[實用新型]基板處理裝置用遮蔽件

有效

• 申請號: 202122181133.1
• 申請日: 2021-09-09
• 公開（公告）號: CN215869283U
• 公開（公告）日: 2022-02-18
• 發明（設計）人: 森田慎也;中嶋誠世;村田慧
• 申請（專利權）人: 株式會社國際電氣
• 主分類號: H01J37/32
• 分類號: H01J37/32;C23C16/54;C23C16/50;C23C16/458;H01L21/67
• 代理公司: 北京市金杜律師事務所 11256
• 代理人: 陳偉;劉偉志

1.一種基板處理裝置用遮蔽件，其特征在于，具備：

圓弧狀的底板；

從所述底板直立的多個支柱；以及

由所述多個支柱沿垂直方向以多層支承的圓弧狀的多個隔斷板。

2.根據權利要求1所述的基板處理裝置用遮蔽件，其特征在于，

所述多個隔斷板的輪廓與所述底板的輪廓相同或比所述底板的輪廓小。

3.根據權利要求2所述的基板處理裝置用遮蔽件，其特征在于，

在基板處理裝置的反應管內配置有晶舟支承臺，

所述多個隔斷板配置在具有筒狀外形的所述晶舟支承臺與所述反應管之間。

4.根據權利要求3所述的基板處理裝置用遮蔽件，其特征在于，

所述多個隔斷板形成為具有內徑大于所述晶舟支承臺的外徑且外徑小于所述反應管的內徑的規定寬度的圓弧狀。

5.根據權利要求4所述的基板處理裝置用遮蔽件，其特征在于，

所述多個隔斷板在兩端以寬度變小的方式形成有倒角。

6.根據權利要求4所述的基板處理裝置用遮蔽件，其特征在于，

所述多個隔斷板的圓弧為180度。

7.根據權利要求3所述的基板處理裝置用遮蔽件，其特征在于，

所述反應管具有向內側突出的緩沖室、和設在比所述緩沖室的下端低的位置的排氣口，

所述多個隔斷板中的最上層的隔斷板配置在與所述緩沖室的下端大致相同的高度或比所述緩沖室的下端高的位置。

8.根據權利要求3所述的基板處理裝置用遮蔽件，其特征在于，

所述多個隔斷板中的最下層的隔斷板配置在與所述晶舟支承臺的下端大致相同的高度或比所述晶舟支承臺的下端高的位置。

9.根據權利要求3所述的基板處理裝置用遮蔽件，其特征在于，

所述多個隔斷板的圓弧為180度。

10.根據權利要求3所述的基板處理裝置用遮蔽件，其特征在于，

所述基板處理裝置用遮蔽件設在將所述反應管的下方的開口封堵的密封蓋之上。

11.根據權利要求3所述的基板處理裝置用遮蔽件，其特征在于，

所述基板處理裝置用遮蔽件由耐熱耐腐蝕性材料制成。

12.根據權利要求10所述的基板處理裝置用遮蔽件，其特征在于，

所述底板具有用于固定到所述密封蓋的多個螺紋孔。

13.根據權利要求1-12中任一項所述的基板處理裝置用遮蔽件，其特征在于，

在所述多個隔斷板中，在外周的對應位置形成有上下貫穿的切缺口，以供基板處理裝置中使用的氣體供給管穿過。