[發明專利]水波紋處理方法、裝置、存儲介質及電子設備在審
| 申請號: | 202111658246.4 | 申請日: | 2021-12-30 |
| 公開(公告)號: | CN116416353A | 公開(公告)日: | 2023-07-11 |
| 發明(設計)人: | 祝銳 | 申請(專利權)人: | 天津亞克互動科技有限公司 |
| 主分類號: | G06T13/60 | 分類號: | G06T13/60;G06T15/00;G06T15/04 |
| 代理公司: | 北京中強智尚知識產權代理有限公司 11448 | 代理人: | 賈依嬌 |
| 地址: | 300000 天津市濱海新區*** | 國省代碼: | 天津;12 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 水波 處理 方法 裝置 存儲 介質 電子設備 | ||
1.一種水波紋處理方法,其特征在于,包括:
獲取當前虛擬場景中虛擬對象信息,所述虛擬對象信息包括骨骼模型,所述骨骼模型預先標記有發力骨骼,所述發力骨骼為所述骨骼模型中可以產生對水面的作用力的骨骼;
根據所述發力骨骼與水面各個點的距離,確定出所述發力骨骼對于水面各個點的水波紋作用力;
根據所述水波紋作用力,確定水波紋高度圖;
根據所述水波紋高度圖,對預先獲取的水波紋貼圖進行水波紋傳播計算,得到水波紋圖像。
2.根據權利要求1所述的方法,其特征在于,所述根據所述發力骨骼與水面各個點的距離,確定出所述發力骨骼對于水面各個點的水波紋作用力包括:
根據所述發力骨骼的起始端節點和末端節點,計算水面任一點與所述發力骨骼的投影距離,其中,所述發力骨骼上標記有起始端節點和末端節點;
確定所述發力骨骼對于所述任一點的所述水波紋作用力與所述投影距離成反比。
3.根據權利要求2所述的方法,其特征在于,所述根據所述起始端節點和末端節點,計算水面任一點與所述發力骨骼的投影距離包括:
確定所述投影距離為:P-Dot(D0,D1)*D1,其中,P為水面任一點坐標,D0為P點到發力骨骼的末端節點的距離,D1為發力骨骼的末端節點與起始端節點的距離,Dot()是點乘函數。
4.根據權利要求1所述的方法,其特征在于,所述根據所述發力骨骼與水面各個點的距離,確定出所述發力骨骼對于水面各個點的水波紋作用力包括:
獲取針對所述虛擬對象預先設定的水面交互屬性及初始值,所述水面交互屬性包括水面擾動半徑和水面交互作用力;
根據所述水面擾動半徑初始值,確定水面擾動范圍;
針對所述水面擾動范圍內的水面各個點,計算每個點與發力骨骼的距離,根據所述水面交互作用力初始值以及所述距離,確定所述發力骨骼對于水面各個點的水波紋作用力。
5.根據權利要求1所述的方法,其特征在于,還包括:
判斷所述發力骨骼與水面是否接觸,若是,將接觸點作為環狀力中心點;
以所述環狀力中心點,擾動所述水波紋作用力的強度。
6.根據權利要求5所述的方法,其特征在于,所述以所述環狀力中心點,擾動所述水波紋作用力的強度,包括:
計算水波紋作用力強度F為:
F=saturate(abs(Distance(P,C)-r)/W),
其中,P是水面任一點坐標,C是所述接觸點坐標,r是預先為所述發力骨骼設置的影響半徑,W為環狀力的環的寬度,Distance(P,C)為P點與C點的距離函數,abs()是求絕對值的函數,saturate()為歸一化函數。
7.根據權利要求6所述的方法,其特征在于,所述根據所述水波紋作用力,確定水波紋高度圖,包括:
針對當前像素點,計算周圍的像素高度的差值;
根據所述像素高度的差值以及所述水波紋作用力的強度,計算水波紋高度圖中當前像素值。
8.根據權利要求1所述的方法,其特征在于,還包括:
判斷所述發力骨骼的運動速度的變化趨勢,如果趨勢為速度加快,則增加所述水波紋作用力的強度,如果趨勢為速度減慢,則降低所述水波紋作用力的強度。
9.根據權利要求1所述的方法,其特征在于,還包括:
根據預先設置的距離影響因子,控制水波紋的衰減。
10.根據權利要求9所述的方法,其特征在于,所述根據預先設置的距離影響因子,控制水波紋的衰減,包括:
判斷水面各個水波紋距離所述虛擬對象的距離;
根據所述距離影響因子,控制與所述虛擬對象較近的水波紋減緩衰減,控制與所述虛擬對象較遠的水波紋加速衰減。
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