[發明專利]對準方法以及相關的對準和光刻設備

在審

• 申請號: 202180037591.8
• 申請日: 2021-05-11
• 公開（公告）號: CN115668068A
• 公開（公告）日: 2023-01-31
• 發明（設計）人: E·M·赫爾斯埃博;F·G·C·比基恩
• 申請（專利權）人: ASML荷蘭有限公司
• 主分類號: G03F9/00
• 分類號: G03F9/00
• 代理公司: 中科專利商標代理有限責任公司 11021
• 代理人: 胡良均

1.一種在對準標記上執行位置測量的方法，所述對準標記至少包括具有沿第一方向的周期性的方向的第一周期性結構；所述方法包括：

獲得與所述位置測量相關的信號數據；并且

擬合所述信號數據以確定位置值；其中，擬合步驟使用以下中的一者：

調制擬合；或者

背景包絡周期性擬合。

2.根據權利要求1所述的方法，其中，所述擬合步驟使用希爾伯特調制擬合。

3.根據權利要求2所述的方法，其中，所述希爾伯特調制擬合包括對經過頻帶濾波的所述信號數據的希爾伯特變換的復解調。

4.根據權利要求1所述的方法，其中，所述擬合步驟使用正弦調制擬合。

5.根據權利要求1所述的方法，其中，所述擬合包括所述背景包絡周期性擬合，并且其中，所述背景包絡周期性擬合包括利用包絡周期性信號和背景信號對描述所述信號數據的周期性信號模型進行擴展。

6.根據權利要求5所述的方法，其中，所述對準標記包括雙向對準標記，所述雙向對準標記包括與第二周期性結構一起布置的所述第一周期性結構，所述第二周期性結構具有在與所述第一方向不同的第二方向上的周期性的方向；并且，所述方法還包括相對于所述第一方向和所述第二方向傾斜地掃描所述對準標記，使得通過使所述掃描方向中具有不同的有效節距，所述信號數據的第一方向分量與所述信號數據的第二方向分量相區分。

7.根據權利要求5所述的方法，其中，所述對準標記包括雙向對準標記，所述雙向對準標記包括四個三角形區段或者被布置為形成正方形或矩形標記的子標記，其中所述子標記包括兩個所述第一周期性結構和兩個第二周期性結構，所述第二周期性結構具有在與所述第一方向不同的第二方向上的周期性的方向；并且，所述方法還包括相對于所述第一方向和所述第二方向傾斜地掃描所述對準標記，以增加第一方向分量與第二方向分量之間的差頻。

8.根據權利要求6或7所述的方法，包括對由于與所述信號數據中的第一頻率與所述信號數據中的第二頻率的差相對應的差頻處的振動而導致的信號干擾應用校正，所述第一頻率與所述不同的有效節距中的第一有效節距相關，并且所述第二頻率與所述不同的有效節距中的第二有效節距相關。

9.根據權利要求8所述的方法，其中，通過將所述差頻處的所述信號干擾添加到所述周期性信號模型，并且將它們一起擬合到所述信號數據，來對所述信號干擾應用所述校正。

10.根據權利要求8所述的方法，其中，通過表征與所述信號干擾相對應的信號頻率分量，并且將所表征的信號頻率分量映射到待校正的階，來對所述信號干擾應用所述校正。

11.根據權利要求5至10中任一項所述的方法，包括補償從一個或多個衍射階到與所述信號數據相關的主衍射階的泄漏；所述方法包括以混合增益將所述一個或多個衍射階混合到所述主衍射階；所述混合增益被優化以最小化對所述位置值的泄漏影響。

12.根據權利要求11所述的方法，進一步包括合成與所生成的弱半階相對應的弱半階，所生成的弱半階影響所述信號數據；其中，所述混合包括將所合成的弱半階附加地混合到所述主衍射階，使得所述經優化的混合增益還將所述弱半階對所述位置值的影響最小化。

13.根據權利要求5至12中任一項所述的方法，包括創建擬合系數校正算法，所述擬合系數校正算法對所述周期性信號模型的擬合系數進行運算，以阻止由鄰近所述對準標記的相鄰結構的串擾而引起的對所述信號數據的影響。