[實用新型]一種回流槽、配合結構及電鍍生產線

有效

• 申請號: 202120062022.6
• 申請日: 2021-01-11
• 公開（公告）號: CN214655322U
• 公開（公告）日: 2021-11-09
• 發明（設計）人: 韓友生;方志斌;袁曉波
• 申請（專利權）人: 昆山東威科技股份有限公司
• 主分類號: C25D17/02
• 分類號: C25D17/02;C25D21/10;C25D19/00;C25D21/06
• 代理公司: 北京三聚陽光知識產權代理有限公司 11250
• 代理人: 張樂樂

1.一種回流槽，其特征在于，包括：

槽體(2)，所述槽體(2)內設有第一板(3)，以將所述槽體(2)的內腔分隔為并排的第一回流腔(4)和過板通道(5)，所述過板通道(5)沿其長度方向的兩端貫穿所述槽體(2)相對的兩個側壁，對應在所述槽體(2)的所述兩個側壁上分別形成第一進口(6)和第一出口(7)，以供工件通過所述過板通道(5)；

所述第一板(3)上設有至少一個第一過液口(8)，以將所述過板通道(5)與所述第一回流腔(4)連通。

2.根據權利要求1所述的回流槽，其特征在于，還包括設在所述槽體(2)內的第二板(9)，所述第二板(9)與所述第一板(3)相對分布，所述第一板(3)和所述第二板(9)之間形成所述過板通道(5)，所述第二板(9)與所述槽體(2)之間圍成第二回流腔(10)，所述第二回流腔(10)和所述第一回流腔(4)并排分布在所述過板通道(5)的兩側；

所述第二板(9)上設有至少一個第二過液口(11)，以將所述過板通道(5)與所述第二回流腔(10)連通。

3.根據權利要求2所述的回流槽，其特征在于，

在所述第一回流腔(4)和/或所述第二回流腔(10)內設有至少一個阻流件(12)，所述阻流件(12)將各自所在的回流腔分隔成至少兩個支腔體，所述支腔體對應的所述第一板(3)或第二板(9)上設有至少兩個過液口，每個所述支腔體對應至少一個過液口。

4.根據權利要求3所述的回流槽，其特征在于，相鄰兩個所述支腔體的過液口，靠近所述第一進口(6)的過液口高于靠近所述第一出口(7)的過液口。

5.根據權利要求3或4所述的回流槽，其特征在于，所述阻流件(12)呈板塊。

6.根據權利要求1-4中任一項所述的回流槽，其特征在于，所述過板通道(5)包括位于下方的第一通道(13)和位于上方的第二通道(14)，所述第一通道(13)的寬度小于所述第二通道(14)的寬度。

7.根據權利要求6所述的回流槽，其特征在于，所述第一通道(13)的底部與所述第二通道(14)的頂部之間通過由上向下傾斜的過渡通道連接。

8.根據權利要求1-4中任一項所述的回流槽，其特征在于，所述回流槽(1)的第一進口(6)所在的側壁或第一出口(7)所在的側壁上設有回流口(15)；

所述回流口(15)位于各自對應的第一進口(6)或第一出口(7)的下方。

9.一種回流槽與電鍍槽的配合結構，其特征在于，包括

至少一個電鍍槽(16)，具有電鍍腔；

在每一所述電鍍槽(16)的兩端均設置有至少一個回流槽(1)，所述回流槽(1)為如權利要求1-8中任一項所述的回流槽(1)，任一所述回流槽(1)的所述過板通道(5)與所述電鍍槽(16)的電鍍腔密封連通設置。

10.根據權利要求9所述的回流槽與電鍍槽的配合結構，其特征在于，還包括設在每一所述電鍍槽(16)內的一噴淋機構，所述噴淋機構用于向各自所對應的槽內噴淋溶液，以使各個槽內的溶液處于流動狀態；及兩端與所述電鍍腔和所述噴淋機構連接的循環機構。

11.一種電鍍生產線，其特征在于，包括

至少一個權利要求9或10所述的回流槽與電鍍槽的配合結構；及

輸送機構，用于驅動工件沿豎向延伸且水平方向移動以穿過所述配合結構中的回流槽(1)和電鍍槽(16)。