[發明專利]一種微波等離子體控制系統和方法

在審

• 申請號: 202210005959.9
• 申請日: 2022-01-04
• 公開（公告）號: CN114334596A
• 公開（公告）日: 2022-04-12
• 發明（設計）人: 何磊;李俊宏;李家瑞;韋明勉;邱銀娟;李東亞
• 申請（專利權）人: 成都沃特塞恩電子技術有限公司
• 主分類號: H01J37/32
• 分類號: H01J37/32
• 代理公司: 北京卓恒知識產權代理事務所(特殊普通合伙) 11394
• 代理人: 孔鵬

本發明實施例提出一種微波等離子體控制系統和方法，包括均與主控裝置通信連接的氣路控制裝置、真空壓力控制裝置和水路控制裝置；主控裝置用于根據目標參數和采集的氣路控制裝置、真空壓力控制裝置和水路控制裝置的工作數據，向氣路控制裝置、真空壓力控制裝置和水路控制裝置分別發送對應的控制指令；氣路控制裝置用于根據控制指令控制氣體開關和氣體流量控制，并根據其工作狀態實時調整氣體流量配比；真空壓力控制裝置用于根據控制指令控制腔內真空狀態、樣品臺位置、墻板位置和腔蓋開關；水路控制裝置用于根據控制指令控制樣品臺溫度和水流量。其能夠保證籽晶表面均勻沉積，并提高生產效率。

技術領域

本發明涉及微波等離子體技術領域，具體而言，涉及一種微波等離子體控制系統和方法。

背景技術

微波等離子體化學氣相沉積裝置適合于金剛石生產，通過等離子化的反應氣體在托盤的籽晶表面沉積以形成金剛石膜。為實現批量生產，托盤上會按照陣列放置籽晶。如何保證籽晶表面均勻沉積和提高生產效率為目前亟待解決的問題。

發明內容

本發明的目的在于提供一種微波等離子體控制系統和方法，其能夠保證籽晶表面均勻沉積，并提高生產效率。

為了實現上述目的，本發明實施例采用的技術方案如下：

第一方面，本發明實施例提供了一種微波等離子體控制系統，包括主控裝置、氣路控制裝置、真空壓力控制裝置和水路控制裝置，所述主控裝置與所述氣路控制裝置、所述真空壓力控制裝置和所述水路控制裝置均通信連接；

所述主控裝置用于根據目標參數和采集的所述氣路控制裝置、所述真空壓力控制裝置和所述水路控制裝置的工作數據，向所述氣路控制裝置、所述真空壓力控制裝置和所述水路控制裝置分別發送對應的控制指令；

所述氣路控制裝置用于根據所述控制指令控制氣體開關和氣體流量控制，并根據其工作狀態實時調整氣體流量配比；

所述真空壓力控制裝置用于根據所述控制指令控制腔內真空狀態、樣品臺位置、墻板位置和腔蓋開關；

所述水路控制裝置用于根據所述控制指令控制所述樣品臺溫度和水流量。

進一步地，所述氣路控制裝置還用于判斷與所述主控裝置之間的通訊連接是否成功，若失敗，則檢查通信參數是否異常；

若成功，所述氣路控制裝置還用于判斷所述控制指令為讀指令或寫指令，若所述控制指令為讀指令，則獲取所述氣體開關的狀態信息和氣體反饋值，并向所述主控裝置反饋所述氣體開關的狀態信息和氣體反饋值；

若所述控制指令為寫指令，則根據所述控制指令控制氣體流量配比和所述氣體開關的開關。

進一步地，所述真空壓力控制裝置還用于采集所述腔內真空值，并將所述真空值進行模數轉換，并向所述主控裝置反饋轉換后的真空值。

進一步地，所述真空壓力控制裝置還用于判斷與所述主控裝置之間的通訊連接是否成功，若失敗，則檢查通信參數是否異常；

若成功，所述真空壓力控制裝置還用于判斷所述控制指令為讀指令或寫指令，若所述控制指令為讀指令，則獲取相序狀態，并向所述主控裝置反饋所述相序狀態；

若所述控制指令為寫指令，則根據所述控制指令控制所述樣品臺位置、墻板位置和腔蓋開關，并將所述樣品臺的狀態信息、所述腔內真空狀態信息反饋至所述主控裝置。

進一步地，所述水路控制裝置還用于判斷與所述主控裝置之間的通訊連接是否成功，若失敗，則檢查通信參數是否異常；

若成功，所述水路控制裝置還用于判斷所述控制指令為讀指令或寫指令，若所述控制指令為讀指令，則獲取水流量信息和溫度信息，并將所述水流量信息和溫度信息反饋至所述主控裝置；

若所述控制指令為寫指令，則根據所述控制指令控制所述樣品臺溫度和水流量。