[發明專利]超純水供給系統、控制裝置以及程序

在審

• 申請號: 202180055028.3
• 申請日: 2021-08-23
• 公開（公告）號: CN116133762A
• 公開（公告）日: 2023-05-16
• 發明（設計）人: 蔦野恭平;中居巧;菅原廣
• 申請（專利權）人: 奧加諾株式會社
• 主分類號: B08B3/14
• 分類號: B08B3/14
• 代理公司: 北京匯思誠業知識產權代理有限公司 11444
• 代理人: 張黎;龔敏

1.一種超純水供給系統，具有：

第一流通管，其使超純水從超純水制造設備流向清洗裝置；

處理單元，其設置于所述第一流通管上，對所述超純水進行處理；

第二流通管，其在所述超純水制造設備與所述處理單元之間從所述第一流通管分支出來，使超純水流向所述清洗裝置；

第一水量控制部，其設置于所述第二流通管從所述第一流通管分支的第一分支部；

第二水量控制部，其對從所述第二流通管流向所述清洗裝置的超純水進行控制；

比較部，其比較第一量與第二量，所述第一量是由所述處理單元處理后的超純水中含有的雜質的量，所述第二量是未被所述處理單元處理的超純水中含有的雜質的量；以及

流路控制部，其根據所述比較部的比較結果，來控制所述第一水量控制部和所述第二水量控制部。

2.根據權利要求1所述的超純水供給系統，其中，

所述超純水供給系統具有第二分支部，所述第二分支部分支為使超純水從所述第二流通管向所述超純水制造設備返回的第三流通管、以及使超純水從所述第二流通管流向所述清洗裝置的第四流通管，

所述第二水量控制部設置于所述第二分支部。

3.根據權利要求2所述的超純水供給系統，其中，

所述第一水量控制部具有對從所述第一流通管流向所述處理單元的水量進行調整的第一閥、以及對從所述第一流通管流向所述第二流通管的水量進行調整的第二閥，

所述第二水量控制部具有對從所述第二流通管流向所述第三流通管的水量進行調整的第三閥、以及對從所述第二流通管流向所述第四流通管的水量進行調整的第四閥，

所述流路控制部控制所述第一閥、所述第二閥、所述第三閥以及所述第四閥的每一個的開閉。

4.根據權利要求3所述的超純水供給系統，其中，

在所述第一量少于所述第二量、且所述第一量與所述第二量的差分為給定值以上的情況下，所述流路控制部使所述第一閥、所述第二閥以及所述第三閥成為打開狀態，且使所述第四閥成為關閉狀態，在除此以外的情況下，所述流路控制部使所述第一閥以及所述第三閥成為關閉狀態，且使所述第二閥以及所述第四閥成為打開狀態。

5.根據權利要求2至4中任一項所述的超純水供給系統，其中，

所述超純水供給系統具有：

第五流通管，其在對所述第一量進行測量的第一量測量點和所述第四流通管與所述第一流通管的合流點之間從所述第一流通管分支出來，使超純水流向所述超純水制造設備；以及

第五閥，其對從所述第一流通管流向所述第五流通管的水量進行調整。

6.根據權利要求1至5中任一項所述的超純水供給系統，其中，

所述超純水供給系統具有：

第一測量部，其測量所述第一量；以及

第二測量部，其測量所述第二量，

所述第一測量部以及所述第二測量部包含對所述雜質進行捕捉的離子交換體。

7.根據權利要求6所述的超純水供給系統，其中，

所述離子交換體是整塊狀離子交換體。

8.根據權利要求1至5中任一項所述的超純水供給系統，其中，

所述超純水供給系統具有：

第一測量部，其測量所述第一量；以及

第二測量部，其測量所述第二量，

所述第一測量部以及所述第二測量部包含能將直徑10nm以上的微粒作為所述雜質進行捕捉的過濾膜和離心過濾機構。

9.根據權利要求1至8中任一項所述的超純水供給系統，其中，

所述處理單元具有：

彼此并聯連接的多個去除構件，從流入該處理單元的所述超純水中去除所述雜質；以及

第六閥，其使所述超純水在所述多個去除構件當中的任一個去除構件中流通。