[發明專利]電鍍液防泄露載具及其防泄漏處理工藝

在審

• 申請號: 202210008165.8
• 申請日: 2022-04-08
• 公開（公告）號: CN114438572A
• 公開（公告）日: 2022-05-06
• 發明（設計）人: 吳旭明;蔡良勝;陳陽;蔡緒開
• 申請（專利權）人: 深圳市虹喜科技發展有限公司
• 主分類號: C25D17/00
• 分類號: C25D17/00;C25D17/02;C25D21/02;C25D21/04;C25D21/08;C25D21/10
• 代理公司: 深圳科潤知識產權代理事務所(普通合伙) 44724
• 代理人: 劉強強

1.一種電鍍液防泄露載具，用于承載電鍍液并起到防泄漏的作用，其特征在于，所述電鍍液防泄露載具包括上容腔蓋以及下容腔槽，所述上容腔蓋和所述下容腔槽互相匹配以蓋合，所述上容腔蓋和所述下容腔槽的間隙處設置有氣囊，所述電鍍液防泄露載具的頂部和底部均設置有導氣孔和導液孔，所述電鍍液防泄露載具的頂部至少有一個導液孔外接電鍍液供給設備，至少設有一個導氣孔外接氮氣供給設備，至少設有一個導氣孔外接真空泵，所述電鍍液防泄露載具的底部至少設有一個導氣孔外接氣泵以給所述氣囊充氣放氣，至少一個導液孔導通所述下容腔槽內部以使得其內部的電鍍液可排空。

2.如權利要求1所述的電鍍液防泄露載具，其特征在于，所述上容腔蓋包括頂板、上殼體以及吸風罩，所述吸風罩內嵌至上殼體的內壁處并和所述上殼體相互適配，頂板設置于上容腔蓋背離下容腔槽的一側，頂板上和吸風罩上均設置有對應的導氣孔和導液孔。

3.如權利要求1所述的電鍍液防泄露載具，其特征在于，所述導液孔外接中和液體供應裝置，當電鍍反應完成后，即可通過向電鍍液中施加中和液體進行淋洗。

4.如權利要求2所述的電鍍液防泄露載具，其特征在于，所述下容腔槽包括下殼體和內槽體，所述內槽體放置于下殼體內部用于承載電鍍液，所述氣囊設置于所述內殼體的外壁上，任意方向上，下殼體的截面尺寸要大于內槽體的截面尺寸，以使得所述內槽體放置于所述下殼體內部時，所述下殼體可完全包容所述內槽體，且所述氣囊和所述下殼體的內壁之間留有間隙，所述上容腔蓋蓋合所述下容腔槽時，通過所述上殼體的一部分插入所述間隙中。

5.如權利要求4所述的電鍍液防泄露載具，其特征在于，所述下殼體內部的底側設置有半導體制冷片，所述半導體制冷片的底面距離地面10mm～12mm，當所述內槽體放置于所述下殼體內部時，所述內槽體放置于所述半導體制冷片上。

6.如權利要求4所述的電鍍液防泄露載具，其特征在于，所述電鍍液防泄露載具進一步包括電鍍機構，所述電鍍機構可拆卸式連接于所述內槽體內部，所述電鍍機構包括安裝板、驅動電機、攪拌滾輪以及電極，其中所述安裝板、驅動電機、攪拌滾輪以及電極均采用固定連接。

7.如權利要求6所述的電鍍液防泄露載具，其特征在于，所述攪拌滾輪設置成空心結構并在其上開有一水槽，當所述攪拌滾輪旋轉時，電鍍液會從所述水槽灌入所述攪拌滾輪內部然后倒出，所述電極包括陽極和陰級，所述攪拌滾輪沿著陽極向陰極的方向順時針旋轉。

8.一種電鍍液防泄露載具的防泄漏處理工藝，其特征在于，包括以下步驟：

步驟S1:提供一上容腔蓋和一放置有下容腔槽，上容腔蓋和下容腔槽可蓋合形成一空間，提供一氣囊并將其設置于上容腔蓋和下容腔槽的空隙處；

步驟S2:工作狀態時，以所述空間作為電鍍反應槽并向其內注入電鍍液，通過氣囊充氣膨脹以封閉上容腔蓋和下容腔槽的空隙，并同時將空間內的反應氣體從頂部抽出；及

步驟S3:電鍍結束后，從底部排出鍍液并從上至下向所述空間輸入惰性氣體，所述內部空間達到預設的壓力閥值后，抽出惰性氣體將所述空間內變成真空狀態持續預設的時間。

9.如權利要求8所述的電鍍液防泄露載具的防泄漏處理工藝，其特征在于，進一步包括步驟S4；

步驟S4：氣囊放氣，上容腔蓋被移出，下容腔槽移動至下一工序。