[發明專利]用于校準用于測量物質對光的吸收率的設備的方法在審
| 申請號: | 202180031726.X | 申請日: | 2021-04-27 |
| 公開(公告)號: | CN115398204A | 公開(公告)日: | 2022-11-25 |
| 發明(設計)人: | H·埃林;D·格羅諾維茨;L·羅森格倫 | 申請(專利權)人: | 思拓凡瑞典有限公司 |
| 主分類號: | G01N21/31 | 分類號: | G01N21/31;G01N21/27 |
| 代理公司: | 中國專利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 付曼;陳嵐 |
| 地址: | 瑞典烏*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 用于 校準 測量 物質 對光 吸收率 設備 方法 | ||
本發明涉及由計算機(110)執行的計算機實現的方法,該計算機配置成校準用于測量用于色譜系統(100)的物質(131)的光吸收率的設備,該設備(131)包括:用于使流體能夠被測量的導管(C);配置成沿著光學路徑(OP)向光傳感器(S)發射光的光發射器(LE),該光傳感器配置成測量發射的光,該光學路徑與導管(C)相交;具有一個或多個光學濾波器的旋轉盤(D),所述一個或多個光學濾波器中的每個被布置成當旋轉時其中心穿過光學路徑(OP);配置成根據控制信號旋轉盤(D)的致動器,該方法包括:控制(710)盤(D)旋轉到第一位置,在該第一位置,一個或多個光學濾波器中的第一濾波器與光學路徑(OP)相交在第一點(P1),測量(720)第一光吸收值,控制(730)盤(D)旋轉到不同于第一位置的第二位置,在該第二位置,第一濾波器仍然與光學路徑(OP)相交在第二點(P2),測量(740)第二光吸收值,生成(750)累積光吸收值,通過將累積光吸收值與參考光吸收值進行比較來校準(760)設備(131)。
技術領域
本公開涉及一種用于校準用于測量物質對光的吸收率的裝置的方法。特別地,本公開涉及用于測量色譜過程中使用的物質對光的吸收率的設備。
背景技術
色譜法是一種用于分析和制備化學混合物或化學樣本的眾所周知的過程。樣本通??杀粦腋≡诜Q為緩沖溶液或樹脂的流體中。
在色譜法的上下文中,用于測量物質的光吸收率的設備被用于得到光吸收率和/或光散射和/或透射特性的定量測量。通常地,這種設備以對應于可見光、深紫外光、近紫外光和近紅外光的波長操作。
為確保可靠的測量,定期監測或校準設備性能并將其記錄在案。設備的校準包括將設備的性能與例如由制造商或定義的標準提供的參考性能數據進行比較。,這是例如根據ISO 17025的認可的測量服務所要求的。這也是遵守良好實驗室規范(GLP)所要求的。
設備的校準通??缮婕熬€性準確度測試和/或光度(吸收率)準確度測試,此后稱為吸收率測試。
能夠在US9322770B2中找到常規解決方案的示例,其要求將濾波器手動插入到設備中。能夠在US9279746B2中找到常規解決方案的另一個示例,其使用加壓空氣在兩個不同的濾波器之間改變。
常規解決方案的缺點是要求由用戶手動交互,例如通過在設備中(例如在配置成沿著光學路徑發射特定波長的光的光發射器到配置成測量發射的光的光傳感器之間)插入和移除光學濾波器。插入和移除光學濾波器的步驟是冗長且耗時的,并且進一步可能導致光學濾波器定位變化,因此給出具有低再現性的校準結果。
常規解決方案的另外的缺點是,插入的濾波器的不規則性(例如濾波器透鏡上的灰塵)可能危害校準。
因此,存在對用于校準用于測量物質的光吸收率的設備的改進的方法和布置的需要。
發明目的
本發明實施例的目的是提供一種減輕或解決上述缺點和問題的解決方案。
發明內容
通過本文描述的主題來實現上述和進一步的目的。本文進一步定義了本發明的進一步的有利實現形式。
根據本發明的第一方面,上面提到的和其它目的通過由計算機執行的計算機實現的方法來實現,該計算機配置成校準用于測量用于色譜系統的物質的光吸收率的設備,該設備包括:用于使流體能夠被測量的導管;配置成沿著光學路徑向光傳感器發射光的光發射器,該光傳感器配置成測量發射的光,該光學路徑與導管相交;具有一個或多個光學濾波器的旋轉盤(D),所述一個或多個光學濾波器中的每個被布置成當旋轉時其中心穿過光學路徑;配置成根據控制信號旋轉盤的致動器,該方法包括:控制盤旋轉到第一位置,在所述第一位置所述一個或多個光學濾波器中的第一濾波器與光學路徑相交在第一點,測量第一光吸收值,控制盤旋轉到不同于第一位置的第二位置,在所述第二位置第一濾波器仍然與光學路徑相交在第二點,測量第二光吸收值,生成累積光吸收值,通過將累積光吸收值與參考光吸收值進行比較來校準設備。
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