[發明專利]超純水供給系統、控制裝置以及程序

在審

• 申請號: 202180055028.3
• 申請日: 2021-08-23
• 公開（公告）號: CN116133762A
• 公開（公告）日: 2023-05-16
• 發明（設計）人: 蔦野恭平;中居巧;菅原廣
• 申請（專利權）人: 奧加諾株式會社
• 主分類號: B08B3/14
• 分類號: B08B3/14
• 代理公司: 北京匯思誠業知識產權代理有限公司 11444
• 代理人: 張黎;龔敏

超純水供給系統具有：流通管(210)，使超純水從超純水制造設備(100)流向清洗裝置(120)；處理單元(110)，設置于流通管(210)上；流通管(220)，在超純水制造設備(100)與處理單元(110)之間從流通管(210)分支出來，使超純水流向清洗裝置(120)；水量控制部(310)，設置于流通管(220)從流通管(210)分支的第一分支部；水量控制部(320)，對從流通管(220)流向清洗裝置(120)的超純水進行控制；比較部(510)，比較第一量與第二量，第一量是由處理單元(110)處理后的超純水中含有的雜質的量，所述第二量是未被處理單元(110)處理的超純水中含有的雜質的量；以及流路控制部(520)，根據比較的結果來控制水量控制部(310、320)。

技術領域

本發明涉及超純水供給系統、控制裝置以及程序。

背景技術

一般而言，從超純水制造設備向使用點(例如，半導體清洗裝置內的使用場所)供給的超純水的水質滿足給定的基準。然而，還存在如下情況：以來自供給配管的離子性金屬雜質的溶出等為起因，從超純水制造設備向使用點供給的超純水的水質不滿足該基準。為了應對這樣的情況，考慮了在超純水制造設備與使用點之間設置對超純水中含有的雜質進行去除的處理單元的技術(例如，參照專利文獻1)。

現有技術文獻

專利文獻

專利文獻1：國際公開第2015/045975號公報

發明內容

(發明要解決的課題)

在對比文件1中，即使在從超純水制造設備向使用點供給的超純水的水質滿足給定的基準的情況下，也將從超純水制造設備供給的水在供給至使用點前由處理單元進行了處理。故而，存在未能高效地利用供給超純水的系統這樣的問題點。

本發明的目的在于，提供能高效地利用供給超純水的系統的超純水供給系統、控制裝置以及程序。

(用于解決課題的技術方案)

本發明涉及一種超純水供給系統，具有：第一流通管，其使超純水從超純水制造設備流向清洗裝置；處理單元，其設置于所述第一流通管上，對所述超純水進行處理；第二流通管，其在所述超純水制造設備與所述處理單元之間從所述第一流通管分支出來，使超純水流向所述清洗裝置；第一水量控制部，其設置于所述第二流通管從所述第一流通管分支的第一分支部；第二水量控制部，其對從所述第二流通管流向所述清洗裝置的超純水進行控制；比較部，其比較第一量與第二量，所述第一量是由所述處理單元處理后的超純水中含有的雜質的量，所述第二量是未被所述處理單元處理的超純水中含有的雜質的量；以及流路控制部，其根據所述比較部的比較結果，來控制所述第一水量控制部和所述第二水量控制部。

另外，本發明涉及一種控制裝置，具有：第一水量控制部，其設置于第二流通管從第一流通管分支的第一分支部，所述第一流通管使超純水從超純水制造設備流向清洗裝置，所述第二流通管在所述超純水制造設備與設置于所述第一流通管上且對所述超純水進行處理的處理單元之間從所述第一流通管分支出來，且使超純水流向所述清洗裝置；第二水量控制部，其對從所述第二流通管流向所述清洗裝置的超純水進行控制；比較部，其比較第一量與第二量，所述第一量是經過了所述處理單元的第一點上的所述超純水中含有的雜質的量，所述第二量是從所述超純水制造設備流過來且未被所述處理單元處理的超純水中含有的雜質的量；以及流路控制部，其根據所述比較部的比較結果來控制所述第一水量控制部和所述第二水量控制部。

另外，本發明涉及一種程序，用于使計算機執行如下過程：比較過程，比較第一量與第二量，所述第一量是經過了處理單元的第一點上的所述超純水中含有的雜質的量，所述處理單元設置于使超純水從超純水制造設備流向清洗裝置的第一流通管上，且對所述超純水進行處理，所述第二量是從所述超純水制造設備流過來且未被所述處理單元處理的超純水中含有的雜質的量；以及控制過程，根據所述比較的結果，來對所述第一流通管中流動的超純水和所述第二流通管中流動的超純水進行控制。

(發明效果)