[實用新型]一種用于化學沉鎳生產的穩壓裝置有效
| 申請號: | 202122956302.4 | 申請日: | 2021-11-29 |
| 公開(公告)號: | CN216237277U | 公開(公告)日: | 2022-04-08 |
| 發明(設計)人: | 劉令奇;李建國 | 申請(專利權)人: | 惠州市恒杰化工有限公司 |
| 主分類號: | C23C18/32 | 分類號: | C23C18/32;F16F15/067 |
| 代理公司: | 北京眾達德權知識產權代理有限公司 11570 | 代理人: | 潘行 |
| 地址: | 516000 廣東省惠州市惠城區水口*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 用于 化學 生產 穩壓 裝置 | ||
本實用新型涉及穩壓裝置技術領域,尤其是一種用于化學沉鎳生產的穩壓裝置,包括底座,所述底座的下端面上設置有多組支腳,所述底座上端面的外圍均勻排布有多組支撐柱,多組所述支撐柱相向的一側端面上均設置有減震組件,所述減震組件的輸出端設置有連接板,所述底座的上方位于多組所述支撐柱之間設置有支架,圍繞所述支架下端面的中部均勻設置有多組滑槽,多組所述滑槽的內部均滑動連接有滑塊,所述滑塊與所述滑槽的內側端面之間連接有緩沖組件,該一種用于化學沉鎳生產的穩壓裝置,解決了現有技術中存在沒有能夠減少反應釜震動的裝置等缺點。
技術領域
本實用新型涉及穩壓裝置技術領域,尤其涉及一種用于化學沉鎳生產的穩壓裝置。
背景技術
在一些化學反應過程中,化學反應的過程需要在一個較為穩定的壓力下才能正常進行,一些化學反應中會產生氣體,使得反應釜內的氣壓發生變化,或在反應的過程中需要向反應釜內添加原料,當氣壓發生突然的變化或向反應釜內大量輸送原材料時,都會導致反應釜產生震動,這種震動會導致反應原料之間的接觸更加快速,使得反應速率加快,過快的反應速率會產生更多的氣體,使得反應釜內的壓力更加失控,因此便需要一種能夠減少反應釜震動的裝置,以避免因反應釜發生震動而導致化學反應加速使得壓力的控制更加困難。
實用新型內容
本實用新型的目的是為了解決現有技術中存在沒有能夠減少反應釜震動的裝置等缺點,而提出的一種用于化學沉鎳生產的穩壓裝置。
為了實現上述目的,本實用新型采用了如下技術方案:
設計一種用于化學沉鎳生產的穩壓裝置,包括底座,所述底座的下端面上設置有多組支腳,所述底座上端面的外圍均勻排布有多組支撐柱,多組所述支撐柱相向的一側端面上均設置有減震組件,所述減震組件的輸出端設置有連接板,所述底座的上方位于多組所述支撐柱之間設置有支架,圍繞所述支架下端面的中部均勻設置有多組滑槽,多組所述滑槽的內部均滑動連接有滑塊,所述滑塊與所述滑槽的內側端面之間連接有緩沖組件,圍繞所述底座上端面的中均設置有多組與所述滑槽對應設置的支撐板,多組所述支撐板與多組所述滑塊之間分別轉動連接有轉桿,所述支架的上端面上設置有反應釜,多組所述連接板與所述反應釜的外側端面相連,所述反應釜的外側端面上連通有泄壓閥。
優選的,所述支腳的上端面上開設有多組貫穿式螺孔。
優選的,所述減震組件包括液壓減震桿,所述液壓減震桿的下端面與所述支撐柱固定連接,所述液壓減震桿的輸出軸與所述連接板相連,所述連接板與所述支撐柱之間位于所述液壓減震桿的外圍設置有第一彈簧。
優選的,所述緩沖組件包括伸縮桿,所述伸縮桿的兩端分別與所述滑塊和所述滑槽的內側端面相連,所述滑塊與所述滑槽的內側端面之間位于所述伸縮桿的外圍設置有第二彈簧。
優選的,所述滑槽與所述支撐板均設置有四組。
本實用新型提出的一種用于化學沉鎳生產的穩壓裝置,有益效果在于:
通過所設置的減震組件能夠減少反應釜的左右震動,通過所設置的緩沖組件,當受到上下垂直的壓力時,多組滑塊與多組支撐板之間轉動連接有轉桿,使得多組滑塊同時沿滑槽滑動,形成開合的效果,滑塊與滑槽之間連接有緩沖組件,能夠對滑塊的移動產生限制,從而起到減震的效果,所設置的泄壓閥能夠排出反應釜內過多的氣壓。
附圖說明
圖1為本實用新型提出的一種用于化學沉鎳生產的穩壓裝置的主體結構示意圖;
圖2為本實用新型提出的一種用于化學沉鎳生產的穩壓裝置的側面剖視結構示意圖;
圖3為本實用新型提出的一種用于化學沉鎳生產的穩壓裝置的A區放大結構示意圖。
圖中:1、底座;2、支腳;201、螺孔;3、支撐柱;4、液壓減震桿;5、第一彈簧;6、連接板;7、支撐板;8、轉桿;9、滑塊;10、支架;11、滑槽;12、伸縮桿;13、第二彈簧;14、反應釜。
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C23C18-00 通過液態化合物分解抑或覆層形成化合物溶液分解、且覆層中不留存表面材料反應產物的化學鍍覆
C23C18-02 .熱分解法
C23C18-14 .輻射分解法,例如光分解、粒子輻射
C23C18-16 .還原法或置換法,例如無電流鍍
C23C18-54 .接觸鍍,即無電流化學鍍
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