[發明專利]調整鍍覆模塊的方法

有效

• 申請號: 202180006560.6
• 申請日: 2021-03-05
• 公開（公告）號: CN114787428B
• 公開（公告）日: 2023-04-14
• 發明（設計）人: 増田泰之;樋渡良輔;下山正
• 申請（專利權）人: 株式會社荏原制作所
• 主分類號: C25D17/06
• 分類號: C25D17/06;C25D17/02;C25D21/10;C25D21/12
• 代理公司: 北京集佳知識產權代理有限公司 11227
• 代理人: 張豐橋

1.一種調整鍍覆模塊的方法，所述鍍覆模塊具備保持基板的基板支架、與所述基板支架對置地配置的陽極、以及配置于所述基板支架與所述陽極之間的作為阻擋體的板，其中，

所述方法包括：

準備在調整了所述板的外周部的孔隙率以使基板的外周部的鍍覆膜厚小于其他部分的膜厚的狀態下進行了初始設定的鍍覆模塊的步驟；和

與利用所述鍍覆模塊進行了鍍覆的基板的膜厚分布相對應地，以使基板的外周部的膜厚增加的方式調整所述基板支架與所述板之間的距離，由此調整所述基板支架與所述板之間的距離以使基板整體的鍍覆膜厚分布變得均勻的步驟。

2.根據權利要求1所述的方法，其中，

所述方法還包括通過考慮了所述鍍覆模塊的各部件的中心軸線的錯位、平行度的錯位、以及/或者尺寸公差的模擬，而決定所述初始設定的鍍覆模塊的模塊構造的步驟，

所述部件包括所述基板支架、所述陽極以及所述板。

3.根據權利要求2所述的方法，其中，

所述模擬包括：

決定標準條件的模塊構造和第1條件的模塊構造的步驟，所述標準條件是指所述鍍覆模塊的所述部件的中心軸線的錯位、平行度的錯位、以及/或者尺寸公差為零或者最小，所述第1條件是指因所述鍍覆模塊的所述部件的中心軸線的錯位、平行度的錯位、以及/或者尺寸公差而引起所述基板的外周部的鍍覆膜厚變為最大；

在所述第1條件的模塊構造中，決定所述板的外周部的孔隙率，以使所述基板的外周部的膜厚分布小于其他部分的步驟；以及

將被決定的孔隙率應用于所述標準條件的模塊構造，決定所述初始設定的模塊構造的步驟。

4.根據權利要求1～3中的任一項所述的方法，其中，

所述鍍覆模塊還具備槳，所述槳配置于所述基板支架與所述板之間，并攪拌鍍覆液，

在所述基板支架與所述板之間的距離的調整前后，調整所述槳相對于所述基板支架的位置以及/或者所述槳的運動速度，以將因所述槳的攪拌而形成的所述基板表面上的鍍覆液流速保持為恒定。

5.根據權利要求4所述的方法，其中，

在調整所述基板支架與所述板之間的距離時，使所述基板支架和所述槳移動相同的距離，將所述基板支架與所述槳之間的距離保持為恒定。

6.根據權利要求5所述的方法，其中，

通過使所述基板支架與所述槳一體地移動，而將所述基板支架與所述槳之間的距離保持為恒定。

7.根據權利要求5所述的方法，其中，

通過使所述基板支架與所述槳分別獨立地移動相同的距離，而將所述基板支架與所述槳之間的距離保持為恒定。

8.根據權利要求4所述的方法，其中，

在所述基板支架與所述板之間的距離的調整前后，調整所述槳的運動速度，以將因所述槳的攪拌而形成的所述基板表面上的鍍覆液流速保持為恒定。

9.根據權利要求4所述的方法，其中，

在所述基板支架與所述板之間的距離的調整前后，組合所述槳的位置和運動速度的調整，以將因所述槳的攪拌而形成的所述基板表面上的鍍覆液流速保持為恒定。

10.根據權利要求1～3中的任一項所述的方法，其中，

通過調整設置于所述板上的多個同心圓周上的孔中的設置于最外周的圓周上或者設置于最外周的圓周和與之接近的一個或者多個圓周上的孔的開口面積而實施所述板的外周部的孔隙率的調整。