[發(fā)明專利]導電性層疊體、觸控面板和導電性層疊體的制造方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202210029147.8 | 申請日: | 2016-04-05 |
| 公開(公告)號: | CN114311899B | 公開(公告)日: | 2023-10-24 |
| 發(fā)明(設計)人: | 小川善正;巖田行光;志水悠司;大石英司;小久見尚一郎;中村典永 | 申請(專利權)人: | 大日本印刷株式會社 |
| 主分類號: | B32B27/20 | 分類號: | B32B27/20;B32B33/00;H01B5/14;H01B5/16;H01B13/00 |
| 代理公司: | 北京三友知識產權代理有限公司 11127 | 代理人: | 龐東成;張志楠 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 導電性 層疊 面板 制造 方法 | ||
本發(fā)明涉及導電性層疊體、觸控面板和導電性層疊體的制造方法,其目的在于提供一種導電性層疊體,其耐溶劑性和耐擦傷性優(yōu)異,同時霧度值低、具有極高的光透過率。本發(fā)明的導電性層疊體為在最外表面具有包含導電性纖維狀填料的導電性層的導電性層疊體,其特征在于,自表面起壓入量100nm處的馬氏硬度為150N/mm2~3000N/mm2;在上述導電性層的最外表面?zhèn)鹊拿妫瑯嫵缮鲜鰧щ娦岳w維狀填料的導電材料元素的比例以原子組成百分數(shù)計為0.15at%~5.00at%。
本申請是分案申請,其原申請的國際申請?zhí)枮镻CT/JP2016/061148,中國國家申請?zhí)枮?01680029053.3,申請日為2016年4月5日,發(fā)明名稱為“導電性層疊體、觸控面板和導電性層疊體的制造方法”。
【技術領域】
本發(fā)明涉及導電性層疊體、觸控面板和導電性層疊體的制造方法。
【背景技術】
以往,作為液晶顯示屏(LCD)、等離子體顯示板(PDP)等顯示屏、觸控面板、太陽能電池等的透明電極,使用透明且導電性的薄膜,作為這樣的薄膜,例如使用了在玻璃基材上層疊由氧化銦錫(ITO)等構成的導電膜而成的透明導電性薄板。
但是,使用了玻璃基板的透明導電性薄板的可撓性差,因而近年來主要使用了導電性膜,該導電性膜是在聚酯(PET)膜或由聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN)等可撓性樹脂構成的基材膜上通過真空蒸鍍法或濺射法設置由ITO等構成的導電膜而成的。
但是,由于由ITO等構成的導電膜不具有柔軟性,因而若在由可撓性樹脂構成的基材膜上設置該導電膜,則具有容易發(fā)生龜裂的問題。
對此,例如已知有在基板上設置包含金屬納米線的透明導電性層而成的透明導電體(例如,參見專利文獻1等)。
專利文獻1所記載的透明導電體是如下制造的:將金屬納米線分散在分散溶劑中,將所得到的水性分散物涂設在基板上、優(yōu)選涂設在設于基材上的親水性聚合物層上,使其干燥,由此來形成透明導電性層、制造透明導電體,由該方法制造的透明導電體呈現(xiàn)出金屬納米線埋入基材中或親水性聚合物層中的狀態(tài)。
但是,在這樣的透明導電體中,由于埋入金屬納米線的基材等的表面處于未固化的狀態(tài),因而具有耐溶劑性和耐擦傷性差的問題。
另外,例如在專利文獻2中公開了一種制造透明導電性膜的方法,在該方法中,在基材上形成透明導電膜、進一步在該透明導電膜上設置固化膜,之后通過蝕刻進行透明導電膜的圖案化,制造出透明導電性膜。利用這樣的在透明導電膜上設置固化膜的方法,能夠期待耐溶劑性和耐擦傷性的提高。
但是,在透明導電膜上設置固化膜而成的透明導電性膜中,若固化層的厚度厚,則表面電阻增高,并且透明導電膜的蝕刻需要很長時間,因而設置在透明導電膜上的固化膜的厚度需要減薄。
但是,由于難以形成很薄的固化膜,因而多數(shù)情況下特別選擇使用成膜性良好的聚合物材料,由這樣的成膜性良好的聚合物材料構成的固化膜的硬度差,即使使用高硬度單體,膜也很薄,從而使固化不完全,具有耐擦傷性不充分的問題。
另外,還已知有通過例如所謂的所謂轉印法來制造導電性膜的方法,在該方法中,在支撐體上形成導電膜,將其轉移(寫し取る)到基材膜上(例如,參見專利文獻3、4等)。利用這樣的導電性膜,能夠期待耐溶劑性和耐擦傷性的提高。
但是,近年來,圖像顯示裝置等中所要求的光學性能的水平日益增高,因而對導電性膜也要求優(yōu)異的光學的性能,特別是要求霧度值低、透光性能極為優(yōu)異,但對于通過轉印法設置導電膜而成的現(xiàn)有導電性膜而言,這樣的光學性能很難說是充分的。
【現(xiàn)有技術文獻】
【專利文獻】
專利文獻1:日本特開2010-084173號公報
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