[實用新型]一種鍺單晶爐用防泄漏引流裝置

有效

• 申請號: 202123142758.3
• 申請日: 2021-12-10
• 公開（公告）號: CN216427479U
• 公開（公告）日: 2022-05-03
• 發明（設計）人: 呂遠芳
• 申請（專利權）人: 保定三晶電子材料有限公司
• 主分類號: C30B15/00
• 分類號: C30B15/00;C30B15/20;C30B29/08;C30B29/06
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

本實用新型公開了一種鍺單晶爐用防泄漏引流裝置，包括外置爐框、內爐體和引流氣囊。本實用新型鍺單晶爐用防泄漏引流裝置，當外置爐框內部的氣壓過高時，氣體通過進氣口進入到外管框中并對密封墊進行擠壓，密封墊在擠壓的過程中，密封墊中心的通氣孔擴張變大，氣體通過通氣孔后進入到氣囊本體中，氣體通過排氣總管進入到排出管與回流管內，轉動排出管上的梅花鈕，安插柱從閥門框體內向外移出，氣體通過透氣孔后向外排出，同理轉動回流管上的梅花鈕，氣體沿著回流管重新回到外置爐框內部，該裝置能夠在鍺單晶爐內部氣壓過大時，主動對鍺單晶爐內部進行氣壓的引流并收集，保持鍺單晶爐內部氣壓的穩定性。

技術領域

本實用新型涉及鍺單晶爐技術領域，具體為一種鍺單晶爐用防泄漏引流裝置。

背景技術

鍺單晶做為重要的半導體材料，制備鍺單晶硅的過程中需要用到的設備是鍺單晶爐，鍺單晶爐是一種在惰性氣體環境中，用石墨電阻加熱器將硅半導體材料溶化，并采用直拉法生長無錯位鍺單晶硅的設備，但是在對鍺單晶硅的使用過程中發現，當鍺單晶爐內部的氣壓過大時，容易導致鍺單晶爐內的氣體增壓外泄，從而影響鍺單晶爐的正常使用。

實用新型內容

本實用新型的目的在于提供一種鍺單晶爐用防泄漏引流裝置，能夠在鍺單晶爐內部氣壓過大時，主動對鍺單晶爐內部進行氣壓的引流并收集，保持鍺單晶爐內部氣壓的穩定性，可以解決現有技術中的問題。

為實現上述目的，本實用新型提供如下技術方案：一種鍺單晶爐用防泄漏引流裝置，包括外置爐框、內爐體和引流氣囊，所述外置爐框的內部設有內爐體，所述內爐體的頂部設有引流氣囊，所述引流氣囊與內爐體之間采用隔板隔開；

所述引流氣囊包括氣囊本體、進氣管、排氣總管、排出管、回流管和控制閥，所述氣囊本體的底端連接有進氣管，所述氣囊本體的一側連接有排氣總管，排氣總管與氣囊本體的內部相互連通，所述排氣總管遠離氣囊本體的一端連接有排出管，所述排出管的下方設有回流管，所述回流管與排氣總管之間相互連通，所述排出管和回流管上均設有控制閥。

優選的，所述進氣管包括外管框、密封墊、通氣孔、進氣口和出氣口，所述外管框的內部設有密封墊，所述密封墊的內部開設有通氣孔，所述外管框的底部開設有進氣口，所述外管框的頂端安插在氣囊本體中，外管框的頂部開設有出氣口。

優選的，所述控制閥包括閥門框體、透氣孔、安插柱、外置螺紋和梅花鈕，所述閥門框體的兩側均開設有透氣孔，所述閥門框體的內部設有安插柱，所述安插柱的外側開設有外置螺紋，所述安插柱的外側固定連接有梅花鈕。

優選的，所述密封墊為采用橡膠材質制成的構件，外管框的內部共設有四層密封墊，密封墊的外側與外管框之間固定粘連連接，密封墊內部的通氣孔在常態下保持封閉狀態。

優選的，所述閥門框體的內壁上設有內置螺紋槽，安插柱上的外置螺紋與內置螺紋槽之間相互咬合。

與現有技術相比，本實用新型的有益效果如下：

本實用新型鍺單晶爐用防泄漏引流裝置，當外置爐框內部的氣壓過高時，氣體通過進氣口進入到外管框中并對密封墊進行擠壓，密封墊在擠壓的過程中，密封墊中心的通氣孔擴張變大，氣體通過通氣孔后進入到氣囊本體中，氣體通過排氣總管進入到排出管與回流管內，轉動排出管上的梅花鈕，安插柱從閥門框體內向外移出，氣體通過透氣孔后向外排出，同理轉動回流管上的梅花鈕，氣體沿著回流管重新回到外置爐框內部，該裝置能夠在鍺單晶爐內部氣壓過大時，主動對鍺單晶爐內部進行氣壓的引流并收集，保持鍺單晶爐內部氣壓的穩定性。

附圖說明

圖1為本實用新型的剖視圖；

圖2為本實用新型引流氣囊的結構示意圖；

圖3為本實用新型進氣管的剖視圖；

圖4為本實用新型控制閥的剖視圖。