[實用新型]一種晶圓納米壓印設備

有效

• 申請號: 202121208121.7
• 申請日: 2021-06-01
• 公開（公告）號: CN215599502U
• 公開（公告）日: 2022-01-21
• 發明（設計）人: 張浩;張弩
• 申請（專利權）人: 江蘇戴米克自動化科技有限公司
• 主分類號: G03F7/00
• 分類號: G03F7/00
• 代理公司: 蘇州市中南偉業知識產權代理事務所(普通合伙) 32257
• 代理人: 唐靈

本實用新型公開了一種晶圓納米壓印設備，包括：物料轉移機構，所述物料轉移機構包括多個料叉及驅動料叉移動的水平驅動模組，通過料叉帶動晶圓在各工位之間流動；勻膠裝置，所述勻膠裝置包括滴膠機構、抓取機構和勻膠機，壓印裝置，所述壓印裝置包括鉸接在所述主基板上的上模板、安裝在升降機構的下模板，升降機構驅動下模板向上移動并穿過主基板中部的鏤空空間，將下模板與上模板對應合膜，物料存放架，物料存放架的數量至少包括兩個，兩個物料存放架平行對應且分別用于存放原料和成品；本實用新型是一套完整的晶圓納米壓印設備，生產連續性好，生產效率高，且晶圓是在真空腔內壓印，相比常壓下壓印，壓印過程不會產生氣泡，產品的質量更好。

技術領域

本實用新型涉及納米壓印設備的技術領域，具體涉及一種晶圓納米壓印設備。

背景技術

納米壓印的基本原理就是將制作好的模板壓在一層薄的聚合物薄膜上，這層薄膜通過加熱的或者化學的方法固化，從而在聚合物上可形成與模板具有1:1大小的圖案。該工藝過程主要包含兩個步驟:圖形復制和圖形轉移，即在一塊基片上(通常為硅片)涂上一層聚合物(通常為光刻膠)，再用已刻有特定圖形的模板在一定的溫度(須高于聚合物“軟化”溫度)和壓力下去壓印聚合物涂層，從而實現圖形復制，然后脫模，即將模板從壓印的聚合物上移除，就能夠在基片形成納米圖案。原理上來看，納米壓印技術在圖案制作上沒有任何限制，因此它能通過電子束刻蝕和其他技術制作的模板來壓印任意的圖形。近十年的發展，納米壓印技術發展出很多種不同的方法，但是可以大概歸納為以下幾種:熱納米壓印、紫外固化納米壓印、軟壓印。但是，在現有的納米壓印的技術中，普遍存在著壓力分布不均的問題，且在壓印的過程中容易產生氣泡，影響了產品的質量，同時，現有技術中沒有成熟的成套壓印設備，各個工序比較分散，生產連續性差，生產效率低下，不利于高效可持續發展。

實用新型內容

本實用新型要解決的技術問題是提供一種

為了解決上述技術問題，本實用新型提供了一種晶圓納米壓印設備，其特征在于，包括：

物料轉移機構，所述物料轉移機構包括多個料叉及驅動料叉移動的水平驅動模組，所述水平驅動模組安裝在主機箱的上表面，所述料叉通過連接架安裝在水平驅動模組的驅動塊上，通過料叉帶動晶圓在各工位之間流動；

勻膠裝置，所述勻膠裝置包括滴膠機構、抓取機構和勻膠機，所述滴膠機構包括滴膠槍及驅動滴膠槍擺動的第一電機，所述第一電機通過第一支架安裝在所述主機箱的上表面，所述抓取機構包括雙出頭氣缸、帶動雙出頭氣缸豎向移動的豎直驅動模組，所述雙出頭氣缸通過連接體安裝在豎直驅動模組的驅動塊上，所述豎直驅動模組安裝在與所述主機箱固定的主基板上，所述主基板通過多根立柱固定在主機箱的上表面，所述雙出頭氣缸的兩伸縮桿上均安裝有相對稱的且用于抓取晶圓的夾頭，所述勻膠機安裝在所述主機箱的上表面，且該勻膠機上設有位于雙出頭氣缸正下方的勻膠轉盤；

壓印裝置，所述壓印裝置包括鉸接在所述主基板上的上模板、安裝在升降機構的下模板，所述主基板上安裝有將上模板夾緊在主基板上的夾緊機構，所述升降機構安裝在所述主基板上，且通過該升降機構驅動下模板上下移動，所述上模板的中部設有上模腔，所述上模腔的頂部設有密封鑲嵌在上模板內的密封透光板，所述上模板上設有用于連通上模腔與外界空氣的上進氣孔和上排氣孔，所述下模板的中部設有與所述上模腔對應的下模腔，所述下模腔的底部設有用于安放晶圓的安裝槽，所述下模板上設有用于連通下模腔與外界空氣的下進氣孔和下排氣孔；所述升降機構驅動下模板向上移動并穿過主基板中部的鏤空空間，將下模板與上模板對應合膜后，所述上模腔和所述下模腔對應扣合形成密封的壓印腔室；

物料存放架，所述物料存放架的數量至少包括兩個，兩個物料存放架平行對應且分別用于存放原料和成品，所述物料存放架安裝在驅動其豎向移動的絲桿螺母升降組件上，所述絲桿螺母升降組件通過第二支架安裝在所述主機箱的上表面，所述物料存放架上設有多層用于放置晶圓的支撐切縫，所述勻膠裝置和所述壓印裝置均設置在兩個物料存放架之間。