[發明專利]一種微波等離子體控制系統和方法

在審

• 申請號: 202210005959.9
• 申請日: 2022-01-04
• 公開（公告）號: CN114334596A
• 公開（公告）日: 2022-04-12
• 發明（設計）人: 何磊;李俊宏;李家瑞;韋明勉;邱銀娟;李東亞
• 申請（專利權）人: 成都沃特塞恩電子技術有限公司
• 主分類號: H01J37/32
• 分類號: H01J37/32
• 代理公司: 北京卓恒知識產權代理事務所(特殊普通合伙) 11394
• 代理人: 孔鵬

1.一種微波等離子體控制系統，其特征在于，包括主控裝置、氣路控制裝置、真空壓力控制裝置和水路控制裝置，所述主控裝置與所述氣路控制裝置、所述真空壓力控制裝置和所述水路控制裝置均通信連接；

所述主控裝置用于根據目標參數和采集的所述氣路控制裝置、所述真空壓力控制裝置和所述水路控制裝置的工作數據，向所述氣路控制裝置、所述真空壓力控制裝置和所述水路控制裝置分別發送對應的控制指令；

所述氣路控制裝置用于根據所述控制指令控制氣體開關和氣體流量控制，并根據其工作狀態實時調整氣體流量配比；

所述真空壓力控制裝置用于根據所述控制指令控制腔內真空狀態、樣品臺位置、墻板位置和腔蓋開關；

所述水路控制裝置用于根據所述控制指令控制所述樣品臺溫度和水流量。

2.如權利要求1所述的微波等離子體控制系統，其特征在于，所述氣路控制裝置還用于判斷與所述主控裝置之間的通訊連接是否成功，若失敗，則檢查通信參數是否異常；

若成功，所述氣路控制裝置還用于判斷所述控制指令為讀指令或寫指令，若所述控制指令為讀指令，則獲取所述氣體開關的狀態信息和氣體反饋值，并向所述主控裝置反饋所述氣體開關的狀態信息和氣體反饋值；

若所述控制指令為寫指令，則根據所述控制指令控制氣體流量配比和所述氣體開關的開關。

3.如權利要求1所述的微波等離子體控制系統，其特征在于，所述真空壓力控制裝置還用于采集所述腔內真空值，并將所述真空值進行模數轉換，并向所述主控裝置反饋轉換后的真空值。

4.如權利要求3所述的微波等離子體控制系統，其特征在于，所述真空壓力控制裝置還用于判斷與所述主控裝置之間的通訊連接是否成功，若失敗，則檢查通信參數是否異常；

若成功，所述真空壓力控制裝置還用于判斷所述控制指令為讀指令或寫指令，若所述控制指令為讀指令，則獲取相序狀態，并向所述主控裝置反饋所述相序狀態；

若所述控制指令為寫指令，則根據所述控制指令控制所述樣品臺位置、墻板位置和腔蓋開關，并將所述樣品臺的狀態信息、所述腔內真空狀態信息反饋至所述主控裝置。

5.如權利要求1所述的微波等離子體控制系統，其特征在于，所述水路控制裝置還用于判斷與所述主控裝置之間的通訊連接是否成功，若失敗，則檢查通信參數是否異常；

若成功，所述水路控制裝置還用于判斷所述控制指令為讀指令或寫指令，若所述控制指令為讀指令，則獲取水流量信息和溫度信息，并將所述水流量信息和溫度信息反饋至所述主控裝置；

若所述控制指令為寫指令，則根據所述控制指令控制所述樣品臺溫度和水流量。

6.如權利要求1所述的微波等離子體控制系統，其特征在于，所述微波等離子體控制系統還包括視覺交互裝置，所述視覺交互裝置與所述主控裝置通信連接；

所述視覺交互裝置用于實時采集所述腔內的圖像信息，并將所述圖像信息發送至所述主控裝置；

所述主控裝置還用于根據所述圖像信息進行運算處理獲得籽晶生長狀態信息。

7.如權利要求1所述的微波等離子體控制系統，其特征在于，所述主控裝置還用于響應用戶操作，獲得所述目標參數；

或所述主控裝置還用于根據預先設置的自動工藝流程，獲得所述目標參數。