[發明專利]用于校準用于測量物質對光的吸收率的設備的方法

在審

• 申請號: 202180031726.X
• 申請日: 2021-04-27
• 公開（公告）號: CN115398204A
• 公開（公告）日: 2022-11-25
• 發明（設計）人: H·埃林;D·格羅諾維茨;L·羅森格倫
• 申請（專利權）人: 思拓凡瑞典有限公司
• 主分類號: G01N21/31
• 分類號: G01N21/31;G01N21/27
• 代理公司: 中國專利代理(香港)有限公司 72001
• 代理人: 付曼;陳嵐

1.一種由計算機（110）執行的計算機實現的方法（700），所述計算機配置成校準用于測量用于色譜系統（100）的物質（131）的光吸收率的設備，所述設備（131）包括：用于使流體能夠被測量的導管（C）；配置成沿著光學路徑（OP）向光傳感器（S）發射光的光發射器（LE），所述光傳感器配置成測量發射的光，所述光學路徑與所述導管（C）相交；具有一個或多個光學濾波器的旋轉盤（D），所述一個或多個光學濾波器中的每個被布置成當旋轉時其中心穿過所述光學路徑（OP）；配置成根據控制信號旋轉所述盤（D）的致動器，所述方法包括：

控制（710）所述盤（D）旋轉到第一位置，在所述第一位置，所述一個或多個光學濾波器中的第一濾波器與所述光學路徑（OP）相交在第一點（P1）；

測量（720）第一光吸收值；

控制（730）所述盤（D）旋轉到不同于所述第一位置的第二位置，在所述第二位置，所述第一濾波器仍然與所述光學路徑（OP）相交在第二點（P2）；

測量（740）第二光吸收值；

生成（750）累積光吸收值；以及

通過將所述累積光吸收值與參考光吸收值進行比較來校準（760）所述設備（131）。

2.根據權利要求1所述的方法（700），其中，通過使用所述第一光吸收值和所述第二光吸收值計算平均值來生成所述累積光吸收值。

3.根據權利要求2所述的方法（700），其中，所述平均值被計算為算術平均、幾何平均和調和平均的選擇。

4.如前述權利要求中任一項所述的方法（700），其中，所述盤（D）沿著平面延伸，并繞垂直于所述平面的旋轉軸旋轉，并且其中，所述第一點（P1）和所述第二點（P2）位于所述平面中，并且與所述旋轉軸相距第一相等距離，并且彼此相距第二距離。

5.根據權利要求4所述的方法（700），其中，所述第二距離在1-1000 mm的范圍內。

6.如前述權利要求中任一項所述的方法（700），其中，校準包括通過將所述累積光吸收值與參考光吸收值進行比較來執行吸收率準確度測試，其中，比較包括計算所述累積光吸收值和所述參考光吸收值之間的絕對差。

7.如前述權利要求中任一項所述的方法（700），其中，校準包括通過以下方式執行線性準確度測試：

生成多個累積光吸收值，每個累積光吸收值針對不同幅度的發射的光生成，

將所述多個累積光吸收值與參考光吸收曲線進行比較，其中，比較包括計算所述多個累積光吸收值中的每個與所述曲線在對應幅度下的光吸收值之間的絕對差。

8.一種用于校準設備（131）的校準濾波器布置（300），所述濾波器布置（300）包括：

盤（D），其沿著平面延伸并且被布置成圍繞旋轉軸（410）旋轉，并且將一個或多個光學濾波器（F1-F4）保持在沿著所述平面與所述旋轉軸（410）相距第一距離（D1）處，以及

旋轉驅動單元（M），其耦合到所述盤（D），并且配置成響應于接收到的控制信號將所述盤（D）圍繞所述旋轉軸旋轉到預定位置。

9.根據權利要求8所述的濾波器布置（300），其中，所述盤（D）包括圓弓形或半圓形的形狀。

10.根據權利要求8或9所述的濾波器布置（300），其中，所述盤（D）包括第一部分（PR1），

第二部分（PR2），

一個或多個光學濾波器（F1-F4），

一個或多個緊固布置（FA1-FA3），配置成將所述第一部分（PR1）固定到所述第二部分（PR2），

其中，所述第一部分（PR1）和所述第二部分（PR2）布置在所述平面的相對側上，并且，

其中，所述一個或多個濾波器（F1-F4）沿著所述平面布置。