[發明專利]碳纖維的吸波材料的制備方法

在審

• 申請號: 202210020310.4
• 申請日: 2022-01-10
• 公開（公告）號: CN114517406A
• 公開（公告）日: 2022-05-20
• 發明（設計）人: 段思翼;石春放;段小燕;劉威
• 申請（專利權）人: 深圳鑫景源科技股份有限公司
• 主分類號: D06M11/83
• 分類號: D06M11/83;D06M11/77;D06M11/74;C23C14/06;C23C14/08;C23C14/18;C23C14/34;H01Q17/00;D06M101/40
• 代理公司: 深圳市威世博知識產權代理事務所(普通合伙) 44280
• 代理人: 何倚雯

本發明公開了一種碳纖維的吸波材料的制備方法，包括：在真空鍍膜機的至少一鍍膜靶位上放置鍍膜靶材；所述鍍膜靶材作為形成吸波材料的濺射源，每一鍍膜靶材對應于一鍍膜靶位；將所述碳纖維本體放置到真空鍍膜機的鍍膜爐中；將所述鍍膜爐抽真空至目標鍍膜真空度，并將所述鍍膜爐內溫度加熱至目標溫度；對所述鍍膜爐充入工作氣體；對所述鍍膜靶位通工作電流及施加工作電壓，并對所述鍍膜靶位上的所述鍍膜靶材進行粒子轟擊而濺鍍所述碳纖維本體。本發明的碳纖維的吸波材料的制備方法，能夠按實際應用需要來選擇鍍金屬或非金屬的電磁吸波材料，且對環境的污染小。

技術領域

本發明涉及碳纖維技術領域，尤其是涉及一種碳纖維的吸波材料的制備方法。

背景技術

傳統的碳纖維是雷達波的強反射體，必須經過特殊處理，調節降低其電阻率才能使其具有吸波性能。傳統的碳纖維改性技術主要如下：1.采用水電鍍中的化學鍍方式，在碳纖維表面鍍制鎳等磁損耗的膜層。2.利用化學氣相沉積的方式，在碳纖維表面沉積鎳、鐵氧體等磁損耗的膜層。

本申請的發明人經過研究發現：目前的化學鍍方式的碳纖維吸波材料制備技術，只能在碳纖維上鍍制金屬的電磁吸波材料，并不具有鍍制非金屬的電磁吸波材料的能力，而碳纖維在某些應用場景下需要鍍有非金屬的電磁吸波材料(例如鍍膜后的碳纖維的重量要盡可能輕的應用場合，鍍輕質的非金屬的電磁吸波材料更合適)，而且化學鍍的方式對環境的污染較大。

發明內容

針對上述問題，本發明的目的在于提供一種碳纖維的吸波材料的制備方法，其能夠按實際應用需要來選擇鍍金屬或非金屬的電磁吸波材料，且對環境的污染小。

為了實現上述目的，本發明一實施例提供了一種碳纖維的吸波材料的制備方法，包括：

在真空鍍膜機的至少一鍍膜靶位上放置鍍膜靶材；所述鍍膜靶材作為形成吸波材料的濺射源，每一鍍膜靶材對應于一鍍膜靶位；

將所述碳纖維本體放置到真空鍍膜機的鍍膜爐中；

將所述鍍膜爐抽真空至目標鍍膜真空度，并將所述鍍膜爐內溫度加熱至目標溫度；

對所述鍍膜爐充入工作氣體；

對所述鍍膜靶位通工作電流及施加工作電壓，并對所述鍍膜靶位上的所述鍍膜靶材進行粒子轟擊而濺鍍所述碳纖維本體。

作為上述方案的改進，所述鍍膜靶材包括硅靶材及至少一種非硅單質且非碳單質的吸波靶材；

在所述對所述鍍膜爐充入工作氣體之后，所述對所述鍍膜靶位通工作電流及施加工作電壓之前，所述方法還包括：

對所述鍍膜爐充入可電離出碳元素的反應氣體；

所述對所述鍍膜靶位通工作電流及施加工作電壓，包括：

在硅靶材的鍍膜靶位通工作電流及施加工作電壓，直至在所述碳纖維本體的表面上濺鍍好碳化硅層；

在每一所述吸波靶材的鍍膜靶位依次通工作電流及施加工作電壓，直至在所述碳化硅層的外表面上濺鍍好對應的吸波層。

作為上述方案的改進，所述鍍膜靶材包括硅靶材、石墨靶材及至少一種非硅單質且非碳單質的吸波靶材；

所述對所述鍍膜靶位通工作電流及施加工作電壓，包括：

在硅靶材和石墨靶材的鍍膜靶位同時通工作電流及施加工作電壓，直至在所述碳纖維本體的表面上濺鍍好碳化硅層；

在每一所述吸波靶材的鍍膜靶位依次通工作電流及施加工作電壓，直至在所述碳化硅層的外表面上濺鍍好對應的吸波層。

作為上述方案的改進，所述非硅單質且非碳單質的吸波靶材包括碳化鎢、鎳、鋇或鐵氧體。