[實用新型]一種晶圓納米壓印設備

有效

• 申請號: 202121208121.7
• 申請日: 2021-06-01
• 公開（公告）號: CN215599502U
• 公開（公告）日: 2022-01-21
• 發明（設計）人: 張浩;張弩
• 申請（專利權）人: 江蘇戴米克自動化科技有限公司
• 主分類號: G03F7/00
• 分類號: G03F7/00
• 代理公司: 蘇州市中南偉業知識產權代理事務所(普通合伙) 32257
• 代理人: 唐靈

1.一種晶圓納米壓印設備，其特征在于，包括：

物料轉移機構，所述物料轉移機構包括多個料叉及驅動料叉移動的水平驅動模組，所述水平驅動模組安裝在主機箱的上表面，所述料叉通過連接架安裝在水平驅動模組的驅動塊上，通過料叉帶動晶圓在各工位之間流動；

勻膠裝置，所述勻膠裝置包括滴膠機構、抓取機構和勻膠機，所述滴膠機構包括滴膠槍及驅動滴膠槍擺動的第一電機，所述第一電機通過第一支架安裝在所述主機箱的上表面，所述抓取機構包括雙出頭氣缸、帶動雙出頭氣缸豎向移動的豎直驅動模組，所述雙出頭氣缸通過連接體安裝在豎直驅動模組的驅動塊上，所述豎直驅動模組安裝在與所述主機箱固定的主基板上，所述主基板通過多根立柱固定在主機箱的上表面，所述雙出頭氣缸的兩伸縮桿上均安裝有相對稱的且用于抓取晶圓的夾頭，所述勻膠機安裝在所述主機箱的上表面，且該勻膠機上設有位于雙出頭氣缸正下方的勻膠轉盤；

壓印裝置，所述壓印裝置包括鉸接在所述主基板上的上模板、安裝在升降機構的下模板，所述主基板上安裝有將上模板夾緊在主基板上的夾緊機構，所述升降機構安裝在所述主基板上，且通過該升降機構驅動下模板上下移動，所述上模板的中部設有上模腔，所述上模腔的頂部設有密封鑲嵌在上模板內的密封透光板，所述上模板上設有用于連通上模腔與外界空氣的上進氣孔和上排氣孔，所述下模板的中部設有與所述上模腔對應的下模腔，所述下模腔的底部設有用于安放晶圓的安裝槽，所述下模板上設有用于連通下模腔與外界空氣的下進氣孔和下排氣孔；所述升降機構驅動下模板向上移動并穿過主基板中部的鏤空空間，將下模板與上模板對應合膜后，所述上模腔和所述下模腔對應扣合形成密封的壓印腔室；

物料存放架，所述物料存放架的數量至少包括兩個，兩個物料存放架平行對應且分別用于存放原料和成品，所述物料存放架安裝在驅動其豎向移動的絲桿螺母升降組件上，所述絲桿螺母升降組件通過第二支架安裝在所述主機箱的上表面，所述物料存放架上設有多層用于放置晶圓的支撐切縫，所述勻膠裝置和所述壓印裝置均設置在兩個物料存放架之間。

2.如權利要求1所述的一種晶圓納米壓印設備，其特征在于，所述水平驅動模組水平固定在所述主機箱的上表面，所述連接架固定在水平驅動模組的驅動塊上，所述連接架上固定有三個水平的且沿直線分布的料叉，三個料叉分別為取料叉、送料叉和備用料叉，所述取料叉與送料叉兩者的朝向相反，所述送料叉和備用料叉兩者的朝向相同，每個料叉的工作平面上均設有多個用于吸附晶圓的負壓孔。

3.如權利要求1所述的一種晶圓納米壓印設備，其特征在于，所述第一支架固定在所述主機箱的上表面，所述第一電機豎直固定在所述第一支架上，所述滴膠槍水平設置且其一端固定在所述第一電機的輸出軸上，所述豎直驅動模組豎直固定在所述主基板上，所述雙出頭氣缸水平設置并通過連接體固定在豎直驅動模組的驅動塊上，所述夾頭包括連接塊和定位輪，所述連接塊固定在雙出頭氣缸對應的伸縮桿上，所述連接塊上轉動安裝有至少兩個等高且水平轉動的定位輪，所述定位輪的圓周面上設有一周環狀的且用于夾持晶圓的定位槽。

4.如權利要求1所述的一種晶圓納米壓印設備，其特征在于，所述絲桿螺母升降組件包括豎直固定在第二支架上的導軌和絲桿、匹配滑動安裝在導軌上的滑塊、螺紋連接在絲桿上并形成絲桿螺母傳動的螺母，所述螺母與所述滑塊相固定，所述物料存放架固定在所述螺母上，所述絲桿的下端與第二電機的輸出軸同軸固定，所述第二電機固定在所述第二支架上，所述第二支架固定在所述主機箱上且第二電機伸入主箱體的內部。

5.如權利要求1所述的一種晶圓納米壓印設備，其特征在于，所述上模板的后端鉸接在所述主基板的上表面并形成上下翻轉結構，所述上模板的前端固定有翻轉把手，所述上模板的兩側均設有將其夾緊在主基板上表面的夾緊機構，所述夾緊機構包括底板、夾緊氣缸和擺動塊，所述底板固定在主基板的上表面，所述擺動塊的下端鉸接在底板上，所述擺動塊上固定有用于夾持在上模板上表面的夾緊部，所述擺動塊的上端與第一連桿的一端鉸接，所述第一連桿的另一端與第二連桿的一端鉸接，所述第二連桿的另一端鉸接在所述底板上，所述第一連桿與第二連桿之間的鉸接軸轉動連接在夾緊氣缸的伸縮桿上，所述夾緊氣缸的缸體的尾部鉸接在與底板固定的臂板上。