[發(fā)明專利]電鍍液防泄露載具及其防泄漏處理工藝在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202210008165.8 | 申請日: | 2022-04-08 |
| 公開(公告)號: | CN114438572A | 公開(公告)日: | 2022-05-06 |
| 發(fā)明(設計)人: | 吳旭明;蔡良勝;陳陽;蔡緒開 | 申請(專利權)人: | 深圳市虹喜科技發(fā)展有限公司 |
| 主分類號: | C25D17/00 | 分類號: | C25D17/00;C25D17/02;C25D21/02;C25D21/04;C25D21/08;C25D21/10 |
| 代理公司: | 深圳科潤知識產(chǎn)權代理事務所(普通合伙) 44724 | 代理人: | 劉強強 |
| 地址: | 518172 廣東省深圳市*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 電鍍 泄露 及其 泄漏 處理 工藝 | ||
本發(fā)明涉及一種電鍍液防泄露載具,所述電鍍液防泄露載具包括上容腔蓋以及下容腔槽,所述上容腔蓋和所述下容腔槽互相匹配以蓋合,所述上容腔蓋和所述下容腔槽的間隙處設置有氣囊,所述電鍍液防泄露載具的頂部和底部均設置有導氣孔和導液孔,所述電鍍液防泄露載具的頂部至少有一個導液孔外接電鍍液供給設備,至少設有一個導氣孔外接氮氣供給設備,至少設有一個導氣孔外接真空泵,所述電鍍液防泄露載具的底部至少設有一個導氣孔外接氣泵以給所述氣囊充氣放氣,至少一個導液孔導通所述下容腔槽內(nèi)部以使得其內(nèi)部的電鍍液可排空。
【技術領域】
本發(fā)明涉及電鍍技術領域,具體涉及一種電鍍液防泄露載具及其防泄漏處理工藝。
【背景技術】
電子和金屬行業(yè)經(jīng)常用到電鍍,不論是鍍液的生產(chǎn)廠家或者鍍液的使用公司,就現(xiàn)有的電鍍工藝來說,不可避免地在實驗過程或者電鍍過程中產(chǎn)生的大量廢氣,廢氣主要有機廢氣、酸堿廢氣、鉻酸霧、金屬粉塵和各種電鍍槽液加熱而散發(fā)出的多種廢氣,如含氰廢氣、含氨廢氣等。這些廢氣對人體的呼吸道、眼睛、皮膚都有傷害,實驗人員或者電鍍電鍍工序員長期以往接觸該類廢氣,造成身體的巨大傷害,甚至一些排放的二氧化硫、氮氧化物,在空氣中對植物的生長都有危害作用,甚至殺死植物。
因此,廢氣處理是國內(nèi)外刻不容緩所需解決的問題,現(xiàn)今處理廢氣往往是采用車間或者廢氣產(chǎn)生設施的頂部設置吸風機,將其廢氣鼓入至凈化塔,再通過一系列的光催化、等離子處理、煙囪高空排放等進行處理,但是這樣的方式僅僅關注了整個生態(tài)系統(tǒng)的保護,確忽視了以人為本的根源性問題,比如現(xiàn)有方式的反應槽,均采用固定位置固定形態(tài),電鍍液需要經(jīng)常更換并清洗反應槽,沉積在反應槽底部的氣體會堆積對人體造成傷害,而很多車間僅僅采用定期檢測車間廢氣濃度是否符合標準,但這樣無疑是治標不治本的。
【發(fā)明內(nèi)容】
為克服現(xiàn)有技術存在的問題,本發(fā)明提供一種電鍍液防泄露載具及其防泄漏處理工藝。
本發(fā)明解決技術問題的方案是提供一種電鍍液防泄露載具,用于承載電鍍液并起到防泄漏的作用,所述電鍍液防泄露載具包括上容腔蓋以及下容腔槽,所述上容腔蓋和所述下容腔槽互相匹配以蓋合,所述上容腔蓋和所述下容腔槽的間隙處設置有氣囊,所述電鍍液防泄露載具的頂部和底部均設置有導氣孔和導液孔,所述電鍍液防泄露載具的頂部至少有一個導液孔外接電鍍液供給設備,至少設有一個導氣孔外接氮氣供給設備,至少設有一個導氣孔外接真空泵,所述電鍍液防泄露載具的底部至少設有一個導氣孔外接氣泵以給所述氣囊充氣放氣,至少一個導液孔導通所述下容腔槽內(nèi)部以使得其內(nèi)部的電鍍液可排空。
優(yōu)選地,所述上容腔蓋包括頂板、上殼體以及吸風罩,所述吸風罩內(nèi)嵌至上殼體的內(nèi)壁處并和所述上殼體相互適配,頂板設置于上容腔蓋背離下容腔槽的一側,頂板上和吸風罩上均設置有對應的導氣孔和導液孔。
優(yōu)選地,所述導液孔外接中和液體供應裝置,當電鍍反應完成后,即可通過向電鍍液中施加中和液體進行淋洗。
優(yōu)選地,所述下容腔槽包括下殼體和內(nèi)槽體,所述內(nèi)槽體放置于下殼體內(nèi)部用于承載電鍍液,所述氣囊設置于所述內(nèi)殼體的外壁上,任意方向上,下殼體的截面尺寸要大于內(nèi)槽體的截面尺寸,以使得所述內(nèi)槽體放置于所述下殼體內(nèi)部時,所述下殼體可完全包容所述內(nèi)槽體,且所述氣囊和所述下殼體的內(nèi)壁之間留有間隙,所述上容腔蓋蓋合所述下容腔槽時,通過所述上殼體的一部分插入所述間隙中。
優(yōu)選地,所述下殼體內(nèi)部的底側設置有半導體制冷片,所述半導體制冷片的底面距離地面10mm~12mm,當所述內(nèi)槽體放置于所述下殼體內(nèi)部時,所述內(nèi)槽體放置于所述半導體制冷片上。
優(yōu)選地,所述電鍍液防泄露載具進一步包括電鍍機構,所述電鍍機構可拆卸式連接于所述內(nèi)槽體內(nèi)部,所述電鍍機構包括安裝板、驅動電機、攪拌滾輪以及電極,其中所述安裝板、驅動電機、攪拌滾輪以及電極均采用固定連接。
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