[實(shí)用新型]一種掩膜版清洗劑使用噴淋設(shè)備有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202121336368.7 | 申請(qǐng)日: | 2021-06-16 |
| 公開(公告)號(hào): | CN215576093U | 公開(公告)日: | 2022-01-18 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 劉小勇;房龍翔;葉鑫煌 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 福建省佑達(dá)環(huán)保材料有限公司 |
| 主分類號(hào): | G03F1/82 | 分類號(hào): | G03F1/82;B08B3/02;B08B3/08 |
| 代理公司: | 北京科億知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11350 | 代理人: | 張愛紅 |
| 地址: | 362100 福建省*** | 國(guó)省代碼: | 福建;35 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 掩膜版清 洗劑 使用 噴淋 設(shè)備 | ||
本實(shí)用新型公開了一種掩膜版清洗劑使用噴淋設(shè)備,涉及掩膜版清洗設(shè)備領(lǐng)域,針對(duì)現(xiàn)有的掩膜版采用浸泡清洗方式清潔效果不佳,影響掩膜版使用壽命,增加顯示器制備成本的問題,現(xiàn)提出如下方案,其包括清洗槽和安裝箱,所述清洗槽的頂端內(nèi)部固定安裝有兩個(gè)呈橫向設(shè)置的托架,且所述清洗槽內(nèi)部設(shè)有出水口,所述清洗槽的兩端均設(shè)有夾持裝置,所述夾持裝置包括夾板和安裝板,所述清洗槽的頂端上均設(shè)有噴淋裝置,所述噴淋裝置包括蓄水管和支撐架,所述清洗槽的兩側(cè)壁上設(shè)有聯(lián)動(dòng)裝置。本實(shí)用新型結(jié)構(gòu)新穎,且該裝置不僅可以對(duì)掩膜版進(jìn)行流動(dòng)式清洗,還可以實(shí)現(xiàn)清洗過程中對(duì)掩膜版夾持穩(wěn)定,降低掩膜板清洗受損的概率,延長(zhǎng)其使用壽命。
技術(shù)領(lǐng)域
本實(shí)用新型涉及掩膜版清洗設(shè)備領(lǐng)域,尤其涉及一種掩膜版清洗劑使用噴淋設(shè)備。
背景技術(shù)
光掩膜基版是制作微細(xì)光掩膜圖形的理想感光性空白板,通過光刻制版工藝可以獲得所需光掩膜版,產(chǎn)品是由石英玻璃作為襯底,在其上面鍍上一層金屬鉻和感光膠,成為一種感光材料,把已設(shè)計(jì)好的電路圖形通過電子激光設(shè)備曝光在感光膠上,被曝光的區(qū)域會(huì)被顯影出來,在金屬鉻上形成電路圖形,成為類似曝光后的底片的光掩模版,然后應(yīng)用于對(duì)集成電路進(jìn)行投影定位。
掩膜版在多次曝光中出現(xiàn)光刻膠等臟污,必須清洗干凈,在清洗過程中通常采用將清洗件直接放在盛有清洗劑的容器中浸泡,由于清洗劑是靜止的,所以清洗后的污垢容易重新附著清洗件表面,清洗能力有限,影響掩膜版使用壽命,導(dǎo)致顯示器制備成本高,因此,為了解決此類問題,我們提出了一種掩膜版清洗劑使用噴淋設(shè)備。
實(shí)用新型內(nèi)容
本實(shí)用新型提出的一種掩膜版清洗劑使用噴淋設(shè)備,解決了掩膜版采用浸泡清洗方式清潔效果不佳,影響掩膜版使用壽命,增加顯示器制備成本的問題。
為了實(shí)現(xiàn)上述目的,本實(shí)用新型采用了如下技術(shù)方案:
一種掩膜版清洗劑使用噴淋設(shè)備,包括清洗槽和安裝箱,所述清洗槽的頂端內(nèi)部固定安裝有兩個(gè)呈橫向設(shè)置的托架,且所述清洗槽內(nèi)部設(shè)有出水口,所述清洗槽的兩端均設(shè)有夾持裝置,所述夾持裝置包括夾板和安裝板,所述清洗槽的頂端上均設(shè)有噴淋裝置,所述噴淋裝置包括蓄水管和支撐架,所述清洗槽的兩側(cè)壁上設(shè)有聯(lián)動(dòng)裝置,所述聯(lián)動(dòng)裝置包括電機(jī)、第一齒條、第二齒條和齒輪;
所述清洗槽的底端固定安裝安裝箱,所述安裝箱與清洗槽之間設(shè)有傳動(dòng)機(jī)構(gòu),所述傳動(dòng)機(jī)構(gòu)包括承重架、液壓伸縮桿、轉(zhuǎn)盤、第一從動(dòng)桿、第二從動(dòng)桿和基桿。
優(yōu)選的,所述清洗槽的兩側(cè)均固定安裝有兩個(gè)呈縱向設(shè)置的安裝板,且同側(cè)的兩個(gè)所述安裝板之間轉(zhuǎn)動(dòng)安裝有呈V型設(shè)置的夾板。
優(yōu)選的,兩個(gè)所述夾板的底端均開設(shè)有槽口,兩個(gè)所述槽口均固定安裝有呈橫向設(shè)置的固定軸,兩個(gè)所述固定軸的圓周側(cè)壁上分別鉸接有第一從動(dòng)桿和第二從動(dòng)桿,所述安裝箱的一側(cè)固定安裝有兩個(gè)呈豎直狀的承重架,兩個(gè)所述承重架之間固定連接有橫桿,所述橫桿上轉(zhuǎn)動(dòng)套設(shè)有液壓伸縮桿,所述安裝箱的內(nèi)部轉(zhuǎn)動(dòng)安裝有呈豎直設(shè)置的轉(zhuǎn)盤,所述轉(zhuǎn)盤的一側(cè)固定安裝有三組結(jié)構(gòu)相同且呈水平方向設(shè)置的基桿。
優(yōu)選的,三組所述基桿均呈橫向設(shè)置,且所述第一從動(dòng)桿、第二從動(dòng)桿和液壓伸縮桿的一端分別與三組所述基桿依次鉸接。
優(yōu)選的,所述清洗槽的兩側(cè)壁上均開設(shè)有限位槽,所述限位槽的頂端以及底端內(nèi)壁上均滑動(dòng)安裝有呈橫向設(shè)置的第一齒條以及第二齒條,所述第一齒條與第二齒條呈錯(cuò)位分布,兩個(gè)所述限位槽的內(nèi)部均轉(zhuǎn)動(dòng)安裝有齒輪,且所述齒輪位于第一齒條以及第二齒條相互靠近的一側(cè),且與第一齒條以及第二齒條上的齒塊相嚙合,所述清洗槽的一側(cè)固定安裝有電機(jī),且其中一個(gè)所述齒輪的轉(zhuǎn)動(dòng)軸與電機(jī)的輸出軸固定連接設(shè)置。
優(yōu)選的,相對(duì)的兩個(gè)所述第一齒條以及兩個(gè)所述第二齒條之間均固定安裝有呈倒U型且豎直設(shè)置的支撐架,且兩個(gè)所述所述支撐架頂端圓周側(cè)壁上均固定套設(shè)有蓄水管,兩個(gè)所述蓄水管的圓周側(cè)壁上均開設(shè)有呈陣列分布的噴嘴,以及蓄水管的一端開設(shè)有接水口。
本實(shí)用新型的有益效果為:
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G03F 圖紋面的照相制版工藝,例如,印刷工藝、半導(dǎo)體器件的加工工藝;其所用材料;其所用原版;其所用專用設(shè)備
G03F1-00 用于圖紋面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其專門適用于此的容器;其制備
G03F1-20 .用于通過帶電粒子束(CPB)輻照成像的掩膜或空白掩膜,例如通過電子束;其制備
G03F1-22 .用于通過100nm或更短波長(zhǎng)輻照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射線掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制備
G03F1-36 .具有臨近校正特征的掩膜;其制備,例如光學(xué)臨近校正(OPC)設(shè)計(jì)工藝
G03F1-38 .具有輔助特征的掩膜,例如用于校準(zhǔn)或測(cè)試的特殊涂層或標(biāo)記;其制備





