[實用新型]一種遮罩結構

有效

• 申請號: 202120478525.1
• 申請日: 2021-03-05
• 公開（公告）號: CN214428651U
• 公開（公告）日: 2021-10-19
• 發明（設計）人: 溫質康;喬小平;蘇智昱
• 申請（專利權）人: 福建華佳彩有限公司
• 主分類號: H01L51/56
• 分類號: H01L51/56;H01L51/52;C23C14/04;C23C14/12;C23C14/24;H01L27/32
• 代理公司: 福州市景弘專利代理事務所(普通合伙) 35219
• 代理人: 林祥翔;徐劍兵

本實用新型公布一種遮罩結構，包括第一掩膜框、第二掩膜框和非鏤空區域；所述第一掩膜框圍繞所述非鏤空區域，所述第一掩膜框和所述非鏤空區域具有間隔，所述第一掩膜框和所述非鏤空區域之間的間隔為鏤空區域；所述第二掩膜框設置在所述第一掩膜框的頂部和所述非鏤空區域的頂部上，所述第二掩膜框圍繞所述非鏤空區域，所述第二掩膜框上設置開孔，所述開孔位于鏤空區域的上方，所述開孔用于作為薄膜材料沉積的通道。上述技術方案通過第二掩膜框來定位第一掩膜框和非鏤空區域，當薄膜材料從第一掩膜框的頂部方向下沉積時，薄膜材料通過開孔和鏤空區域沉積在下面的發光器件上，并形成隔離柱，可以減小了陰影效應的影響。

技術領域

本實用新型涉及掩膜板技術領域，尤其涉及一種遮罩結構。

背景技術

有機發光二極管(Organic Light Emitting Diode，縮寫OLED)的顯示器件具備自發光特性、低功耗、寬視角、響應速度快、超輕超薄、抗震性好等特點，采用薄膜封裝技術可實現OLED顯示器件的可折疊、可彎折等特點。

薄膜封裝技術(Thin Film Encapsulastion，縮寫TFE)，薄膜封裝技術是在具有發光器件的襯底上，將有機材料蒸鍍后，在發光器件上沉積Barrier layer(隔絕層)和Bufferlayer(平坦層)，依次順序制備3至5層的交疊結構來覆蓋發光器件，起到隔絕水氧的作用。

其中Barrier layer(隔絕層)多采用PECVD(化學氣相沉積)機臺來沉積無機薄膜，無機薄膜如氮化硅，其作用是起到阻隔水氧的作用。Buffer layer(平坦層)多采用IJP(噴墨打印)機臺涂布有機薄膜，有機薄膜如高分子聚合物、樹脂等，其作用是覆蓋無機層的缺陷，實現平坦化，還可以釋放無機層之間的應力，實現柔性封裝。

TFE薄膜封裝結構制備過程中，有機墨水的具備一定粘度，經過噴墨頭噴射在襯底上，有機墨水向四周擴散流平，為了防止有機墨水的擴散，在打印區域的四周設置一層柱狀的隔離柱，此隔離柱必須經過涂布、曝光、顯影、蝕刻、脫膜等工藝，隔離柱可以減弱蝕刻液對下層OLED器件層中的capping層(可以稱作保護層)表面的腐蝕，還減弱了Capping層的消光和散射的能力。

現有的遮罩結構中非鏤空區域的作用是遮擋非成膜區域，其作用是減少陰影區域(Sheet effact)，非鏤空區域的厚度盡量做到很薄，并采用掩膜框(Frame Mask)固定壓合在非鏤空區域的四周，掩膜框的作用是起到固定保護非鏤空區域不變形。要制備隔離柱時，必須將非鏤空區域和掩膜框分開，在非鏤空區域和掩膜框之間制備鏤空區域，此時非鏤空區域失去了固定定位和保護，制備出來的隔離柱的寬度不一，非鏤空區域還容易變形。

實用新型內容

為此，需要提供一種遮罩結構，解決遮罩結構制作出來的隔離柱的寬度不一，非鏤空區域還易變形的問題。

為實現上述目的，本實施例提供了一種遮罩結構，包括第一掩膜框、第二掩膜框和非鏤空區域；

所述第一掩膜框圍繞所述非鏤空區域，所述第一掩膜框和所述非鏤空區域具有間隔，所述第一掩膜框和所述非鏤空區域之間的間隔為鏤空區域；

所述第二掩膜框設置在所述第一掩膜框的頂部和所述非鏤空區域的頂部上，所述第二掩膜框圍繞所述非鏤空區域，所述第二掩膜框上設置開孔，所述開孔位于鏤空區域的上方，所述開孔用于作為薄膜材料沉積的通道。

進一步地，所述第二掩膜框呈現倒“凹”字形的形狀，所述開孔設置在倒“凹”字形的第二掩膜框中間的頂部。

進一步地，所述非鏤空區域的底部位于所述第一掩膜框的底部和所述第一掩膜框的頂部之間，所述第一掩膜框的底部內側壁用于圍繞襯底上的發光器件外側壁。

進一步地，所述非鏤空區域的厚度在0.1毫米以上，在0.3毫米以下；或者：

所述第一掩膜框的厚度在3毫米以上，在5毫米以下。