[發明專利]用于腔室排氣清潔的清潔單元

在審

• 申請號: 202180039930.6
• 申請日: 2021-05-14
• 公開（公告）號: CN115699246A
• 公開（公告）日: 2023-02-03
• 發明（設計）人: 凱爾文·陳;菲利普·艾倫·克勞斯;蔡泰正;哈恩·阮;阿納塔·蘇比瑪尼
• 申請（專利權）人: 應用材料公司
• 主分類號: H01J37/32
• 分類號: H01J37/32;H01L21/67
• 代理公司: 北京律誠同業知識產權代理有限公司 11006
• 代理人: 徐金國;趙靜

本文揭露的實施例包括一種用于腔室的排氣管線的清潔模塊。在一實施例中，移動清潔模塊包括：腔室，其中所述腔室包括第一開口及第二開口。在一實施例中，清潔模塊進一步包括蓋，所述蓋密封所述第一開口。在一實施例中，所述蓋包括：介電板；介質諧振器，所述介質諧振器耦接至所述介電板；單極天線，所述單極天線安置于進入所述介質諧振器中的孔中；及導電層，所述導電層環繞所述介質諧振器。

相關申請的交叉引用

本申請要求享有于2020年6月10日遞交的美國非臨時申請第16/898,244號的優先權，在此通過引用將該美國非臨時申請的整體內容并入本文。

技術領域

實施例涉及真空腔室，且更特定地涉及用于腔室排氣的清潔單元。

背景技術

在半導體制造中，腔室處理可在排氣管線中產生不需要的沉積物。不需要的沉積物可隨著時間累積并對工具性能產生負面影響。例如，該累積物可使排氣管線傳導性降低及/或沿著排氣管線的部件發生故障。排氣管線中的節流閥特別容易受到這些累積物的影響。

目前沒有用于從節流閥或排氣管線的其他部件清潔沉積物的解決方案。目前唯一可用的補救措施是更換節流閥。更換節流閥需要處理工具的大量停機時間，因此維護成本高。

發明內容

本文揭露的實施例包括一種用于腔室的排氣管線的清潔模塊。在一實施例中，移動清潔模塊包括：腔室，其中該腔室包括第一開口及第二開口。在一實施例中，清潔模塊進一步包括蓋，該蓋密封該第一開口。在一實施例中，該蓋包括：介電板；介質諧振器，該介質諧振器耦接至該介電板；單極天線，該單極天線安置于進入該介質諧振器中的孔中；及導電層，該導電層環繞該介質諧振器。

本文揭露的額外實施例包括一種用于腔室的排氣管線的移動清潔組件。在一實施例中，移動清潔組件包括：推車(cart)；及固態電子裝置模塊，該固態電子裝置模塊在該推車上，其中該固態電子裝置模塊被配置為產生微波電磁輻射。在一實施例中，該組件進一步包括：處理器，該處理器在該推車上且電耦接至該固態電子裝置模塊；及等離子體清潔模塊。在一實施例中，該等離子體清潔模塊電耦接至該固態電子裝置模塊。

本文揭露的額外實施例包括一種在排氣管線上具有清潔模塊的處理工具。在一實施例中，處理工具包括：第一腔室，該第一腔室具有用于支撐基板的基座；及排氣管線，該排氣管線流體耦接至該第一腔室。在一實施例中，該排氣管線包括：泵；主要排氣管線，該主要排氣管線在該第一腔室與該泵之間；節流閥，該節流閥位于該主要排氣管線中；及清潔管線，該清潔管線流體耦接至該主要排氣管線。在一實施例中，第二腔室流體耦接至該清潔管線，且提供等離子體源以用于在該第二腔室中產生等離子體。

以上概述不包括所有實施例的詳盡列表。可預期的是，所有系統和方法都被包括在內，可從上面概括的各種實施例以及下方的實施方式中所揭露及在與本申請案一起提交的權利要求中特別指出的實施例的所有合適的組合來實踐這些系統和方法。這些組合具有以上概述中未特定敘述的特定優點。

附圖說明

圖1A是根據一實施例的包括耦接到排氣裝置的等離子體清潔模塊的處理工具的截面圖。

圖1B是根據一實施例的處理工具的截面圖，該處理工具包括模塊化微波等離子體源和耦接到排氣裝置的等離子體清潔模塊。

圖2是根據一實施例的用于產生微波電磁輻射的固態電子裝置的方塊圖。

圖3A是根據一實施例的等離子體清潔模塊的截面圖。

圖3B是根據一實施例的等離子體清潔模塊的截面圖，該等離子體清潔模塊具有作為整體結構的介電板和介質諧振器。

圖3C是根據一實施例的具有環繞介質諧振器的導電層的等離子體清潔模塊的截面圖，該導電層包括多個層。

圖3D是根據一實施例的具有多個介質諧振器的等離子體清潔模塊的截面圖。