[發明專利]一種高致密性耐電壓的等離子體噴涂氧化釔涂層制備方法在審
| 申請號： | 202210048670.5 | 申請日： | 2022-01-17 |
| 公開（公告）號： | CN114507837A | 公開（公告）日： | 2022-05-17 |
| 發明（設計）人： | 王嘉雨;安朋娜 | 申請（專利權）人： | 北京富創精密半導體有限公司 |
| 主分類號： | C23C4/11 | 分類號： | C23C4/11;C23C4/134;C23C4/02 |
| 代理公司： | 沈陽優普達知識產權代理事務所(特殊普通合伙) 21234 | 代理人： | 孫奇 |
| 地址： | 100176 北京市大興區北京經*** | 國省代碼： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 致密 電壓 等離子體 噴涂 氧化釔 涂層 制備 方法 | ||
1.一種高致密性耐電壓的等離子體噴涂氧化釔涂層制備方法，其特征在于，該涂層制備方法包括以下步驟：
(1)使用亞微米至納米級氧化釔粉末并結合恰當溶劑配置成溶液；
(2)噴涂前對溶液進行恰當處理；
(3)對待噴涂的零件表面進行噴砂處理；
(4)對零件進行致密大氣等離子體氧化釔涂層制備。
2.按照權利要求1所述的高致密性耐電壓的等離子體噴涂氧化釔涂層，其特征在于：其制備設備使用軸向大氣等離子體噴涂設備，即火焰噴射方向與原料輸送方向為同一軸向，無需垂直送料。
3.按照權利要求1所述的高致密性耐電壓的等離子體噴涂氧化釔涂層，其特征在于：步驟(1)所述亞微米至納米級氧化釔粉末，粒徑在0.2um-5um之間。
4.按照權利要求1所述的高致密性耐電壓的等離子體噴涂氧化釔涂層，其特征在于：步驟(1)所述的恰當溶劑，選用去離子水或高純度乙醇。
5.按照權利要求1所述的高致密性耐電壓的等離子體噴涂氧化釔涂層，其特征在于：步驟(2)所述的恰當處理，將溶液放置在塑料封閉容器中，使用皮錘類似的硬質工具敲擊塑料容器使氧化釔原料與溶劑充分混合。
6.按照權利要求1所述的高致密性耐電壓的等離子體噴涂氧化釔涂層，其特征在于：步驟(3)所述的噴砂處理，噴砂后粗糙度為2-5um。
7.按照權利要求1所述的高致密性耐電壓的等離子體噴涂氧化釔涂層，其特征在于：步驟(4)所述的等離子體氧化釔涂層性能如下：涂層厚度在150-300um，粗糙度在0.4-4um之間，耐鹽酸腐蝕時間6小時，耐擊穿電壓5000V,孔隙率2％。
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C23C 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面擴散法，化學轉化或置換法的金屬材料表面處理；真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C4-00 熔融態覆層材料噴鍍法，例如火焰噴鍍法、等離子噴鍍法或放電噴鍍法的鍍覆
C23C4-02 .待鍍材料的預處理，例如為了在選定的表面區域鍍覆
C23C4-04 .以鍍覆材料為特征的
C23C4-12 .以噴鍍方法為特征的
C23C4-18 .后處理
C23C4-14 ..用于長形材料的鍍覆
