[實用新型]一種濺射靶材的清洗裝夾裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 202122146015.7
• 申請日: 2021-09-07
• 公開（公告）號: CN215466536U
• 公開（公告）日: 2022-01-11
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 姚力軍;潘杰;邊逸軍;王學(xué)澤;方友華
• 申請（專利權(quán)）人: 寧波江豐電子材料股份有限公司
• 主分類號: B08B3/04
• 分類號: B08B3/04;B08B13/00
• 代理公司: 北京遠智匯知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11659
• 代理人: 王巖

本實用新型提供一種濺射靶材的清洗裝夾裝置，所述濺射靶材的清洗裝夾裝置設(shè)置至少一個中間裝夾件和兩個端裝夾件，并且端裝夾件包括形成L型裝夾口的第一齒部和第一主體部，所述第一齒部與第一主體部之間L型裝夾口呈80～100°夾角；所述中間裝夾件包括形成兩個L型裝夾口的第二齒部和第二主體部，所述第二主體部設(shè)置在所述第二齒部的正中間，所述第二齒部和第二主體部之間兩個L型裝夾口均呈80～100°夾角；所述清洗裝夾裝置不僅能一次實現(xiàn)多個濺射靶材的同時清洗，而且L型裝夾口有利于濺射靶材的放入和取出，提高了清洗效率。

技術(shù)領(lǐng)域

本實用新型涉及靶材清洗技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及靶材清洗裝置技術(shù)領(lǐng)域，特別涉及一種濺射靶材的清洗裝夾裝置。

背景技術(shù)

物理氣相沉積法是半導(dǎo)體芯片制造中最為普遍的濺鍍工藝。而該濺鍍過程中需要用濺射靶材，近年來對于濺射靶材的研究較多。例如CN111560587A公開了一種鐵鈷鉭合金濺射靶材及其制備方法，CN112111719A公開了一種鎢鈦硅合金濺射靶材及其制備方法，CN112111713A公開了一種WTi合金濺射靶材的制備方法。

然而濺射靶材容易發(fā)生氧化或生銹，且一旦發(fā)生氧化將會影響靶材的導(dǎo)電性，從而在濺射過程中產(chǎn)生異常放電或斷電情況。因此需要對濺射靶材進行清洗和表面處理。

CN101724818A公開了一種銅或銅合金濺射靶材的清洗方法，包括：第一清洗階段，使用第一清洗劑溶液對銅或銅合金濺射靶材進行至少一次清洗；第二清洗階段，使用第二清洗劑溶液對銅或銅合金濺射靶材進行至少一次清洗。所述第一清洗劑和所述第二清洗劑是不同的，所述第一、第二清洗劑分別獨立地為水、有機溶劑、以及多種溶劑的混合物中的任何一種。該方法主要強調(diào)清洗過程對表面處理的情況，并未意識到如何才能更進一步提高清洗的效率。

CN101709452A公開了一種鋁或鋁合金濺射靶材的清洗方法，但該方法同樣強調(diào)清洗過程對表面處理的情況，并未意識到清洗效率以及清洗裝置改進的問題。

CN112452946A公開了一種靶材的清洗方法，通過干冰噴槍組與清潔臺相對移動，使干冰噴槍全面覆蓋靶材清潔，但該方法單次僅能實現(xiàn)一個靶材的清洗。

因此，進一步提高靶材清洗的效率對于靶材的生產(chǎn)加工具有重要意義。

實用新型內(nèi)容

鑒于現(xiàn)有技術(shù)中存在的問題，本實用新型提供一種濺射靶材的清洗裝夾裝置，所述清洗裝夾裝置解決了現(xiàn)有靶材清洗效率低下的問題，同時通過L型裝夾口的設(shè)計，便于靶材的放置和取出，清洗過程中靶材固定穩(wěn)當(dāng)。

為達此目的，本實用新型采用以下技術(shù)方案：

本實用新型提供一種濺射靶材的清洗裝夾裝置，所述清洗裝夾裝置包括設(shè)置于清洗容器上部的至少一個中間裝夾件和兩個端裝夾件；所述端裝夾件設(shè)置在所述清洗容器的兩端，所述中間裝夾件設(shè)置在兩個端裝夾件之間；

所述端裝夾件包括形成L型裝夾口的第一齒部和第一主體部，所述第一齒部與第一主體部之間L型裝夾口呈80～100°夾角；

所述中間裝夾件包括形成兩個L型裝夾口的第二齒部和第二主體部，所述第二主體部設(shè)置在所述第二齒部的正中間，所述第二齒部和第二主體部之間兩個L型裝夾口均呈80～100°夾角；

所述第一齒部的齒尖與所述第二齒部的齒尖相對設(shè)置。

本實用新型所述濺射靶材的清洗裝夾裝置通過在兩個端裝夾件之間設(shè)置至少一個中間裝夾件，可實現(xiàn)清洗容器中至少兩個以上靶材的同時清洗，而且通過設(shè)計呈80～100°夾角的L型裝夾口，一端以齒部的齒尖卡接，另一端通過主體部的尾部固定尾部空間，既有利于靶材的放置和取出，又能在實現(xiàn)靶材上下清洗的同時將靶材限制至兩個相對的L型裝夾口之間，避免靶材與清洗容器內(nèi)壁的摩擦，提高了靶材清洗效率。