[實用新型]一種顯影槽工裝有效
| 申請號: | 202123454056.9 | 申請日: | 2021-12-31 |
| 公開(公告)號: | CN217181406U | 公開(公告)日: | 2022-08-12 |
| 發明(設計)人: | 羅立輝;任超;李春陽;方梁洪 | 申請(專利權)人: | 寧波芯健半導體有限公司 |
| 主分類號: | G03F7/30 | 分類號: | G03F7/30 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 315336 浙江省寧波市杭*** | 國省代碼: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 顯影 工裝 | ||
本申請涉及顯影技術領域,尤其是涉及一種顯影槽工裝,包括連接底板、移動組件和安裝臺,所述安裝臺開設有用于填充顯影液的顯影槽,所述連接底板插接于所述顯影槽內,所述連接底板通過所述移動組件插接于所述顯影槽內升降。本申請通過設置連接底板通過移動組件在顯影槽內升降,且連接底板與硅片定位連接,顯影槽內填充有顯影液,使得硅片能夠在顯影槽內與顯影液充分接觸,提高了顯影液覆蓋硅片表面的均勻程度。
技術領域
本申請涉及顯影技術領域,尤其是涉及一種顯影槽工裝。
背景技術
顯影是在硅片表面光刻膠中產生圖形的關鍵步驟。顯影過程中,正性光刻膠的曝光區和負性光刻膠的非曝光區的光刻膠在顯影液中溶解,在光刻膠上形成三維圖形。
常見的顯影方法為噴灑法,將硅片放置于旋轉臺上,在硅片表面上噴灑顯影液;然后硅片將在靜止的狀態下進行顯影;顯影完成后,硅片經過漂洗,再烘干。
針對上述相關技術,發明人認為:由于噴灑法是將顯影液直接噴灑于硅片表面,顯影液覆蓋硅片表面的均勻程度不夠高,導致硅片的合格率不夠高。
實用新型內容
為了提高顯影液覆蓋于硅片表面的均勻程度,本申請提供一種顯影槽工裝。
一種顯影槽工裝,包括連接底板、移動組件和安裝臺,所述安裝臺開設有用于填充顯影液的顯影槽,所述連接底板插接于所述顯影槽內,所述連接底板通過所述移動組件插接于所述顯影槽內升降。
通過采用上述技術方案,將用于放置硅片的盒體與連接底板配合,連接底板通過移動組件插接于顯影槽內位移,使用時操作人員將顯影液置于顯影槽內,操作移動組件使得硅片隨盒體插接于顯影槽內,此時顯影液覆蓋硅片表面,提高了顯影液覆蓋于硅片表面的均勻程度,操作移動組件使得硅片隨盒體于顯影槽內位移時,硅片在顯影液內震蕩,進一步提高了顯影液覆蓋于硅片表面的均勻程度。
優選的,所述移動組件包括與所述連接底板固定的連接架、往復直線模組,所述連接架固定于所述往復直線模組,所述往復直線模組固定于所述安裝臺。
通過采用上述技術方案,連接架能夠沿往復直線模組設置的方向往復位移,且連接架隨往復直線模組位移的過程中,連接架不易晃動,從而提高了連接架位移過程中的穩定性,從而提高了顯影液覆蓋于硅片表面的均勻程度。
優選的,所述安裝臺開設有安裝腔、與安裝腔連通的升降槽,所述連接架穿設于所述升降槽,所述往復直線模組置于所述安裝腔內。
通過采用上述技術方案,連接架穿設于升降槽內升降,即連接架位移時不易歪斜錯開,從而提高了連接架通過往復直線模組位移過程中的穩定性,從而提高了顯影液覆蓋于硅片表面的均勻程度。
優選的,所述升降槽的內壁轉動連接有滾輪。
通過采用上述技術方案,連接架插接于升降槽內升降時,滾輪抵接于連接架滾動,從而減少升降槽的內壁與連接架之間的摩擦,從而提高了連接架穿設于升降槽內升降過程中的穩定性,提高了顯影液覆蓋于硅片表面的均勻程度。
優選的,所述連接架設置有穿設于所述升降槽內的直桿,所述升降槽設置有兩個,所述直桿設置有兩個,一個所述直桿穿設于一個所述升降槽,另一個所述直桿穿設于另一個所述升降槽,一個直桿的頂端與另一個直桿定位連接。
通過采用上述技術方案,兩個直桿分別與兩個升降槽對應,且一個直桿與另一個直桿定位連接,使得設置有兩個直桿的連接架升降過程中,連接架不易傾斜,從而提高了連接架升降的過程的穩定性。
優選的,所述連接架設置有與所述連接底板固定的外籃,所述連接底板固定于所述外籃內。
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