[發明專利]用于控制行車道上的車輛的橫向位置的方法在審
| 申請號: | 202180071881.4 | 申請日: | 2021-09-23 |
| 公開(公告)號: | CN116507542A | 公開(公告)日: | 2023-07-28 |
| 發明(設計)人: | R·奎利亞德 | 申請(專利權)人: | 雷諾股份公司;日產自動車株式會社 |
| 主分類號: | B60W30/12 | 分類號: | B60W30/12 |
| 代理公司: | 北京市中咨律師事務所 11247 | 代理人: | 雷明;秘鳳華 |
| 地址: | 法國布洛*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 用于 控制 行車道 車輛 橫向 位置 方法 | ||
披露了一種用于控制行車道上的車輛(1)的橫向位置的方法,該方法包括:?遵循第一參考軌跡(TR1)的第一控制步驟,以及?在該車輛距該行車道的邊緣的橫向距離小于第一閾值時警示該駕駛員的步驟,然后是?檢測施加到該車輛的方向盤的命令的步驟,然后是?遵循第二參考軌跡(TR2)的第二控制步驟,該第二軌跡是根據施加到該方向盤的命令來確定的,以及?在該車輛距該行車道的邊緣的橫向距離小于第二閾值時警示該駕駛員的步驟,該第二閾值小于該第一閾值。
技術領域
本發明涉及一種用于控制行車道上的車輛的橫向位置的方法。本發明還涉及一種包括用于實施這種控制方法的裝置的機動車輛。
背景技術
車道居中輔助(LCA)系統旨在使自主或半自主車輛駕駛和保持在其行駛的車道中心。
文件DE102011076418和EP?2248710描述了這種系統。
這些系統與檢測裝置協作,該檢測裝置能夠識別行車道的橫向界限,并且然后確定車輛在這兩個橫向界限之間的等距定位,即,使車輛位于行車道的中心。在某些駕駛配置下,使用這種系統可能顯得不自然或不適宜,例如,當相鄰車道中存在卡車或者當車輛在車道中偏移以為摩托車或緊急車輛創造通道時。在這些特殊情況期間,駕駛員可能希望其車輛在保持在同一行車道中的同時暫時偏移。
已知在“靈活”輔助系統中,駕駛員施加在方向盤上的扭矩總是影響車輛在車道中的位置。因此,駕駛員可以對方向盤施加扭矩,以使其車輛向車道的邊緣偏移。在此操縱期間,輔助系統會對抗駕駛員的要求以使車輛返回車道中心。這種阻力令人不舒服,使人產生焦慮,并且可能導致定位錯誤和/或與周圍車輛的安全距離不足。此外,車輛在行車道上的偏心定位會導致播放由管理駕駛輔助系統的標準強加的警示消息。這種警示消息也會使人產生焦慮而且是不恰當的。
申請WO?03091813也披露了一種用于機動車輛的引導系統,該引導系統與能夠檢測相鄰行車道中的周圍物體的傳感器協作。然后根據這些物體的跟蹤數據來調整車輛的橫向位置。這種方法實施起來很復雜,并且不是在所有情況下都令人滿意。例如,如果交通繁忙,則該系統會受到許多軌跡變化的影響,這可能造成令乘客不舒服的情況。
發明介紹
本發明的目的是提供一種橫向位置控制方法,該橫向位置控制方法克服了上述缺點并改進了現有技術中已知的控制方法。
更準確地說,本發明的一個主題是一種令人感到舒適、實施起來簡單且令人安心的橫向位置控制方法。
發明內容
本發明涉及一種用于控制行車道上的車輛的橫向位置的方法,該控制方法包括:
-遵循第一參考軌跡自動調節該車輛的橫向位置的第一步驟,以及
-監測該車輛距該行車道的邊緣的橫向距離的第一步驟,該第一監測步驟包括在該車輛距該行車道的邊緣的橫向距離小于或等于第一閾值時警示該駕駛員的子步驟,然后是
-檢測由駕駛員施加到該車輛的方向盤以使該車輛向該行車道的邊緣移動的命令的步驟,然后是
-停止該第一監測步驟,
-遵循第二參考軌跡自動控制該車輛的橫向位置的第二步驟,該第二軌跡是根據由該駕駛員施加到該方向盤的命令來確定的,以及
-監測該車輛距該行車道的邊緣的橫向距離的第二步驟,該第二監測步驟包括在該車輛距該行車道的邊緣的橫向距離小于或等于第二閾值時警示該駕駛員的子步驟,該第二閾值嚴格小于該第一閾值。
該控制方法可以包括根據該行車道的寬度并根據該行車道上的該車輛的橫向速度來計算該第一閾值的子步驟,和/或該控制方法可以包括根據該行車道的寬度并根據該行車道上的該車輛的橫向速度來計算該第二閾值的子步驟。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于雷諾股份公司;日產自動車株式會社,未經雷諾股份公司;日產自動車株式會社許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/202180071881.4/2.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 上一篇:治療黑皮質素-4受體通路相關病癥的方法
- 下一篇:共形氧化硅膜沉積





