[實用新型]一種大型TFT-LCD光掩膜基版用高精度旋涂機

有效

• 申請號: 202122153149.1
• 申請日: 2021-09-07
• 公開（公告）號: CN215599504U
• 公開（公告）日: 2022-01-21
• 發明（設計）人: 李由根;李娜;蕭訓山;劉丹;吳婷
• 申請（專利權）人: 東莞市宏誠光學制品有限公司
• 主分類號: G03F7/16
• 分類號: G03F7/16;G03F1/68;G02F1/13
• 代理公司: 東莞卓為知識產權代理事務所(普通合伙) 44429
• 代理人: 齊海迪

本實用新型公開了一種大型TFT?LCD光掩膜基版用高精度旋涂機，包括機架、頂針組件、緊固圈、壓塊以及電磁力控制裝置，頂針組件呈可活動地安裝于機架上，電磁力控制裝置安裝于頂針組件的下方以用于將頂針組件朝機架的下方進行吸拉，壓塊位于電磁力控制裝置的上方并開設有供頂針組件的頂針穿過用的安裝孔，緊固圈安裝于安裝孔內以對位于該緊固圈上方的區域進行密封。本實用新型可以通過緊固圈對頂針進行緊固密封，可以防止相對運動的氣流，防止對流現象，以達到涂膠的高均勻性；與此同時，本實用新型還通過電磁力控制裝置克服了頂針組件下降力不足的問題，從而改善了以往設備中四個角落處的均勻性較差的現象。

技術領域

本實用新型涉及光掩膜的技術領域，具體涉及一種大型TFT-LCD光掩膜基版用高精度旋涂機。

背景技術

隨著半導體集成電路的快速發展，掩模版在液晶顯示行業及觸控屏行業等領域中的地位越來越重要，而勻膠鉻版作為掩膜版的基礎材料，對半導體技術的發展具有十分重要的作用。

國內目前制造最大為10kg級的大型光掩膜基版使用的進口設備，勻膠均勻性性能為左右，20kg級的大型光掩膜基版為TP觸控屏最大尺寸，目前完全依靠進口，本案開發的20kg級的大型光掩膜基版勻膠性能為即能達到TP光掩膜版的使用，也能滿足TFT-LCD光掩膜版等級的使用。

本案開發的大型TFT-LCD光掩膜基版用高精度旋涂機可解決上述問題。

實用新型內容

本項實用新型是針對現在的技術不足，提供一種大型TFT-LCD光掩膜基版用高精度旋涂機。

本實用新型為實現上述目的所采用的技術方案是：

一種大型TFT-LCD光掩膜基版用高精度旋涂機，包括機架、頂針組件、緊固圈、壓塊以及電磁力控制裝置，所述頂針組件呈可活動地安裝于所述機架上，所述電磁力控制裝置安裝于所述頂針組件的下方以用于將所述頂針組件朝所述機架的下方進行吸拉，所述壓塊位于所述電磁力控制裝置的上方并開設有供所述頂針組件的頂針穿過用的安裝孔，所述緊固圈安裝于所述安裝孔內以對位于該緊固圈上方的區域進行密封。

作進一步改進，所述大型TFT-LCD光掩膜基版用高精度旋涂機還包括用于將所述壓塊固定于所述機架上的緊固螺絲，所述壓塊開設有與所述緊固螺絲呈螺紋配合的緊固孔。

作進一步改進，所述緊固孔有兩個，兩個所述緊固孔以所述安裝孔為中心呈中心對稱地布置，所述緊固螺絲與所述緊固孔呈一一對應地布置。

作進一步改進，所述大型TFT-LCD光掩膜基版用高精度旋涂機還包括用于將所述壓塊相對所述機架進行一定角度調節的調節螺絲，所述壓塊開設有與所述調節螺絲呈螺紋配合的調節孔。

作進一步改進，所述調節孔有四個，四個所述調節孔以兩個所述緊固孔間的連線為軸心呈左右對稱地布置，所述調節螺絲與所述調節孔呈一一對應地布置。

作進一步改進，所述安裝孔的孔徑、所述緊固圈的內徑以及所述頂針的直徑呈由大至小地布置。

作進一步改進，所述緊固圈是O型氟橡膠圈。

作進一步改進，所述電磁力控制裝置包括兩個于水平方向上呈平行布置的24V通電磁鐵。

作進一步改進，所述壓塊為一體式的航空鋁合金塊。

作進一步改進，所述壓塊上還設置有供所述緊固圈卡合固定的環形凹槽，所述環形凹槽與所述安裝孔相連通。