[發明專利]再生蝕刻機或PECVD設備的襯里的方法有效
| 申請號: | 202210031877.1 | 申請日: | 2022-01-12 |
| 公開(公告)號: | CN114405918B | 公開(公告)日: | 2023-03-28 |
| 發明(設計)人: | 劉曉剛;黃來國;劉超;李仁杰;蔡廣云;方斌 | 申請(專利權)人: | 合肥微睿光電科技有限公司 |
| 主分類號: | B08B3/08 | 分類號: | B08B3/08;B24B23/02;B24B55/02;C23C16/50;C23C16/54;H01J37/32 |
| 代理公司: | 安徽知問律師事務所 34134 | 代理人: | 王亞軍 |
| 地址: | 230000 安徽省合*** | 國省代碼: | 安徽;34 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 再生 蝕刻 pecvd 設備 襯里 方法 | ||
1.再生蝕刻機或PECVD設備的襯里的方法,該方法包括以下連續步驟:
(a)用軟質擦拭物對所述襯里的表面進行濕式研磨;軟質擦拭物為目數不小于1000#的羊絨布或海綿砂;濕式研磨采用手持式高速氣動研磨機進行,其空載轉速為8000-13000轉/分鐘和/或工作壓力為7-8kg;濕式研磨使用去離子水或超純水進行;
(b)在40-60℃下,用中性脫脂劑清洗所述襯里的表面,清洗進行3-5分鐘;
(c)在40-60℃下,用濃度為0.05重量%-5重量%的檸檬酸溶液清洗所述襯里的表面,清洗進行20-40分鐘;和
(d)干燥所述襯里的表面,在40-60℃下進行5-15分鐘。
2.根據權利要求1所述的方法,其中所述手持式高速氣動研磨機的空載轉速為12000轉/分鐘和/或工作壓力為7.5kg。
3.根據權利要求1所述的方法,其中所述步驟(a)進行3-8分鐘。
4.根據權利要求1-3中任一項所述的方法,其中所述步驟(b)在50-55℃下進行。
5.根據權利要求1-3中任一項所述的方法,其中所述步驟(c)在50-55℃下進行。
6.根據權利要求1-3中任一項所述的方法,其中所述步驟(c)用濃度為0.1重量%-3重量%的檸檬酸溶液進行。
7.根據權利要求1-3中任一項所述的方法,其中所述步驟(c)用濃度為1.5重量%-2.5重量%的檸檬酸溶液進行。
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