源氣體,冷卻至室溫后關閉Ar氣得到碳納米管成品。
3.根據權利要求1所述的一種鉑輔助催化的碳納米管生長方法,其特征在于:所述的步驟(2)中,濺射鉑層的具體工藝包括:將濺射鍍膜系統抽真空至本底工作壓強,隨后在系統中通入濺射氣體,在高于本底壓強的條件下,濺射數秒至數分鐘時間在金屬基底上沉積鉑金屬膜。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學轉化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態化合物分解且表面材料的反應產物不留存于鍍層中的化學鍍覆,例如化學氣相沉積
C23C16-01 .在臨時基體上,例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機材料為特征的





