[實用新型]一種用于化學沉鎳生產的穩(wěn)壓裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202122956302.4 | 申請日: | 2021-11-29 |
| 公開(公告)號: | CN216237277U | 公開(公告)日: | 2022-04-08 |
| 發(fā)明(設計)人: | 劉令奇;李建國 | 申請(專利權)人: | 惠州市恒杰化工有限公司 |
| 主分類號: | C23C18/32 | 分類號: | C23C18/32;F16F15/067 |
| 代理公司: | 北京眾達德權知識產權代理有限公司 11570 | 代理人: | 潘行 |
| 地址: | 516000 廣東省惠州市惠城區(qū)水口*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 用于 化學 生產 穩(wěn)壓 裝置 | ||
1.一種用于化學沉鎳生產的穩(wěn)壓裝置,包括底座(1),其特征在于:所述底座(1)的下端面上設置有多組支腳(2),所述底座(1)上端面的外圍均勻排布有多組支撐柱(3),多組所述支撐柱(3)相向的一側端面上均設置有減震組件,所述減震組件的輸出端設置有連接板(6),所述底座(1)的上方位于多組所述支撐柱(3)之間設置有支架(10),圍繞所述支架(10)下端面的中部均勻設置有多組滑槽(11),多組所述滑槽(11)的內部均滑動連接有滑塊(9),所述滑塊(9)與所述滑槽(11)的內側端面之間連接有緩沖組件,圍繞所述底座(1)上端面的中均設置有多組與所述滑槽(11)對應設置的支撐板(7),多組所述支撐板(7)與多組所述滑塊(9)之間分別轉動連接有轉桿(8),所述支架(10)的上端面上設置有反應釜(14),多組所述連接板(6)與所述反應釜(14)的外側端面相連,所述反應釜(14)的外側端面上連通有泄壓閥。
2.根據權利要求1所述的一種用于化學沉鎳生產的穩(wěn)壓裝置,其特征在于:所述支腳(2)的上端面上開設有多組貫穿式螺孔(201)。
3.根據權利要求1所述的一種用于化學沉鎳生產的穩(wěn)壓裝置,其特征在于:所述減震組件包括液壓減震桿(4),所述液壓減震桿(4)的下端面與所述支撐柱(3)固定連接,所述液壓減震桿(4)的輸出軸與所述連接板(6)相連,所述連接板(6)與所述支撐柱(3)之間位于所述液壓減震桿(4)的外圍設置有第一彈簧(5)。
4.根據權利要求1所述的一種用于化學沉鎳生產的穩(wěn)壓裝置,其特征在于:所述緩沖組件包括伸縮桿(12),所述伸縮桿(12)的兩端分別與所述滑塊(9)和所述滑槽(11)的內側端面相連,所述滑塊(9)與所述滑槽(11)的內側端面之間位于所述伸縮桿(12)的外圍設置有第二彈簧(13)。
5.根據權利要求1所述的一種用于化學沉鎳生產的穩(wěn)壓裝置,其特征在于:所述滑槽(11)與所述支撐板(7)均設置有四組。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學轉化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C18-00 通過液態(tài)化合物分解抑或覆層形成化合物溶液分解、且覆層中不留存表面材料反應產物的化學鍍覆
C23C18-02 .熱分解法
C23C18-14 .輻射分解法,例如光分解、粒子輻射
C23C18-16 .還原法或置換法,例如無電流鍍
C23C18-54 .接觸鍍,即無電流化學鍍
C23C18-18 ..待鍍材料的預處理





