[實用新型]一種工藝設備有效
| 申請號: | 202120253417.4 | 申請日: | 2021-01-27 |
| 公開(公告)號: | CN214099642U | 公開(公告)日: | 2021-08-31 |
| 發明(設計)人: | 不公告發明人 | 申請(專利權)人: | 宣城睿暉宣晟企業管理中心合伙企業(有限合伙) |
| 主分類號: | H01L31/18 | 分類號: | H01L31/18;H01L21/67;H01L21/677;H01L21/683 |
| 代理公司: | 北京三聚陽光知識產權代理有限公司 11250 | 代理人: | 薛異榮 |
| 地址: | 242074 安徽省宣城市經濟*** | 國省代碼: | 安徽;34 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 工藝設備 | ||
1.一種工藝設備,包括工藝腔體,其特征在于,還包括:
冷卻單元,所述冷卻單元設置于所述工藝腔體的一側,所述冷卻單元包括冷卻板,所述冷卻板適于承載晶圓,所述晶圓適于制備太陽能電池;
第一傳輸單元,所述第一傳輸單元位于所述工藝腔體和所述冷卻單元之間,所述第一傳輸單元適于將所述晶圓從所述工藝腔體中傳輸至所述冷卻單元;
傳送帶,所述傳送帶設置于所述冷卻單元的一側;
第二傳輸單元,所述第二傳輸單元適于將所述晶圓由所述冷卻單元傳送至所述傳送帶上。
2.根據權利要求1所述的工藝設備,其特征在于,所述冷卻板中具有冷卻管道;
所述冷卻單元還包括:循環冷卻水箱,所述循環冷卻水箱適于給所述冷卻管道提供冷卻液。
3.根據權利要求2所述的工藝設備,其特征在于,所述冷卻板中開設若干第一通孔;所述冷卻單元還包括第一升降部件,所述第一升降部件包括:
位于所述冷卻板底部的第一升降托盤;
位于所述第一升降托盤上的第一頂針,所述第一頂針適于穿過所述第一通孔;
位于所述第一升降托盤底部的第一升降驅動件。
4.根據權利要求1所述的工藝設備,其特征在于,所述第一傳輸單元包括:
承載平臺;
位于所述承載平臺上的環形導軌和旋轉平臺,所述旋轉平臺適于在所述環形導軌上方沿著所述環形導軌運動;
設置在所述旋轉平臺上的線性導軌;
位于所述旋轉平臺上的第一機械手臂,所述第一機械手臂包括位于部分所述旋轉平臺上的滑動平臺以及與所述滑動平臺連接的插板,所述滑動平臺適于沿著所述線性導軌進行往復運動;
位于所述承載平臺下方的旋轉驅動件;
貫穿所述承載平臺的第一傳動軸,所述第一傳動軸的一端連接所述旋轉平臺,所述第一傳動軸的另一端連接旋轉驅動件;
位于所述承載平臺下方的滑動驅動件;
貫穿所述承載平臺和所述旋轉平臺的第二傳動軸,所述第二傳動軸的一端連接所述滑動驅動件,所述第二傳動軸的另一端連接所述滑動平臺。
5.根據權利要求4所述的工藝設備,其特征在于,所述旋轉平臺朝向所述環形導軌的底面具有與所述環形導軌嵌合的第一滑動件,所述第一滑動件為槽或者凸起;
所述第一機械手臂朝向所述線性導軌的底面具有與所述線性導軌嵌合的第二滑動件,所述第二滑動件為槽或者凸起。
6.根據權利要求1所述的工藝設備,其特征在于,所述第二傳輸單元包括第二機械手臂和設置于所述第二機械手臂底部的吸附件,所述吸附件適于吸附經過所述冷卻單元冷卻之后的所述晶圓。
7.根據權利要求6所述的工藝設備,其特征在于,所述吸附件的數量為若干個,若干個所述吸附件適于同時吸附經過所述冷卻單元冷卻之后的多個所述晶圓。
8.根據權利要求1-7任一項所述的工藝設備,其特征在于,所述工藝腔體為化學氣相沉積工藝腔體。
9.根據權利要求1-7任一項所述的工藝設備,其特征在于,所述晶圓適于由工藝載板直接支撐,所述工藝載板中設置有若干個凹槽,所述晶圓適于放置于所述凹槽內;所述第一傳輸單元適于將所述工藝載板和所述晶圓從所述工藝腔體中一并傳輸至所述冷卻單元,所述第一傳輸單元傳輸所述晶圓的過程中適于位于所述工藝載板的底部。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L31-00 對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射,或微粒輻射敏感的,并且專門適用于把這樣的輻射能轉換為電能的,或者專門適用于通過這樣的輻射進行電能控制的半導體器件;專門適用于制造或處理這些半導體器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半導體本體為特征的
H01L31-04 .用作轉換器件的
H01L31-08 .其中的輻射控制通過該器件的電流的,例如光敏電阻器
H01L31-12 .與如在一個共用襯底內或其上形成的,一個或多個電光源,如場致發光光源在結構上相連的,并與其電光源在電氣上或光學上相耦合的





